资料价格：298元

1 用于铁电薄膜的金属有机化学气相沉积和退火处理
2 由化学气相沉积法沉积的有机聚合物抗反射涂层
3 紫外光子复合辉光放电化学气相沉积制备金刚石薄膜的方法
4 在原子层沉积过程中使寄生化学气相沉积最小化的装置和原理
5 提高电子回旋共振化学气相沉积速度的方法及装置
6 硅锗/硅的化学气相沉积生长方法
7 有机金属化学气相沉积工艺过程流出物的原地空气氧化处理
8 用于优先化学气相沉积的方法和系统
9 等离子体辅助化学气相沉积装置脉冲电源的驱动电路
10 化学气相沉积的排气处理回收的方法及装置
11 一种化学气相沉积球形还原铁
12 钨金属化学气相沉积法中原子层沉积的方法
13 液相源雾化微波等离子体化学气相沉积制备薄膜的方法
14 增强有机金属化学气相沉积薄膜的装置及方法
15 适用于低温热化学气相沉积合成纳米碳管的负载金属触媒及使用此触媒的纳米碳管合成方法
16 用于形成金属氧化物薄膜的使用醇的化学气相沉积法
17 用以制造半导体装置的化学气相沉积设备的喷头
18 固体源化学气相沉积生长ZnO薄膜的方法
19 金刚相碳管及其化学气相沉积制造方法
20 一种大面积高速度热丝化学气相沉积金刚石的方法及设备
21 一种除去沉积在化学气相沉积反应器反应室内的不须要的碳产物的方法
22 在锡槽中的浮法玻璃上化学气相沉积氧化锡
23 氧化铋的化学气相沉积
24 弧光放电化学气相沉积金刚石薄膜的方法
25 双直流等离子体化学气相沉积装置
26 粘结剂富集的有化学气相沉积和物理气相沉积涂覆的切削刀具
27 化学气相沉积金刚石涂层硬质合金工具新工艺
28 化学气相沉积法碳化硅连续纤维用碳芯的制备方法
29 韧化的化学气相沉积金刚石
30 一种激光化学气相沉积金刚石膜的方法
31 射频化学气相沉积法合成β-C3</sub>N4</sub>超硬薄膜材料
32 选择性化学气相沉积形成铝接触栓的方法
33 低压化学气相沉积Ta2</sub>O5</sub>的低漏电流薄膜的制作方法
34 低压化学气相沉积氧化钛簿膜的低漏电流电极的制作方法
35 等离子体化学气相沉积装置
36 微波等离子体化学气相沉积合成晶相碳氮薄膜
37 一种复合激光化学气相沉积金刚石膜的方法
38 工业型脉冲直流等离子体化学气相沉积工模具表面强化设备
39 高密度等离子体化学气相沉积制造介电防反射涂层的方法
40 一种等离子化学气相沉积镀膜方法和设备
41 化学气相沉积室钝化方法
42 化学气相沉积与渗透工艺先驱体监控方法与设备
43 以化学气相沉积制备有精确折射率分布的预成形物的方法
44 用于非晶态硅和形成的薄膜的化学气相沉积法
45 化学气相沉积装置和化学气相沉积方法
46 化学气相沉积两步法制备大面积硼化镁超导薄膜工艺
47 从钽卤化物前体得到的热化学气相沉积钽氮化物膜的等离子体处理方法
48 自钽卤化物前体获得整体式的钽和钽氮化物膜的化学气相沉积方法
49 从钽卤化物前体得到的钽氮化物膜的等离子增强的化学气相沉积方法
50 光子－热丝化学气相沉积生长大面积金刚石薄膜的方法
51 回旋电子增强热丝化学气相沉积制备金刚石薄膜的方法
52 多晶硅化学气相沉积方法和装置
53 用烷基硅氧烷低聚物和臭氧化学气相沉积氧化硅薄膜
54 化学气相沉积设备
55 化学气相沉积系统的捕气装置
56 化学气相沉积反应室的气体分配器的清洗方法
57 采用改进的化学气相沉积制备大容量光纤预制件的方法
58 一种改进的化学气相沉积装置
59 使用有机金属源试剂的化学气相沉积过程的流出物的消除
60 使用配体交换耐蚀金属有机前体溶液的化学气相沉积过程的流出物的消除
61 MgB2</sub>超导薄膜的原位热丝化学气相沉积制备方法
62 化学气相沉积室的清洁方法
63 等离子化学气相沉积炉
64 双温场化学气相沉积装置
65 化学气相沉积的设备
66 低电阻率钌层的低温化学气相沉积
67 硫属化物材料的化学气相沉积
68 高温化学气相沉积设备
69 磁场辅助化学气相沉积法
70 金属有机物化学气相沉积设备的反应腔体
71 金属有机物化学气相沉积设备反应腔的加热系统
72 用于在高纵横比空间中进行化学气相沉积的方法
73 一种采用化学气相沉积法批量制备竹节状碳纳米管的方法
74 化学气相沉积设备反应室的清洗工艺
75 直流等离子体化学气相沉积设备
