化学机械研磨方法 化学机械研磨装置结构原理【小套】
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1 化学机械研磨方法
2 化学机械研磨浆液及其使用方法
3 一种化学机械研磨装置
4 用于加工半导体的化学机械研磨组合物
5 化学机械研磨机台
6 化学机械研磨机台
7 半导体制程用的化学机械研磨组合物
8 半导体制程用的化学机械研磨组合物
9 化学机械研磨机台
10 化学机械研磨机台
11 化学机械研磨装置与方法
12 化学机械研磨垫
13 化学机械研磨异常探测装置
14 有机硅类低介电常数材料的化学机械研磨平坦化的方法
15 含硅烷改性研磨颗粒的化学机械抛光(CMP)组合物
16 化学机械研磨用研磨剂及研磨方法
17 化学机械研磨用研磨剂及基板的研磨法
18 化学机械研磨组合物
19 结合旋转涂布的化学机械研磨法
20 具有温度控制的化学机械研磨装置
21 化学机械研磨机台的导管过滤装置
22 化学机械研磨工艺中氧化剂浓度的监控系统
23 铜化学机械研磨中减少碟陷的方法
24 化学机械研磨浆液组合物及其使用方法
25 化学机械研磨的方法
26 一种化学机械研磨浆料组成
27 晶圆的化学机械研磨方法及其装置
28 晶圆的化学机械研磨装置
29 化学机械研磨装置的晶圆载具结构
30 用于化学机械研磨的研磨头
31 整合型化学机械式研磨
32 化学机械研磨机的载具膜的冲孔模具以及适用于此模具的预防保养方法
33 一种消除化学机械研磨碟化效应的内连线制造方法
34 化学机械研磨的监控测量方法
35 减少化学机械研磨工艺缺陷的电路布局及其制造方法
36 化学机械抛光用研磨剂
37 研磨剂分布系统及应用此分布系统的化学机械研磨设备
38 一种用于铜制程的化学机械研磨液组合物
39 摆动的固定研磨料化学机械研磨系统及其实现方法
40 用于化学机械抛光的研磨垫
41 低口径化学机械研磨系统
42 具有浮动阻隔环的化学机械研磨头
43 高速研磨金属层用化学机械研磨液组成物
44 化学机械研磨用的水分散体
45 降低铜制程化学机械研磨的缺陷与研浆残留的方法
46 化学机械研磨后洗涤液组合物
47 可减少微刮痕的钨金属的化学机械研磨制程
48 用来研磨晶片材料的化学-机械研磨机,以及装在该机器上的研磨剂输送设备
49 化学机械研磨装置的晶片载具及其研磨方法
50 化学机械研磨设备
51 无刮伤化学机械研磨工艺
52 处理铜化学机械研磨废水的方法及装置
53 不锈钢电化学研磨(抛光)方法
54 化学机械研磨机台的调节器
55 化学机械研磨工艺及装置
56 化学机械研磨用水性分散体及其化学机械研磨方法
57 决定化学机械研磨的过度研磨时间的方法
58 化学机械研磨的流程与基底上铜层氧化物研磨制程
59 化学机械研磨装置及其研磨垫轮廓的控制系统与调节方法
60 化学机械研磨用研磨剂及基板的研磨法
61 化学机械研磨组合物
62 化学机械研磨用水性分散剂以及化学机械研磨方法
63 一种不锈钢表面快速化学研磨抛光浴液及方法
64 用于化学机械研磨的漩涡电流监测方法和设备
65 化学机械研磨用浆料组合物、利用它的半导体元件的表面平坦化方法以及浆料组合物的选择比控制方法
66 化学机械研磨工艺
67 一种减少钨化学机械研磨微刮痕的工艺
68 使用化学机械研磨法制造半导体元件的内连线结构的方法
69 多晶硅化学机械研磨法来增进栅极微影能力的方法
70 浅沟槽隔离工艺中化学机械研磨工艺窗口确定方法
71 使用垫调节装置的传感信号来控制化学机械研磨的方法及系统
