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晶片清洗方法 晶片清洗机原理结构图 半导体晶片清洗装置加工技术【小套】

点击数: 更新时间:2021-04-17 17:38
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资料编号:ZL-11642

资料价格:198元

1 用于清洗晶片的清洗水和清洗晶片的方法
2 半导体晶片的清洗方法
3 晶片清洗装置
4 晶片清洗系统
5 在制造半导体器件过程中清洗半导体晶片的波形花纹结构的方法
6 晶片容器清洗设备
7 用于清洗半导体晶片的装置和方法
8 半导体晶片清洗装置
9 半导体晶片清洗装置
10 清洗晶片用的设备
11 半导体晶片清洗装置
12 半导体晶片清洗剂及其清洗方法
13 清洗金属污染的晶片基片同时保持晶片的光滑性的方法
14 晶片表面清洗装置及方法
15 改进的清洗和干燥半导体晶片的装置及方法
16 特超声清洗半导体晶片中的去离子水温控去气
17 外延晶片、其制造方法和化合物半导体衬底的表面清洗方法
18 大晶片清洗装置
19 硅晶片研磨之后的清洗工艺
20 原位晶片清洗方法
21 用于清洗半导体晶片的装置和方法
22 用于在半导体处理反应器中各次清洗之间增大晶片处理量的装置和方法
23 半导体晶片清洗装置和方法
24 清洗晶片用的盛器
25 晶片清洗和蒸汽干燥系统和方法
26 清洗半导体晶片的方法和装置
27 半导体晶片兆赫声波清洗用去离子水的控温充气
28 半导体晶片的清洗方法与系统
29 清洗半导体晶片的方法及其所采用的清洗系统
30 半导体晶片的清洗方法
31 晶片的清洗方法
32 控制单晶片清洗系统的电化腐蚀效应的设备和方法
33 半导体晶片的清洗方法和清洗装置
34 晶片清洗方法与设备
35 旋转式硅晶片清洗装置
36 半导体晶片清洗系统以及清洗方法
37 半导体晶片的清洗液及清洗方法
38 半导体晶片的清洗方法
39 晶片的清洗方法以及栅极结构的制造方法
40 移除阻挡层后的无晶片自动清洗
41 单晶片清洗装置及其清洗方法
42 清洗剂组合物、半导体晶片的清洗和制造方法、以及半导体晶片
43 采用臭氧清洗半导体晶片表面的装置和方法
44 一种砷化镓晶片清洗方法
45 晶片承载器清洗系统
46 清洗和干燥晶片的方法及装置
47 晶片清洗及干燥装置
48 半导体晶片的新型清洗方法
49 清洗晶片的方法
50 晶片洁净装置的晶片保护系统以及晶片清洗工艺
51 晶片清洗工艺以及形成开口的方法
52 晶片清洗装置及其清洗方法
53 一种精密抛光晶片用有机物清洗液
54 用于半导体晶片清洗的缓蚀剂体系
55 太阳能硅晶片清洗剂
56 化学机械研磨后的晶片清洗方法
57 半导体晶片的清洗溶液及内连线结构的形成方法
58 晶片清洗装置
59 一种晶片清洗方法
60 石英晶片的清洗方法及清洗装置
61 金刚石线切割硅晶片的清洗方法
62 晶片清洗机
63 自动取料的晶片清洗机
64 一种晶片清洗装置
65 晶片防碎清洗架
66 一种晶片频率腐蚀及清洗装置
67 石英晶片的清洗装置
68 晶片清洗夹具
69 清洗晶片边缘的装置
70 晶片电子器件的清洗干燥方法及装置
71 蚀刻用的高压无晶片自动清洗
72 用于清洗衬底表面的晶片清洗组件及其方法
73 增强的晶片清洗方法
74 晶片清洗回收方法
75 用于将半导体晶片清洗、干燥和亲水化的方法
76 一种半导体晶片与吸盘表面清洗打磨装置
77 晶片清洗方法
78 生成超声振动的装置与方法及用其清洗晶片的装置与方法
79 半导体晶片表面的清洗方法
80 化学机械研磨方法及晶片清洗方法
81 用于清洗半导体晶片的方法和装置
82 一种薄半导体晶片清洗干燥装置
83 用于湿法清洗设备的混合复合材料晶片托架
84 晶片清洗装置及清洗方法
85 一种砷化镓晶片抛光后的清洗方法及甩干机
86 一种清洗晶片容器的方法
87 避免产生掉落性微粒的晶片清洗方法
88 晶片清洗设备
89 化学机械研磨后的晶片清洗方法
90 碲隔汞晶片溶剂溶液的自动化动态清洗装置及方法
91 抛光机晶片在线清洗装置
92 晶片双流体清洗装置
93 用于清洗晶片的方法以及组合物
94 用于晶片表面处理的织构化和清洗剂及其应用
95 超高真空离子源晶片清洗系统
96 半导体晶片的清洗方法以及清洗装置
97 一种清洗碳化硅晶片表面污染物的方法
98 晶片防碎清洗架
99 晶片堆的清洗
100 晶片清洗方法及载具
101 人造石英晶片电清洗方法
102 用于对晶片焊盘表面进行清洗的方法
103 用于清洗晶片的摇摆清洗装置
104 化合物半导体晶片清洗方法
105 晶片清洗装置及晶片清洗方式
106 晶片清洗方法与清洗装置
107 一种精密抛光晶片用有机物清洗液
108 清洗晶片的方法
109 晶片清洗装置
110 晶片清洗控制装置和晶片清洗控制方法
111 晶片清洗机
112 晶片清洗设备的清洗刷夹持装置
113 表面贴装二极体晶片焊接后清洗夹具
114 具有改良型夹具的晶片清洗机台
115 半导体晶片与吸盘表面清洗打磨装置
116 晶片清洗装置
117 晶片清洗机
118 一种晶片清洗干燥架
119 一种改良的薄半导体晶片清洗干燥装置
120 晶片清洗设备
121 碲隔汞晶片溶剂溶液自动化清洗的动态装置
122 超高真空离子源晶片清洗系统
123 用于清洗晶片的摇摆清洗装置
124 晶片清洗设备
125 晶片清洗自动脱水机
126 一种酸翻涌清洗晶片装置
127 晶片清洗及干燥花篮

温馨提示

1、资料格式:资料全部为PDF格式文件,可复制到电脑自由阅读、打印,也可以用手机阅读,方便快捷,没有任何限制,所有文件均保证正常打开。

2、资料说明:资料都是国家专利文献原版全文内容,含技术背景/原理、材料配方比例、制作方法、工艺步骤、技术关键、结构设计图(部分设备类有),以及发明人姓名、地址/邮编、申请日期、专利号、权利要求等详细信息。每一项专利文献的内容详略都是不同的,平均每一项4-10页,多的有几十页的。

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