76 硅基电介质的化学气相沉积方法
77 增加等离子体增强化学气相沉积电介质薄膜压应力的方法
78 用于化学气相沉积装置的保温器
79 含金属-硅的薄膜的循环化学气相沉积
80 金属有机化学气相沉积制备膨润土负载TiO2</sub>催化剂的方法
81 制氟碳阳极化学气相沉积热解碳抗极化涂层制备方法
82 氮化硅的化学气相沉积方法
83 一种实时测量并控制增重速率的化学气相沉积装置及方法
84 化学气相沉积辅助固相法合成LiFePO4</sub>/C材料的方法
85 用于在容器内部进行等离子体增强型化学气相沉积(PECVD)内阻挡层的装置
86 用作化学气相沉积的前体的有机硅组合物的纯化方法
87 用工业纯原料气进行等离子化学气相沉积的涂层方法与设备
88 用等离子体增强的化学气相沉积法沉积垂直方向电阻的方法
89 用于金属有机化学气相沉积系统中的加热装置
90 热梯度化学气相沉积法制备炭/炭复合材料厚壁板材
91 用于金属有机化学气相沉积设备的双层进气喷头
92 用于金属有机化学气相沉积设备的楔形反应管
93 能防止污染并提高膜生长速率的化学气相沉积方法和设备
94 化学气相沉积处理装置
95 纳米二氧化硅的化学气相沉积制备方法
96 在乏硅环境下使用等离子增强化学气相沉积制程的金属栅极的氮氧间隔体的形成方法
97 倒置化学气相沉积(CVD)的装置
98 直流辉光等离子体化学气相沉积方法制备碳纳米管的工艺
99 化学气相沉积法制备洋葱状富勒烯
100 等离子体增强式化学气相沉积处理方法
101 多沉积步骤的高浓度等离子化学气相沉积方法
102 等离子体外部化学气相沉积用多火炬-多靶方法和设备
103 热梯度化学气相沉积法制备炭/炭复合材料
104 制备纳米金刚石薄膜的辅助栅极热丝化学气相沉积法
105 降低化学气相沉积掺杂磷氧化层表面缺陷的方法
106 用低能量等离子体增强化学气相沉积法形成高迁移率硅锗结构
107 化学气相沉积装置
108 在基底上进行电晕致化学气相沉积
109 低压化学气相沉积设备中减少微粒的方法
110 直流电弧等离子体化学气相沉积装置及金刚石涂层方法
111 制造预制体的等离子体化学气相沉积装置和方法
112 金属有机化学气相沉积和原子层沉积
113 等离子体化学气相沉积系统及涂覆衬底两侧的方法
114 采用金属有机化学气相沉积法制备功能梯度材料的方法
115 制备用于化学气相沉积的汽化反应物的方法和装置
116 物理场作用下化学气相沉积快速制备炭／炭复合材料的方法
117 监控化学气相沉积前腔体洁净度的方法
118 连续化学气相沉积工艺和加工炉
119 由热化学气相沉积制造氮化硅薄膜和氮氧化硅薄膜的方法
120 一种碳化硅纳米管的化学气相沉积制备方法
121 化学气相沉积过程中的介观尺度温区温度稳定方法
122 在复杂形状刀具上制备金刚石薄膜的化学气相沉积方法
123 化学气相沉积法制备硅化钛纳米线的方法
124 保形性、应力和化学气相沉积层成分独立可变的甚低温化学气相沉积工艺
125 保形性、应力和化学气相沉积层成分独立可变的甚低温化学气相沉积工艺
126 用改良的化学气相沉积法制备光纤预型体的方法
127 化学气相沉积设备
128 一种化学气相沉积装置及其沉积方法
129 碳氟氧基础化学的使用远端源的化学气相沉积室清洁方法
130 金属有机化学气相沉积形成Cu2</sub>S
131 具有化学气相沉积的喷嘴板的热喷墨机
132 用于大区域等离子体加强化学气相沉积的气体扩散喷头
133 一种化学气相沉积固态先驱体供给设备
134 具有较佳沉积再现性的等离子体增强化学气相沉积膜层
135 一种p型ZnO薄膜的金属有机物化学气相沉积制备方法
136 用于制备光纤预型体的改进的化学气相沉积设备
137 用于沉积钽基材料的化学气相沉积母体
138 以Ni/Al催化剂化学气相沉积制备碳纳米管和碳洋葱的方法
139 直流辉光等离子体化学气相沉积氧化锌薄膜的系统及制备工艺
140 高密度电浆化学气相沉积制程及改善膜厚均匀性的方法
141 等离子体化学气相沉积设备及用它制造半导体器件的方法
142 大气压平面放电化学气相沉积纳米颗粒膜方法及装置
143 具有检测反应室状态功能的化学气相沉积装置及检测方法
144 通过化学气相沉积封装磷光体的方法
