刻蚀机结构图 化学刻蚀 离子刻蚀机设计加工技术专利资料【小套】
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1 晶片刻蚀机的操作方法
2 等离子体刻蚀机台在预防维护工艺后的监控方法
3 一种检测刻蚀机气路柜漏率的方法
4 一种测量刻蚀机反应腔室漏率的方法
5 刻蚀机集群控制器与工艺模块控制器通讯系统及方法
6 刻蚀机集群控制器
7 一种真空干法刻蚀机的静电处理方法及装置
8 感应耦合等离子体深层刻蚀机
9 电子回旋共振等离子体刻蚀机
10 大容量圆筒形平板型干法刻蚀机
11 触持阴极离子束刻蚀机
12 反应离子刻蚀机样品台
13 一种化学刻蚀机
14 一种带反馈控制的激光刻蚀机
15 线圈连接组件,上电极装置和LED刻蚀机
16 一种刻蚀机射频功率的控制系统
17 可配置的斜面刻蚀机
18 湿法刻蚀机台及消除硅片刻蚀差异的方法
19 等离子刻蚀机的高压线圈固定装置
20 基于FTIR光谱监测的等离子体刻蚀机内部状态维护方法
21 等离子刻蚀机硅片定压施压夹具
22 刻蚀机自动传片机构
23 刻蚀机下电极压片装置
24 刻蚀机载片盘的旋转机构
25 刻蚀机的装片装置
26 等离子体刻蚀机
27 多功能金属刻蚀机
28 等离子刻蚀机的高压线圈固定装置
29 等离子刻蚀机排风系统
30 用于等离子刻蚀机的异常检测系统
31 ITO刻蚀机摇摆喷射排管端盖结构
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2、资料说明:资料都是国家专利文献原版全文内容,含技术背景/原理、材料配方比例、制作方法、工艺步骤、技术关键、结构设计图(部分设备类有),以及发明人姓名、地址/邮编、申请日期、专利号、权利要求等详细信息。每一项专利文献的内容详略都是不同的,平均每一项4-10页,多的有几十页的。