72 用于化学机械研磨平面化的双硅层鳍状场效应晶体管
73 鳍状场效应晶体管中栅极区域的多步骤化学机械研磨
74 化学机械研磨方法
75 用于化学机械抛光的二氧化铈研磨剂
76 化学-机械研磨设备中的浆料再循环
77 用以化学机械研磨的多用途研磨浆施放臂
78 化学机械研磨用水系分散体及研磨方法、调制用的试剂盒
79 化学机械研磨机台的研磨液供应设备与研磨液混合方法
80 化学机械研磨制程及增加其研磨终点准确性的方法
81 一种在化学机械研磨中减少导体结构碟陷与侵蚀的方法
82 避免研磨浆料残留的化学机械研磨方法及设备
83 化学机械研磨用水系分散体及研磨方法、调制用的试剂盒
84 化学机械研磨用水性分散质、配制该分散质的工具、化学机械研磨方法及半导体装置的制造方法
85 一种可改善化学机械研磨前薄膜均匀性的工艺方法,客服QQ:11·34~268`395
86 化学机械研磨装置及其研磨垫的调节方法
87 铜化学机械研磨方法
88 用回蚀和化学机械研磨形成铝镜层的方法
89 用化学机械研磨形成铝特征图案的方法
90 一种化学机械抛光中研磨垫沟槽加工方法
91 化学机械研磨用研磨剂及基板的研磨法
92 化学机械研磨浆料、化学机械研磨法及半导体装置的制法
93 化学研磨装置及其玻璃基板
94 一种化学机械抛光中延长研磨垫寿命的方法
95 化学机械抛光研磨垫
96 一种自动调节化学机械抛光设备硅片研磨压力的方法
97 化学机械研磨颗粒、浆料及其制造方法
98 二氧化硅的化学辅助研磨
99 半导体加工用化学机械研磨组合物
100 化学机械研磨组合物及方法
101 半导体加工用化学机械研磨组合物
102 化学机械研磨组合物
103 化学机械研磨机之载具膜的预防保养方法及实施该方法的装置
104 回收化学和机械平整化所用水与浆料研磨剂的方法和设备
105 半导体器件及其制造方法、化学机械研磨装置和方法
106 晶圆上的校正符号的清洁方法以及化学机械研磨制程后续再清洁制程的方法
107 化学机械研磨装置用研磨浆调制供给装置和方法
108 化学机械研磨过程中测量非金属层厚度的方法
109 化学机械研磨浆液组合物及其使用方法
110 化学机械研磨方法和化学机械研磨装置
111 化学机械研磨机台的调节器清洗装置
112 半导体业化学机械研磨机台水回收管路系统
113 化学机械研磨垫
114 以电化学机械研磨法进行基材平坦化
115 化学机械研磨剂组合及其化学机械研磨方法
116 铝金属的化学机械研磨方法
117 用光化学处理提供巨磁阻研磨板组织形成物的方法和设备
118 化学机械研磨用水性分散剂及其化学机械研磨方法
119 电化学机械研磨控制工艺
120 化学机械研磨装置以及研磨方法
121 化学机械研磨制程控制方法
122 化学机械研磨制作工艺的假制作工艺与研磨垫调节方法
123 化学机械研磨方法、化学机械研磨系统、半导体器件制造方法
124 化学机械研磨机台滑片检测方法
125 用于钨和钛的化学机械平坦化的研磨剂和组合物
126 半导体芯片化学机械研磨剂及其配制方法
127 半导体芯片化学机械研磨后清洗液
128 化学机械研磨用水性分散剂及其化学机械研磨方法
129 化学研磨垫、其制造方法及半导体晶圆的化学机械研磨方法
130 电化学辅助化学机械研磨处理中的移除行程控制
131 化学机械研磨垫、其制造方法和化学机械研磨方法
132 化学机械研磨抛光系统中的抛光垫的调理方法
133 化学机械研磨用垫
134 用于清洗化学机械平坦化的研磨垫的水性清洗组合物
135 化学机械研磨组合物
