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1 研磨无机氧化物颗粒的浆液以及含铜表面的抛光方法
2 一种加氧化剂酸性硅溶胶抛光液的配制方法
3 纳米二氧化硅抛光剂及其制备方法
4 用于化学机械抛光的多氧化剂浆料
5 用于化学机械平面加工的含过氧化物抛光液的稳定方法
6 适用于半导体化学机械抛光的金属氧化物浆料的制备方法
7 含有一种由硅酸抛光剂和氧化铝组成的抛光剂组合物的牙齿清洁剂
8 适用于半导体化学机械抛光的金属氧化物浆料的制备方法
9 用于金属和金属氧化物的结构化处理的抛光液和方法
10 用于低介电常数材料的氧化抛光淤浆
11 在二氧化硅化学机械抛光过程中减少/消除划痕和缺陷的组合物和方法
12 化学机械法抛光二氧化硅薄膜用抛光膏
13 氧化铈抛光盘及其制造方法
14 用于化学机械抛光研磨液组合物的氧化剂
15 用于含有金属离子氧化剂的化学机械抛光组合物中的二羟基烯醇化合物
16 用于抛光高阶梯高度氧化层的自动停止研磨剂组合物
17 在铜CMP中采用不包含氧化剂的抛光流体的第二步骤抛光方法
18 铜-氧化物大马士革结构的化学机械抛光
19 用于化学机械抛光氧化硅和氮化硅的组合物和方法
20 用于高精密度抛光的金属氧化物粉末及其制备方法
21 化学机械抛光氧化硅和氮化硅的组合物与方法
22 用于抛光半导体薄层的氧化铈浆料
23 抛光瓷砖表面二氧化硅抗污涂层的溶胶-凝胶制备法
24 一种抛光用超细氧化铈的制备方法
25 化学机械抛光二氧化硅和氮化硅的多步方法
26 单分散球形氧化铈的制备方法及其在高精密抛光中的用途
27 化学机械抛光二氧化硅和氮化硅的组合物和方法
28 不锈钢表面微弧氧化研磨抛光方法
29 基于氧化铈的抛光工艺和氧化铈基浆料
30 纳米氧化铈的制备方法及其在砷化镓晶片化学机械抛光中的用途
31 一种用于化学机械抛光的二氧化铈细颗粒浓缩物及其制备方法
32 用于化学机械抛光的二氧化铈研磨剂
33 具有增强的抛光均匀性的二氧化铈浆液组合物
34 一种化学机械抛光单晶氧化镁基片用的抛光液
35 以二氧化铈为主体的超细精密抛光粉的制备方法及抛光粉
36 氧化形式的金属的化学机械抛光
37 用于化学机械抛光金属表面的含金属氧化物颗粒及阳离子聚合物的分散体
38 抛光瓷砖表面二氧化硅抗污涂层的制备方法
39 用于化学机械抛光的二氧化铈粉末的制备方法及使用该粉末制备化学机械抛光浆料的方法
40 微晶玻璃加工用纳米二氧化硅磨料抛光液及其制备方法
41 用于对二氧化硅和氮化硅进行化学机械抛光的组合物
42 用于高的氮化硅对氧化硅去除速率比率的抛光组合物及方法
43 具有改进的终点检测能力、用来对二氧化硅和氮化硅进行化学机械抛光的组合物
44 从荧光粉、抛光粉废料中回收稀土氧化物的方法
45 一种用于氧化钒化学机械抛光的纳米抛光液及其应用
46 铈氧化物粒子的液体悬浮液和粉末、其制备方法及其在抛光中的用途
47 适用于精细雾化CMP的一种碱性二氧化硅抛光液
48 对包含多晶硅、氧化硅和氮化硅的基片进行抛光的方法
49 对包含多晶硅以及氧化硅和氮化硅中的至少一种的基片进行抛光的方法
50 对包含多晶硅以及氧化硅和氮化硅中的至少一种的基片抛光的方法
51 使用适合提高氧化硅的去除的抛光组合物对基片进行化学机械抛光的方法
52 一种用于氧化锌化学机械平坦化的酸性纳米抛光液及应用
53 一种用于计算机硬盘基片抛光的多孔纳米氧化铝抛光液
54 一种用于氧化锌化学机械平坦化的碱性纳米抛光液及应用
55 可控氧化硅去除速率的化学机械抛光液
56 铈锆复合氧化物抛光粉制备方法
57 氟氧化镧铈稀土抛光液及其制备方法
58 一种铝掺杂的氧化锆复合抛光粉的制备方法
59 一种用于氧化镍薄膜化学机械平坦化的纳米抛光液及应用
60 一种用于氧化钛薄膜化学机械平坦化的纳米抛光液及应用
61 提高二氧化硅背封抛光硅单晶片异丙醇干燥成品率的方法
62 一种氧化铝基质的汽车漆面抛光原料制作方法
63 一种氧化铈基质的玻璃镜片抛光粉制备方法
64 一种氧化铝基质的树脂镜片抛光粉制作方法
65 一种氧化铝基质的树脂镜片抛光液制作方法
66 铈氧化物粒子的液体悬浮液和粉末、其制备方法及其在抛光中的用途
67 高效氧化铝蓝宝石抛光液及其制备方法
68 一种氧化铝陶瓷管制备过程中抛光的装置及方法
69 石材磨具用氧化铈抛光材料及其制备方法