145 金属有机物化学气相沉积设备反应室中的反烘烤沉积结构
146 紫外(UV)和等离子体辅助金属有机化学气相沉积(MOCVD)系统
147 用于制造多层高温超导(HTS)涂布带的金属有机化学气相沉积(MOCVD)法以及设备
148 一种防止高密度等离子体化学气相沉积对金属损伤的方法
149 生长氧化物薄膜的金属有机物化学气相沉积反应室结构
150 形成高密度电浆化学气相沉积的前金属介电层的方法
151 一种低温化学气相沉积制备氮化硅薄膜的方法
152 常压化学气相沉积法制备的硅化钛纳米钉及其制备方法
153 辉光放电产生的化学气相沉积
154 对单晶化学气相沉积金刚石进行退火
155 化学气相沉积反应器
156 使用高密度等离子体化学气相沉积填充缝隙的方法和沉积材料的方法
157 避免反应室粒子污染的化学气相沉积方法
158 催化剂增强化学气相沉积设备
159 化学气相沉积设备
160 化学气相沉积装置及其方法
161 常压化学气相沉积法制备的硅化钛纳米线簇及其制备方法
162 钽和铌化合物及其用于化学气相沉积(CVD)的应用
163 钽喷丝头表面化学气相沉积金刚石薄膜强化方法
164 以Ni/RE/Cu催化剂化学气相沉积制备碳纳米管的方法
165 次常压化学气相沉积技术形成无缝浅沟渠绝缘区域的工艺
166 氮化硅的热化学气相沉积
167 双频率偏压化学气相沉积室和用其制造光掩模的方法
168 由单步金属有机化学气相沉积制造的掩埋式异质结构器件
169 等离子增强化学气相沉积装置
170 化学气相沉积高温炉用的水冷却炉壁
171 用于无定型碳膜的化学气相沉积的液体前驱体
172 高密度电浆化学气相沉积反应器及方法
173 化学气相沉积法制备薄膜的装置
174 介质阻挡放电等离子体热丝化学气相沉积的方法与装置
175 金属氧化物的等离子体增强化学气相沉积
176 化学气相沉积装置
177 双加热装置及其化学气相沉积法制备多层超导薄膜工艺
178 在化学气相沉积系统中绕过阻滞板分配气体
179 利用金属-有机化学气相沉积形成碳纤维的方法
180 用于等离子体增强化学气相沉积应用的加热气体盒
181 等离子辅助反应热化学气相沉积法制备微晶硅锗薄膜
182 PA-SiN的化学气相沉积法
183 有机金属化学气相沉积法用溶液原料及使用该原料制作的复合氧化物类电介质薄膜
184 真空感应化学气相沉积/渗透系统分布式控制装置
185 用于平板显示器的化学气相沉积设备
186 用于平板显示器的化学气相沉积设备
187 等离子体化学气相沉积装置及等离子体表面处理方法
188 电浆辅助化学气相沉积装置及方法
189 在热化学气相沉积工艺中沉积钌金属层的方法
190 通过在晶片上进行化学气相沉积的热氧化物形成装置和方法
191 由等离子体增强的化学气相沉积的多层涂层
192 化学气相沉积反应器
193 常温常压下等离子体化学气相沉积制备纳米晶TiO2</sub>薄膜的方法
194 由等离子体增强化学气相沉积的耐磨涂层
195 金属有机化学气相沉积法用原料液以及使用该原料液制备含Hf-Si的复合氧化物膜的方法
196 一种用于化学气相沉积工业炉尾气净化的装置
197 化学气相沉积设备的清洁方法
198 以等离子体增强化学气相沉积制造具低应力的低K值介电质的低温工艺
199 利用化学气相沉积法以粘性前驱物沉积功能性梯度介电膜层的方法及系统
200 用于燃烧化学气相沉积的基板温度控制
201 带有射频加热的处理腔的化学气相沉积反应器
202 一种基于化学气相沉积制备碳纳米管阵列的方法
203 金属有机化学气相沉积生长m面或a面ZnO薄膜的方法
204 执行等离子化学气相沉积工艺的设备和制造光纤的方法
205 用于化学气相沉积反应器的多气体分配喷射器
206 化学气相沉积装置与聚对二甲苯薄膜的形成方法
207 集成有原子层沉积工艺的化学气相沉积方法及设备
208 一种外加热方式的金属有机化学气相沉积系统反应腔
209 化学气相沉积炉
210 采用金属源化学气相沉积技术制备极性可控氧化锌的方法
211 利用等离子体增强化学气相沉积来沉积共形无定形碳膜层的方法
212 使用化学气相沉积钝化的硅蚀刻
213 使用光解和/或热化学气相沉积法涂布容器内部的系统、设备和方法
214 用于膜粗糙度控制的非化学计量化学气相沉积电介质膜表面钝化方法