136 化学机械研磨后的晶片清洗方法
137 化学机械研磨方法与研磨液组合物
138 在金属和多晶硅化学机械研磨中减少大图案凹陷的方法
139 用于化学机械抛光的系统、方法与研磨液
140 化学机械研磨系统及研磨液
141 化学机械研磨方法
142 化学机械研磨系统及化学机械研磨方法
143 化学机械研磨机台中研磨液及去离子水输送管的配置方法
144 化学机械研磨的研磨修整装置
145 用于化学机械研磨装置的操作参数自动反馈方法及其控制系统
146 化学机械研磨时间控制方法
147 化学机械研磨终点的控制方法
148 确定化学机械研磨工艺研磨时间的方法
149 化学机械研磨方法
150 一种化学机械研磨机台化学液供给装置
151 化学机械研磨设备和用于化学机械研磨设备的防溅装置
152 改善化学机械研磨终点检测及检测前道工艺的方法
153 复合式化学机械研磨法与浅沟槽隔离结构的制造方法
154 用于化学机械抛光研磨液组合物的氧化剂
155 轴承降振化学研磨剂及其使用方法
156 制造集成电路的化学机械研磨方法及其装置
157 在铜化学机械研磨工艺中减少晶片被腐蚀的方法
158 用于化学机械研磨的基底固定环
159 用于化学机械研磨的漩涡电流监测方法和设备
160 电化学机械研磨系统和用于检测研磨终点的方法
161 一种防止研磨液稀释的化学机械研磨系统及其机台
162 化学机械研磨后残留物的去除方法
163 化学机械研磨浆液与化学机械平坦化方法
164 具有温度控制研磨头的化学机械研磨系统
165 基于光谱的监测化学机械研磨的装置及方法
166 铜表面化学机械研磨平坦化方法
167 移除基底上的绝缘层的方法和化学机械研磨工艺
168 保持环及化学机械研磨装置
169 一种化学机械研磨装置
170 化学机械研磨用水系分散体和化学机械研磨方法、以及用于调制化学机械研磨用水系分散体的试剂盒
171 化学机械抛光的研磨头及其制作方法
172 化学机械研磨用水系分散体制备用试剂盒及其应用
173 化学机械研磨机台的维护方法
174 铜化学机械研磨的方法
175 化学机械研磨装置及清洗研磨垫、研磨头的方法
176 化学机械研磨设备及化学机械研磨方法
177 化学机械研磨垫及其制造方法
178 化学机械研磨垫
179 基于光谱的监测化学机械研磨的装置及方法
180 化学机械研磨用水系分散体、化学机械研磨方法、化学机械研磨用试剂盒以及用于制备化学机械研磨用水系分散体的试剂盒
181 化学机械研磨用水系分散体和化学机械研磨方法、以及用于制备化学机械研磨用水系分散体的试剂盒
182 用于化学机械研磨的喷头臂及其控制装置
183 一种化学机械抛光工艺中确定研磨时间的方法
184 化学机械研磨方法
185 化学机械研磨用的研磨垫修整器
186 提高化学机械抛光研磨液使用率的系统及方法
187 层间介电质化学机械研磨的时间反馈控制方法及系统
188 浅沟隔离结构的化学机械研磨制程
189 化学机械抛光研磨液的供料装置及研磨液处理方法
190 化学机械研磨及其终点检测方法
191 化学机械研磨的方法
192 钨化学机械研磨方法及钨插塞的制造方法
193 化学机械研磨设备研磨头的清洗方法
194 研磨液供给管路以及化学机械研磨装置
195 研磨液及化学机械研磨方法
196 化学机械研磨方法及晶片清洗方法
197 一种研磨颗粒及其制造方法和化学机械研磨液的制造方法
198 化学机械研磨用水系分散体及半导体装置的化学机械研磨方法
199 化学机械研磨台研磨头辅助位置校正装置及其校正方法
200 化学机械研磨方法