70 一种二氧化硅基CMP抛光液及其制备方法
71 一种氧化硅介电材料用化学机械抛光液
72 纳米级八面体形氧化镧铈稀土抛光粉的生产工艺
73 纳米级四方体形氧化镧铈稀土抛光粉的生产工艺
74 一种低抛氧化铈抛光粉的制备方法
75 用于化学机械抛光包含氧化硅电介质和多晶硅膜的基底的含水抛光组合物和方法
76 一种氧化镧铈稀土抛光粉的煅烧工艺
77 一种氧化镧铈稀土抛光粉及其制备方法
78 预加氧化铈聚酯抛光布和抛光盘
79 拉链全自动深度抛光及氧化着色表面处理生产设备
80 氧化锌电阻片抛光机
81 去除或减少氧化物薄膜中表面颗粒的方法和专用抛光棒
82 改变浆料中氧化剂的浓度进行化学机械抛光(CMP)的方法
83 包括二氧化硅涂覆铈土的抛光淤浆
84 稀土盐/氧化剂为基础的化学-机械抛光方法
85 一种用于二氧化硅介质的抛光液及其制备方法
86 氧化锌单晶衬底级基片的抛光方法
87 氧化铈浆料、氧化铈抛光液以及使用其抛光衬底的方法
88 纳米氧化铈复合磨粒抛光液的制备方法
89 一种纳米二氧化硅磨料抛光液的制备方法
90 增加含过氧化氢的化学机械抛光浆料使用寿命的组合物及方法
91 硅片背面干法喷砂制造吸杂源、消除硅抛光表面氧化雾的工艺方法
92 回收稀土氧化物的方法、生产包含稀土氧化物的磨料的方法以及使用该磨料的抛光方法
93 回收稀土氧化物的方法、生产包含稀土氧化物的磨料的方法以及使用该磨料的抛光方法
94 铜抛光中用的纳米二氧化硅磨料抛光液，客服QQ:113·426~839·5
95 锌和铬加工用的纳米二氧化硅磨料抛光液
96 微晶玻璃加工用的纳米二氧化硅磨料抛光液
97 用于氧化铟锡表面的化学机械抛光的组合物及方法
98 硫系化合物相变材料氧化铈化学机械抛光液
99 一种抛光液用氧化铝粉的制备方法
100 氧化稳定的化学机械抛光组合物及方法
101 利用胶体二氧化硅的氧化硅抛光方法
102 用于抛光氧化铝及氧氮化铝基材的组合物、方法及系统
103 利用水溶性氧化剂的碳化硅抛光方法
104 铈氧化物粒子的液体悬浮液和粉末、其制备方法及其在抛光中的用途
105 用于抛光由二氧化硅制成的表面的组合物
106 化学机械抛光用纳米氧化铈浆液及其制备方法
107 用于化学机械抛光浆料应用的聚合物-二氧化硅分散剂的稳定化
108 极大规模集成电路多层布线碱性抛光后防氧化方法
109 一种铝掺杂氧化铈抛光粉及其制备方法
110 一种化学机械抛光单晶氧化镁基片用的抛光液
111 一种基于氧化和化学机械抛光工艺制备超细线条的方法
112 一种固-固相合成三氧化二铝基抛光粉的工艺方法
113 高精度氧化铝抛光粉及其生产方法
114 高精度氧化铝抛光液及其制备方法
115 通过含氧化铈的分散体抛光硅表面的方法
116 二氧化硅介质化学机械抛光液的制备方法
117 使用水溶性氧化剂的碳化硅抛光方法
118 具有高的氮化硅对氧化硅移除速率比的抛光组合物及方法
119 一种α-氧化铝抛光粉的制备方法
120 氧化铝颗粒以及包含该氧化铝颗粒的抛光组合物
121 可用于光电器件衬底的氧化锌单晶抛光技术
122 一种易抛光氧化铝瓷件配方及其制备方法
123 一种铈掺杂的氧化锆复合抛光粉的制备方法
124 用于减少微划痕和提高合格率的在氧化物化学机械抛光(CMP)之前的洗涤器清洁
125 采用划磨方式去除IGBT用抛光片晶圆边缘氧化膜的方法
126 99.6%氧化铝陶瓷薄膜基片的抛光方法
127 氧化铈粉体抛光浆料的生产方法
128 一种抛光液用高稳定纳米二氧化铈水性浆料制备方法
129 纳米级单球状氧化镧铈稀土抛光粉的生产工艺
130 氧化镧铈稀土抛光粉的制作工艺
131 纳米级球形葡萄状氧化镧铈稀土抛光粉的生产工艺
132 制备氧化铈抛光粉的方法
133 高温氧化不锈钢的化学抛光方法
134 一种采用挤压方式去除IGBT用硅晶圆抛光片边缘氧化膜的方法
135 用于化学机械抛光包含氧化硅电介质和多晶硅膜的衬底的含水抛光组合物和方法
136 一种从稀土抛光粉废渣中制取氧化稀土的方法
137 拉链全自动深度抛光及氧化着色表面处理生产设备
138 二氧化钛负载氧化铈抛光粉的制备方法
139 含N取代的二氮烯
140 一种氧化锆、氧化铝陶瓷镜面抛光丸片固着磨料的配方
141 包括氧化锆颗粒的抛光浆料以及使用这种抛光浆料的方法
142 氧化铬抛光轮
143 一种氧化铝陶瓷管制备过程中抛光的装置