215 一种用于硅薄膜电池陷光结构研究的化学气相沉积设备
216 一种化学气相沉积制备单层和多层石墨烯的方法
217 化学气相沉积的装置和方法
218 具有升温气体注入的化学气相沉积
219 一种基于化学气相沉积的高温原子透析制备石墨烯的方法
220 化学气相沉积SiC/C梯度表面涂层提高石墨电极抗氧化性的方法
221 化学气相沉积用原料及使用了该原料的含硅薄膜形成方法
222 添加前体至氧化硅化学气相沉积以增进低温间隙填充的方法
223 单腔体多载片离子增长型化学气相沉积装置
224 基座以及包括该基座的化学气相沉积装置
225 用于光伏和其它低温化学气相沉积工艺的硅薄膜的分子氟蚀刻
226 氧化物薄膜生长用金属有机物化学气相沉积反应室
227 化学气相沉积法制备石墨烯的高质量转移方法
228 一种化学气相沉积炉预热装置
229 一种高效提纯化学气相沉积法制备的单壁碳纳米管的方法
230 一种用聚苯乙烯固态碳源低温化学气相沉积生长大面积层数可控石墨烯的方法
231 自诱导化学气相沉积法制备氧化钛纳米线的方法
232 热化学气相沉积反应器以及提高反应器中热辐射率的方法
233 用于金属有机化合物化学气相沉积设备的喷淋装置
234 一种气相沉积用多层制品支架及化学气相沉积反应室
235 高效外延化学气相沉积（CVD）反应器
236 用于金属化学气相沉积设备反应室的进气喷淋头
237 摩擦学结合耐腐蚀性：物理气相沉积和等离子体辅助化学气相沉积涂层新家族
238 化学气相沉积设备
239 快速循环流化床化学气相沉积制备多晶硅的设备及方法
240 化学气相沉积法结合热喷镀法制造高性能纳米导电玻璃
241 含金属-硅的薄膜的循环化学气相沉积
242 一种化学气相沉积过程的三维模拟方法
243 一种金属有机化学气相沉积反应系统
244 喷嘴设备和化学气相沉积反应器
245 化学气相沉积法制备氮化硼纤维织物界面层的制备工艺
246 真空感应化学气相沉积炉测温热电偶的转接器
247 聚合物膜在基底上的化学气相沉积方法及装置
248 等离子体增强化学气相沉积方法
249 一种连续制备二维纳米薄膜的化学气相沉积设备
250 通过UV-辅助的化学气相沉积在聚合物基底上沉积掺杂的ZnO薄膜
251 化学气相沉积设备以及化学气相沉积设备的温度控制方法
252 改进的化学气相沉积工艺用新型排气管
253 光化学气相沉积设备
254 光化学气相沉积设备的光透过窗口装置
255 化学气相沉积金刚石聚晶金刚石复合型金刚石制品
256 偏心进气化学气相沉积炉
257 一种化学气相沉积碳化硅纤维的反应器
258 一种热丝化学气相沉积金刚石的设备
259 化学气相沉积金刚石均质喷嘴
260 一种电感耦合射频等离子体辅助钨丝加热制备薄膜的化学气相沉积装置
261 一种化学气相沉积设备
262 三重气流金属有机物化学气相沉积设备反应腔体
263 热灯丝化学气相沉积装置中的加热器
264 制备碳纳米管薄膜的等离子体增强光热化学气相沉积设备
265 水平式快速加热化学气相沉积系统使用的石英衬底支架
266 用于化学气相沉积法生产微纳米碳材料的电热箱式炉
267 金属有机化学气相沉积大面积氧化锌透明导电膜反应器
268 化学气相沉积硫化锌系统中的除尘过滤装置
269 化学气相沉积方法制备硒化锌系统中剧毒尾气的处理装置
270 强电流直流电弧等离子体化学气相沉积装置
271 等离子增强热丝化学气相沉积薄膜装置
272 化学气相沉积室的多区域加热台座
273 化学气相沉积设备
274 一种用于金属有机物化学气相沉积的真空处理系统
275 管道连接器和应用所述管道连接器的化学气相沉积设备
276 用于化学气相沉积设备的连接管道
277 一种化学气相沉积炉用反应室
278 化学气相沉积设备
279 用于等离子体增强化学气相沉积设备的多腔室气路系统
280 用于化学气相沉积设备的射频电源连接机构
281 低压化学气相沉积反应设备
282 用于化学气相沉积的供气管和反应装置
283 一种化学气相沉积炉
284 一种金属有机物化学气相沉积设备放空压力控制装置
285 一种金属有机物化学气相沉积设备的中央支柱
286 一种热丝化学气相沉积设备
287 非晶硅薄膜化学气相沉积吹扫装置