201 化学机械研磨用水系分散体及半导体装置的化学机械研磨方法
202 一种化学沉淀与物理研磨相结合制备无机纳米粉体的方法
203 化学机械研磨方法
204 层间介质层化学机械研磨方法
205 一种用于化学机械抛光的研磨垫调整装置
206 化学机械研磨的组成物
207 钨化学机械研磨方法
208 化学机械研磨方法及研磨装置
209 化学机械研磨用水系分散体、电路基板及其制造方法
210 化学机械研磨的方法
211 一种用于化学机械研磨的抛光液
212 进行化学机械研磨的方法
213 化学机械研磨方法
214 使用垫调节装置的传感信号来控制化学机械研磨的方法及系统
215 化学机械研磨方法、研磨液喷嘴及化学机械研磨设备
216 对晶圆进行化学机械研磨工艺的方法
217 化学机械研磨及通孔形成方法
218 化学机械研磨组合物和方法
219 化学机械研磨机用的可挠膜
220 用于修整研磨垫的设备、化学机械研磨设备和方法
221 化学机械研磨用研磨剂及基板的研磨法
222 侦测化学机械研磨机台水槽上/下位置的装置及方法
223 研磨液供给系统及化学机械研磨站的研磨液混合物供给法
224 化学机械研磨元件、晶圆的研磨方法及晶圆研磨系统
225 化学机械研磨后残留物的去除方法
226 用于移除锯痕的化学机械研磨组合物
227 化学机械研磨后的晶片清洗方法
228 化学机械研磨后残留物的去除方法
229 化学机械抛光设备及其研磨液输送方法
230 化学机械研磨用水系分散体以及化学机械研磨方法
231 化学机械研磨设备
232 化学机械研磨用水系分散体以及化学机械研磨方法
233 一种化学机械研磨方法,客服QQ:1134·26~83·95
234 双侧化学研磨半导体晶片的方法
235 化学机械研磨制程的研磨终点判断方法
236 层间介质层的化学机械研磨方法
237 化学机械研磨方法
238 表面改性胶体二氧化硅以及含有该胶体二氧化硅的化学机械研磨用研磨组合物
239 化学机械研磨方法
240 化学机械研磨方法和装置
241 用于化学机械研磨的固定环
242 化学机械抛光的研磨液供给系统及方法
243 化学机械研磨设备及研磨方法
244 化学机械抛光设备的研磨头装置
245 化学机械研磨工艺的优化方法
246 用于将晶片移出化学机械抛光设备研磨头的方法
247 一种化学机械研磨刮伤的检测方法
248 化学机械研磨时间的控制方法
249 化学机械研磨的方法和金属互连层的形成方法
250 化学机械研磨绝缘介质层的方法
251 控制化学机械研磨时间的方法及系统
252 识别和/或提高化学机械研磨垫修整器性能的系统及方法
253 一种化学机械研磨废液的处理方法
254 化学机械研磨方法
255 一种电化学与磁性研磨复合的复合加工系统
256 在化学机械研磨过程中防止钨塞凹陷缺陷的方法
257 化学机械研磨后的清洗方法
258 一种用于化学机械研磨的抛光液
259 化学机械研磨用研磨液以及使用了该研磨液的基板的研磨方法
260 化学机械研磨的方法及系统
261 一种化学机械研磨工艺建模的实验方法
262 一种化学机械研磨工艺建模的集成电路版图结构
263 借助多区域研磨液输送的化学机械抛光
264 化学机械研磨剂及化学机械研磨方法
265 化学机械研磨方法
266 化学机械研磨终点的检测方法
267 用于化学机械研磨机台的制造程序控制方法及其控制系统
268 化学机械研磨的残留物去除方法
269 化学机械研磨装置、化学机械研磨方法以及控制程序
270 掩膜版版图及其监测化学机械研磨工艺窗口的方法
