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基片清洗系统原理图结构 基片清洗方法 基片清洗技术【小套】

点击数: 更新时间:2021-04-17 17:38
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资料编号:ZL-11623
资料价格:198元

1 叶片式基片清洗方法及其装置
2 叶片式基片清洗方法及其装置
3 半导体基片的清洗方法、清洗系统和制造清洗液的方法
4 清洗金属污染的晶片基片同时保持晶片的光滑性的方法
5 基片清洗方法及装置
6 基片清洗方法和基片清洗液
7 基片清洗装置
8 叶片式基片清洗方法及其装置
9 使用二氧化碳清洗和/或处理基片的方法和设备
10 聚焦电位器基片的清洗方法
11 基片清洗装置和清洗方法
12 基片清洗用二流体喷射模块及利用其的基片清洗装置
13 基片存放容器的干式清洗装置
14 湿式清洗装置及基片清洗方法
15 OLED玻璃基片清洗系统及其清洗方法
16 OLED玻璃基片清洗设备及其清洗方法
17 一种基片清洗装置
18 陶瓷基片清洗夹具
19 一种用于清洗玻璃基片的超声清洗夹具
20 OLED玻璃基片清洗设备
21 OLED玻璃基片清洗系统
22 使用双相基片清洗混合物的方法和系统
23 清洗基片的方法与装置
24 刷组件以及具有该刷组件的基片清洗装置
25 基片容器的清洗系统
26 真空蒸镀制合金薄膜用SiO2</sub>基片清洗方法
27 圆形基片的抛光、清洗装置和方法
28 LED砷化镓衬底基片去蜡清洗剂
29 计算机硬盘基片抛光后用的清洗剂组合物
30 氮化铝基片的快速超精密抛光浆料及抛光清洗加工方法
31 无水迹基片清洗干燥装置
32 可避免超声清洗镀膜玻璃基片烘干水印的烘干装置
33 基片清洗容器

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1、资料格式:资料全部为PDF格式文件,可复制到电脑自由阅读、打印,也可以用手机阅读,方便快捷,没有任何限制,所有文件均保证正常打开。

2、资料说明:资料都是国家专利文献原版全文内容,含技术背景/原理、材料配方比例、制作方法、工艺步骤、技术关键、结构设计图(部分设备类有),以及发明人姓名、地址/邮编、申请日期、专利号、权利要求等详细信息。每一项专利文献的内容详略都是不同的,平均每一项4-10页,多的有几十页的。

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