288 大容积等离子化学气相沉积反应腔的抽真空系统
289 非晶硅薄膜化学气相沉积系统
290 电阻化学气相沉积炉引电极密封装置
291 用于等离子体化学气相沉积装置的控制系统
292 双波纹管结构的化学气相沉积设备
293 等离子辅助化学气相沉积设备
294 一种化学气相沉积尾气处理装置
295 一种用于化学气相沉积的储气罐水浴加热装置
296 真空化学气相沉积装料盒
297 以单一晶圆式化学气相沉积的反应器连续形成氧化物/氮化物/氧化物绝缘层的制造方法
298 化学气相沉积涂涂料设备
299 化学气相沉积金刚石聚晶金刚石复合型金刚石材料及应用
300 低介电常数材料以及化学气相沉积（CVD）制备方法
301 容器内表面化学气相沉积涂层方法
302 在低介电常数电介质上沉积化学气相沉积膜和原子层沉积膜的方法
303 金属有机物化学气相沉积氮化镓基薄膜外延生长设备
304 掺锑的金属氧化物的化学气相沉积
305 利用等离子体化学气相沉积法沉积薄膜的方法
306 化学气相沉积金刚石厚膜的焊接方法
307 用化学气相沉积法由烷氧化铋制备铁电薄膜
308 硼化镁超导薄膜的双加热器原位化学气相沉积一步法工艺
309 透明导电膜的等离子体增强化学气相沉积设备
310 化学气相沉积/化学气相渗透工艺尾气处理方法与设备
311 集硅片加热沉积于一体的化学气相沉积方法
312 采用大气开放式金属有机物化学气相沉积制备一维氧化物阵列材料的方法及其装置
313 采用大气开放式金属有机物化学气相沉积制备ZnO晶须的方法及其装置
314 热丝辅助微波电子回旋共振化学气相沉积方法及装置
315 以钴/铝催化化学气相沉积制备碳包覆钴纳米颗粒的方法
316 化学气相沉积装置
317 用化学气相沉积方法制备分散在基底上的金属或金属合金纳米粒子的方法
318 含硅膜的等离子体增强周期化学气相沉积
319 等离子辅助化学气相沉积装置
320 在常压下连续化学气相沉积的设备和方法及其用途
321 化学气相沉积合成无金属催化剂自组生长碳纳米管的方法
322 高纯氧化锌的化学气相沉积装置及其制备方法
323 以镍/钛催化剂原位化学气相沉积法制备碳纳米管的方法
324 用于等离子体增强型化学气相沉积工艺的等离子体感应电荷损坏的控制
325 化学气相沉积法制备石墨烯的方法
326 用于平板显示器的化学气相沉积设备
327 监控化学气相沉积反应腔室洁净度与洗净工艺时间的方法
328 用于利用远程等离子体源的大面积等离子体增强化学气相沉积装置的清洗器具
329 使用化学气相沉积工艺来沉积高-k电介质材料的方法
330 执行等离子体化学气相沉积的装置和制造光学预制件的方法
331 用于平面显示器的化学气相沉积装置
332 一种用常压化学气相沉积法制备Ti5</sub>Si3</sub>薄膜的方法
333 化学气相沉积成膜用组合物及生产低介电常数膜的方法
334 使用含硅前驱物和原子氧进行高质量流体状硅氧化物的化学气相沉积
335 化学气相沉积设备及炉管
336 鉴别高速生长的化学气相沉积金刚石单晶的方法
337 除去化学气相沉积(CVD)腔内的表面沉积物和钝化内表面的方法
338 用于在化学气相沉积-反应器中沉积涂层的方法及用于化学气相沉积-反应器的进气装置
339 一种用于制备飞机碳刹车盘的化学气相沉积炉
340 光伏组件规模制造用等离子体化学气相沉积真空设备
341 动力传送机构及使用其的等离子体辅助化学气相沉积装置
342 一种局部加热化学气相沉积装置及方法
343 通过化学气相沉积制备形状记忆膜的方法和由其制得的形状记忆器件
344 一种化学气相沉积制备飞机碳刹车盘的方法
345 使用高密度等离子体化学气相沉积来沉积薄膜的方法
346 一种可避免产生包状缺陷的等离子化学气相沉积方法
347 双腔交替式非晶硅光伏薄膜化学气相沉积设备
348 用于化学气相沉积的金属前体溶液
349 氧化物的化学气相沉积制备装置及制备方法
350 承座及其制造方法以及具有该承座的化学气相沉积装置
351 化学气相沉积用的有机钌化合物及使用该有机钌化合物的化学气相沉积方法
352 电介质间隙填充的高密度等离子体化学气相沉积工艺
353 用于平面显示器的化学气相沉积装置
354 一种可提高化学气相沉积工艺稳定性的方法
355 用于材料制备的化学气相沉积设备