271 一种化学机械研磨设备
272 化学机械研磨设备、方法及系统
273 化学机械研磨的方法
274 一种化学机械研磨中的研磨液供应系统
275 化学机械抛光研磨液输送系统及化学机械抛光研磨设备
276 化学机械研磨设备的调节器及调节方法
277 研磨头及化学机械研磨机台
278 化学机械研磨金属的方法
279 化学机械研磨设备及使用该化学机械研磨设备的研磨方法
280 化学机械研磨装置
281 一种减少埋层空洞型SOI晶片化学机械研磨破裂的工艺
282 化学机械研磨装置以及化学机械研磨方法
283 一种化学研磨去除钢铁件毛剌的工艺方法
284 填充有金属的沟槽结构及形成方法及化学机械研磨方法
285 多晶硅化学机械研磨工艺的研磨垫预研磨方法
286 用作化学机械平坦化垫修整器的研磨工具
287 化学机械研磨装置和方法
288 化学机械研磨(CMP)浆料的使用点回收系统
289 晶圆表面的化学机械研磨方法
290 化学机械研磨工艺的返工方法
291 利用化学机械研磨设备对晶片返工的方法
292 化学机械研磨的方法及装置
293 化学机械研磨方法和系统
294 化学机械研磨方法和研磨设备
295 基于浅沟道隔离技术的化学机械研磨终点检测方法及系统
296 一种化学机械研磨设备
297 化学机械研磨浆液回收再利用系统及其方法
298 一种实现化学机械研磨过程中抛光液温度控制的系统
299 一种化学机械研磨过程中研磨垫的温度控制系统
300 化学机械研磨中的清洗方法
301 聚氨酯及含有它的研磨层形成用组合物、以及化学机械研磨用垫及使用它的化学机械研磨方法
302 一种改善化学机械研磨研磨均匀度的方法
303 减少化学机械研磨后铜互连结构材料损伤的方法
304 包含未离子化热活性纳米催化剂的化学机械研磨浆料组合物、以及利用该组合物的研磨方法
305 降低固定研磨粒化学机械研磨设备的记忆效应的方法
306 化学机械研磨方法
307 内燃机凸轮表面电化学研磨加工方法及装置
308 一种化学机械研磨装置
309 一种固定磨料化学机械研磨装置
310 化学机械研磨设备中的金刚石修整器的修整能力识别方法
311 化学机械抛光研磨液动压分布和研磨去除率的确定方法
312 化学机械研磨中的清洗系统的清洗方法
313 一种化学机械研磨方法
314 化学机械研磨设备及其研磨单元
315 一种化学机械研磨装置
316 制造细研磨垫的方法以及化学机械研磨方法
317 化学机械研磨设备及其研磨单元
318 一种铜化学机械研磨方法及设备
319 识别化学机械研磨设备的研磨性能的方法
320 化学机械研磨装置
321 化学机械研磨方法和半导体晶片清洗方法
322 化学机械研磨控制方法及装置、化学机械研磨方法及设备
323 一种化学机械研磨的方法
324 化学机械研磨后清洗方法以及化学机械研磨方法
325 一种化学机械研磨方法
326 化学机械研磨后清洗方法以及化学机械研磨方法
327 基于光谱的监测化学机械研磨的装置及方法
328 化学机械研磨机台
329 研磨垫清洗用高压去离子水喷射装置及化学机械研磨设备
330 化学机械研磨方法
331 用于补偿化学机械研磨耗材中可变性的设备及方法
332 用以于化学机械研磨期间减少基材边缘应力的基板固持件
333 化学机械研磨方法
334 化学机械研磨用水系分散体及利用其的化学机械研磨方法
335 化学机械研磨系统及使用该系统研磨晶片的方法
336 化学机械研磨设备
337 用于化学机械研磨的研磨垫以及化学机械研磨设备
338 化学机械研磨设备以及化学机械研磨方法