356 用于化学气相沉积或原子层沉积的化学物输送装置
357 用于化学气相沉积的装置和方法
358 化学气相沉积的碳化硅制品
359 在化学气相沉积反应器中提高的多晶硅沉积
360 有机金属化学气相沉积反应器
361 用于化学气相沉积设备的装载室
362 一种在金属有机化学气相沉积中降低接触电阻的方法
363 模块化化学气相沉积（CVD）反应器
364 用于钛酸盐、镧酸盐、及钽酸盐介电膜的原子层沉积和化学气相沉积的前体组合物
365 一种改善低压化学气相沉积设备中粒子污染的方法
366 进气装置、低压化学气相沉积设备及化学气相沉积方法
367 用于等离子体化学气相沉积反应器的喷淋板电极
368 催化体化学气相沉积装置
369 化学气相沉积设备
370 化学气相沉积制备掺硼导电金刚石薄膜方法
371 一种大面积微波等离子体化学气相沉积装置
372 一种可连续大面积均匀化学气相沉积的喷头系统
373 具有多个进口的化学气相沉积反应器
374 使用化学气相沉积形成的气体储存容器衬里
375 化学气相沉积装置及方法
376 一种ECR微波等离子化学气相沉积带钢镀膜工艺及装置
377 使用主动调节反应性气体的注入速度的喷头的化学气相沉积设备及其方法
378 在中空主体的内壁上进行等离子辅助化学气相沉积的方法与装置
379 化学气相沉积碳与气相渗硅工艺联合制备SiCf</sub>/SiC复合材料的方法
380 一种多喷淋头的化学气相沉积反应室结构
381 等离子辅助化学气相沉积装置
382 化学气相沉积法制备炭黑增强的炭/炭复合材料
383 薄膜电晶体之化学气相沉积制作流程及其预沉积层构造
384 低温制作高应变等离子体增强化学气相沉积氮化硅薄膜的方法
385 化学气相沉积设备
386 操作化学气相沉积室的方法
387 等离子体增强化学气相沉积腔室背板强化
388 金属有机物化学气相沉积进液装置
389 一种卷对卷等离子体增强化学气相沉积装置
390 利用一步金属有机化学气相沉积工艺制备Ⅰ-Ⅲ-Ⅵ2</sub>化合物薄膜的方法
391 化学气相沉积的预处理方法
392 金属有机物化学气相沉积装置
393 用于化学气相沉积的等离子炬
394 含硅和碳的阻挡层的卷到卷等离子体增强化学气相沉积方法
395 一种等离子体增强式化学气相沉积处理方法
396 等离子体增强化学气相沉积装置
397 电磁场辅助的金属有机物化学气相沉积
398 镍催化原位化学气相沉积制备碳纳米管/镁复合粉末的方法
399 一种高温化学气相沉积法连续合成单壁碳纳米管的方法
400 等离子体化学气相沉积设备的载板传输控制方法及系统
401 加热腔室及等离子体增强化学气相沉积装置
402 一种用于金属有机物化学气相沉积设备的进气喷头结构
403 一种a面ZnO薄膜的单源化学气相沉积制备方法
404 一种等离子加强化学气相沉积设备
405 用于化学气相沉积工艺的机台
406 一种矩形化学气相沉积反应器
407 应用于钨化学气相沉积工艺的气体传输系统
408 金属有机化学气相沉积生长GaN基发光晶体膜的方法
409 ZnO基薄膜晶体管的金属有机化学气相沉积制备方法
410 利用等离子体增强化学气相沉积来制造高机械性能的极低K膜的新型硅前驱物
411 用于等离子体增强的化学气相沉积和斜边蚀刻的系统
412 一价铜化合物及使用该类化合物进行化学气相沉积制备铜薄膜的方法
413 用于化学气相沉积(CVD)的基板处理设备
414 一种去除正面化学气相沉积层二氧化硅膜的方法
415 一种化学气相沉积低温生长ZnS设备和工艺
416 化学气相沉积系统
417 等离子体增强化学气相沉积设备与玻璃板装载方法
418 大气压等离子体增强化学气相沉积方法
419 通过化学气相沉积制备纳米复合材料的方法
420 化学气相沉积反应器
421 一种螺旋波等离子体增强化学气相沉积装置
422 一种化学气相沉积装置
423 一种化学气相沉积金刚石装置
424 采用金属源化学气相沉积技术制备掺杂氧化锌的方法
425 使用含硅前驱物和原子氧进行高质量流体状硅氧化物的化学气相沉积
426 脉冲加热多匣式化学气相沉积p-i-n镀膜装置
427 大面积平板式等离子体增强化学气相沉积系统
428 金属化合物、含有其的化学气相沉积用原料以及含有金属的薄膜的制造方法