339 化学机械研磨去除率计算的方法及设备
340 铜晶圆研磨的化学平坦化
341 改善钨栓化学机械研磨表现的方法
342 一种化学机械研磨方法
343 一种用于浅沟槽隔离结构的化学机械研磨方法
344 铝金属栅化学机械研磨去除率的确定方法和系统
345 铜化学机械研磨终点检测装置及方法
346 化学机械研磨方法
347 用于化学研磨装置的研磨头及其化学研磨装置
348 防止晶片滑片的化学机械研磨方法
349 一种化学机械研磨方法
350 延长研磨垫使用周期的化学机械研磨方法
351 用于微机电系统的化学机械研磨处理流程
352 化学机械研磨垫的双重修整系统及相关方法
353 改善接触孔之钨化学机械研磨后平坦性的方法
354 化学机械研磨装置及化学机械研磨方法
355 化学机械研磨速率控制方法
356 一种化学机械研磨设备
357 金属研磨保护装置及保护方法、化学机械研磨系统
358 化学机械研磨装置及系统
359 化学机械研磨装置及使用该装置对硅片进行研磨的方法
360 一种用于化学机械研磨的研磨垫
361 化学机械研磨装置及研磨过程中处理晶片的方法
362 一种化学机械研磨方法
363 化学机械研磨设备
364 化学机械研磨设备
365 一种化学机械研磨工艺中晶圆表面清洗液配置的优化方法
366 一种化学机械研磨液配置优化的方法
367 一种化学机械研磨液配置优化的方法
368 化学机械研磨装置
369 化学机械研磨装置及其方法
370 化学机械研磨装置及系统
371 具有平坦化尖端的化学机械研磨垫修整器及其相关方法
372 化学机械研磨的方法
373 一种SiC单晶片研磨工序用固结磨料化学机械研磨盘
374 化学机械研磨设备
375 化学机械研磨设备
376 研磨工件用研磨垫、化学机械研磨装置及用该化学机械研磨装置研磨工件的方法
377 一种无腐蚀性的半导体化学机械研磨剂
378 一种新型化学机械研磨用研磨剂
379 一种半导体化学机械研磨组合物
380 一种化学机械研磨用研磨剂
381 一种化学机械研磨组合物
382 一种高性能环保化学机械研磨组合物
383 一种用于化学研磨机台的水箱系统
384 用于化学机械研磨制程的激光衬垫窗口
385 用于W-CMP的化学机械研磨装置及研磨方法
386 一种化学机械研磨方法、模块及装置
387 观察化学机械研磨工艺中对金属腐蚀情况的方法
388 一种化学机械研磨方法及装置
389 研磨装置及利用该装置改善化学机械研磨均匀度的方法
390 化学机械研磨装置及其方法
391 化学机械研磨装置及研磨方法
392 化学机械研磨作业方法
393 一种应用于FINFET结构的化学机械研磨方法
394 降低晶圆被刮伤的方法、化学机械研磨机台及清洗器
395 用于多晶硅化学机械研磨制程中缺陷检测晶圆的制作方法
396 单片式化学研磨装置
397 电化学复合磁力研磨加工装置及其方法
398 化学机械研磨方法与自我对准方法
399 多垫式化学机械研磨装置
400 用作化学机械平坦化垫修整器的研磨工具
401 一种化学机械研磨后的清洗装置
402 化学机械研磨方法和半导体结构的形成方法
403 一种化学机械研磨组合物
404 一种半导体化学机械研磨剂
405 一种半导体化学研磨剂
406 化学研磨装置
407 一种内燃机凸轮轴的凸轮表面带反向脉冲的电化学复合砂带研磨光整加工方法
408 一种内燃机凸轮轴的凸轮表面带反向脉冲的电化学复合抛光轮研磨光整加工方法
409 一种内燃机凸轮轴的凸轮表面带反向脉冲的电化学复合油石超精研磨光整加工方法