429 以Ni-Fe合金为催化剂化学气相沉积法制备碳纳米洋葱的方法
430 反应腔室及化学气相沉积设备
431 多反应腔金属有机物化学气相沉积设备
432 等离子体化学气相沉积基座温度控制方法
433 一种等离子体增强化学气相沉积炉
434 化学气相沉积法用材料和含硅绝缘膜及其制造方法
435 用于化学气相沉积设备中的气体墙结构
436 化学气相沉积炉
437 半导体处理用的成批化学气相沉积方法及装置
438 等离子增强化学气相沉积的方法及系统
439 用于化学气相沉积设备的装载室
440 一种化学气相沉积金刚石或其它物质的装置
441 一种化学气相沉积装置及其喷头组件
442 等离子体增强化学气相沉积装置
443 等离子体增强化学气相沉积装置
444 用于化学气相沉积设备的气体喷射单元
445 化学气相沉积装置以及基板处理装置
446 能够控制反应室内的排放流体流动路径的化学气相沉积装置
447 化学气相沉积设备的安装方法及化学气相沉积设备
448 冷腔壁条件下化学气相沉积制备石墨烯的方法
449 化学气相沉积设备及其冷却箱
450 氧化锌的金属有机化学气相沉积
451 多重气体耦合金属有机物化学气相沉积设备反应腔体
452 制备热解氮化硼制品用的化学气相沉积工艺及气相沉积炉
453 利用添加N2</sub>O气体化学气相沉积金刚石单晶的方法
454 在化学气相沉积反应器中用于配气的系统和方法
455 使用共形等离子体增强化学气相沉积(PECVD)膜来缩减关键尺寸的方法
456 用于化学气相沉积设备的装载室
457 低压化学气相沉积设备以及低压化学气相沉控制方法
458 有机金属化学气相沉积装置和方法
459 化学气相沉积装置及其喷头
460 以Fe-Y催化剂在Cu载体上化学气相沉积制备碳纳米洋葱的方法
461 复杂形状金刚石涂层刀具热丝化学气相沉积批量制备方法
462 太阳电池的增强等离子体化学气相沉积工艺
463 射频等离子体增强化学气相沉积实现磷酸铁锂碳包覆的方法
464 硫属化物材料的化学气相沉积
465 非等离子体辅助的化学气相沉积方法
466 低压化学气相沉积反应设备
467 在化学气相沉积反应器中用于管丝的夹头及电桥的连接点
468 用于化学气相沉积反应器的方法和设备
469 圆桶型金属有机化学气相沉积反应管
470 化学气相沉积反应设备
471 化学气相沉积装置的温度控制方法
472 化学气相沉积设备
473 化学气相沉积装置及其控制方法
474 通过等离子体增强化学气相沉积制造具有高机械特性的特别低K膜层的新式硅前驱物
475 化学气相沉积装置及其喷头
476 反应器、化学气相沉积反应器以及有机金属化学气相沉积反应器
477 用于化学气相沉积反应器的多气体分配喷射器
478 利用化学气相沉积原位掺杂制备p型IIB-VIA族准一维半导体纳米材料的方法
479 等离子体源和用等离子体增强的化学气相沉积来沉积薄膜涂层的方法
480 化学气相沉积外延设备用的喷淋头结构
481 化学气相沉积设备
482 化学气相沉积反应设备
483 用于化学气相沉积的方法和设备
484 有机金属化学气相沉积机台
485 有机金属化学气相沉积机台
486 连续进给式化学气相沉积
487 用于化学气相沉积机台的真空泵的排气管及相应的真空泵
488 用于化学气相沉积的进气口元件及其制造方法
489 化学气相沉积系统和工艺
490 带有圆柱形进气机构的金属有机化合物化学气相沉积反应器
491 化学气相沉积炉用预热装置
492 化学气相沉积设备及使用其形成半导体外延薄膜的方法
493 化学气相沉积设备
494 化学气相沉积装置
495 基座及具有该基座的用于化学气相沉积的设备
496 快速清除残余反应气体的金属有机物化学气相沉积反应腔体
497 用于进行等离子体化学气相沉积的炉子
498 一种化学气相沉积制备ZnO纳米结构的方法
499 一种利用多苯环碳源低温化学气相沉积生长大面积石墨烯的方法
500 热丝化学气相沉积过程中光发射谱的测试方法及其装置
501 金属有机物化学气相沉积设备中实时测量薄膜温度的方法及测量装置
502 进气装置和具有它的等离子体化学气相沉积设备
503 用于铝-硅氮化物的化学气相沉积处理
504 一种化学气相沉积制备钨的方法及其装置
505 化学气相沉积装置
506 一种能实现上、下进气切换的化学气相沉积炉及其应用
507 一种金属有机物化学气相沉积设备的载盘支撑
508 基座、化学气相沉积设备和基板加热方法
509 一种用于金属有机化学气相沉积反应器的斜入式气体喷淋头
510 控制化学气相沉积腔室内的基底加热的装置及方法
511 等离子体增强化学气相沉积设备
512 一种等离子体增强化学气相沉积微晶硅薄膜的方法
513 一种等离子体增强型化学气相沉积真空设备
514 用于超长碳纳米管的化学气相沉积的扩大反应器
515 化学气相沉积装置
516 一种化学气相沉积炉
517 化学气相沉积机台
518 金属有机化学气相沉积设备及其腔室组件
519 腔室组件和具有它的金属有机化合物化学气相沉积设备
520 一种提高等离子体辅助化学气相沉积设备性能的方法
521 含金属-硅膜的脉冲化学气相沉积
522 一种化学气相沉积包覆微纳米金属粉的方法
523 一种液态催化剂辅助化学气相沉积制备石墨烯的方法
524 基于化学气相沉积法制备形貌可控的纳米铜硫化合物的方法
525 用于化学气相沉积的装置
526 氮化硅的热化学气相沉积
527 多元掺杂热丝化学气相沉积制备金刚石薄膜的方法
528 化学气相沉积设备的温度控制方法
529 化学气相沉积炉用尾气处理装置
530 基座和包括其的化学气相沉积设备
531 化学气相沉积反应器
532 用于等离子体增强化学气相沉积的腔室
533 一种运动磁场辅助增强化学气相沉积方法及装置
534 超高真空化学气相沉积装置
535 一种等离子热丝法化学气相沉积金刚石膜的装置
536 等离子体化学气相沉积法金刚石涂层的温度测量装置
537 电阻化学气相沉积炉引电极的密封装置
538 一种可抑制化学气相沉积预反应的进气蓬头
539 用于处理平板显示器衬底的化学气相沉积系统
540 化学气相沉积镀膜机的钩子
541 化学气相沉积设备
542 双温场化学气相沉积装置
543 一种用于等离子体增强化学气相沉积的进气电极板
544 进气装置及低压化学气相沉积设备
545 化学气相沉积系统的多片式活动电镀车台
546 接地结构、加热器以及化学气相沉积装置
547 用于制备飞机碳刹车盘的化学气相沉积炉
548 双腔交替式非晶硅光伏薄膜化学气相沉积设备
549 多重气流金属有机物化学气相沉积设备的反应腔体
550 光伏组件规模制造用等离子体化学气相沉积真空设备
551 一种等离子体化学气相沉积进气装置
552 化学气相沉积设备及其晶舟
553 一种化学气相沉积炉尾气排放电磁阀自清洗装置
554 有机金属化学气相沉积装置
555 电磁场辅助的金属有机物化学气相沉积设备
556 一种多晶硅化学气相沉积装置
557 一种用于金属有机化学气相沉积设备的喷雾器
558 一种等离子体化学气相沉积法PECVD小车
559 等离子体辅助化学气相沉积装置
560 用于化学气相沉积的等离子炬
561 等离子体增强化学气相沉积PECVD小车识别系统
562 一种化学气相沉积金刚石或其它物质的装置
563 化学气相沉积设备
564 一种等离子体化学气相沉积前的太阳能电池加热装置
565 一种等离子体化学气相沉积设备后的太阳能电池冷却装置
566 一种等离子体化学气相沉积生产线机械传动装置
567 一种能自行降温的等离子体化学气相沉积仓室
568 集成有原子层沉积工艺的化学气相沉积设备
569 等离子体增强化学气相沉积设备
570 化学气相沉积机台及其遮蔽框架
571 一种等离子体化学气相沉积设备中的进气控制装置
572 等离子体增强化学气相沉积设备
573 一种等离子体化学气相沉积设备的电池挂片箱
574 一种等离子体化学气相沉积设备的运载小车
575 一种化学气相沉积工艺腔晶片传送装置
576 一种等离子体增强化学气相沉积炉
577 非晶硅薄膜等离子体增强化学气相沉积设备
578 等离子体化学气相沉积连续生产装置
579 衬底支撑基座和应用该衬底支撑基座的化学气相沉积设备
580 一种C/C平板化学气相沉积分气系统
581 用于化学气相沉积设备中的气体墙结构
582 一种用于生产薄膜太阳能电池的化学气相沉积系统
583 一种金属有机物化学气相沉积设备的水冷夹层
584 用于上装料化学气相沉积炉的大尺寸产品吊运装置
585 用于化学气相沉积设备的喷头
586 化学气相沉积装置