410 化学机械研磨设备及其防止化学机械研磨残留的方法
411 一种防止化学机械研磨时微观刮伤的研磨方法
412 化学机械研磨之研磨垫的清洗装置及其方法
413 一种检测源极多晶硅经化学机械研磨后表面异常的方法
414 印刷式化学机械研磨垫
415 化学机械研磨设备的环扣钢圈装置
416 化学机械研磨之研磨液供给装置
417 含硅有机化合物在延长化学机械抛光液中研磨颗粒稳定性中的应用
418 一种化学机械研磨组合物
419 化学研磨装置
420 化学研磨装置
421 用于FinFET多晶硅化学机械研磨的设备及方法
422 化学机械研磨装置
423 化学机械研磨机台的改良型喷头结构
424 化学机械研磨机台的清洗装置
425 一种化学机械抛光研磨头
426 一种改进型化学机械研磨液容器
427 用于化学机械研磨装置的研磨台间清洗装置
428 化学机械研磨机台排放管
429 用于化学机械研磨的清洗垫
430 化学机械研磨机台的夹钳用锁环螺接结构
431 化学机械研磨装置
432 化学机械研磨抛光头压力环安装装置
433 化学机械研磨装置
434 化学机械研磨设备
435 化学机械研磨设备的清洗装置
436 研磨头组件的清洗装置以及化学机械研磨设备
437 清洗装置以及化学机械研磨设备
438 化学机械研磨用金刚石修整器
439 液体输送系统和化学机械研磨装置
440 研磨液手臂以及化学机械研磨设备
441 电化学与磁性研磨复合的复合加工系统
442 一种用于化学机械研磨的定位环
443 晶圆研磨定位环以及化学机械研磨设备
444 一种化学机械研磨样品固定工具
445 化学机械研磨设备
446 化学机械研磨头限位环的使用寿命自动测量装置
447 化学机械研磨设备
448 晶圆清洗装置以及化学机械研磨设备
449 一种化学机械研磨设备
450 一种化学机械研磨测试设备
451 一种化学机械研磨设备
452 一种化学机械研磨设备
453 一种化学机械研磨测试设备
454 一种化学机械研磨垫及化学机械研磨设备
455 一种化学机械研磨设备
456 固定研磨料的化学机械研磨设备
457 研磨头及化学机械研磨设备
458 一种化学机械研磨装置
459 一种化学机械研磨装置
460 用于化学机械研磨的固定环
461 一种化学机械研磨装置
462 双倍产量的化学机械研磨机台
463 一种化学机械研磨头的夹具
464 气体小环境装置以及化学机械研磨机台
465 研磨垫及化学机械研磨机台
466 研磨垫调整器清洗装置及化学机械研磨装置
467 化学机械研磨头
468 化学机械研磨修整器
469 气吹单元及化学机械研磨设备
470 固着磨料化学机械研磨设备
471 一种适合化学实验室教学使用的研磨设备
472 研磨调整装置及化学机械研磨装置
473 研磨调整装置及化学机械研磨装置
474 化学机械研磨装置
475 一种带有自动清洗装置的化学机械抛光研磨液供应系统
476 一种研磨电化学试样的夹具
477 研磨工件用研磨垫及化学机械研磨装置
478 基座系统以及化学机械研磨装置
479 应用于300毫升化学机械研磨的泥浆装置
480 化学机械研磨修整器
481 化学机械研磨修整器
482 化学机械研磨固定具
483 化学机械研磨设备
484 一种化学机械研磨垫
485 一种化学机械研磨垫
486 一种化学机械研磨组件
487 化学机械研磨机台及其研磨液供给手臂
488 终点探测装置和化学机械研磨装置
489 化学实验用研磨装置
490 一种化学机械研磨装置
491 微气泡发生器的微探针电化学研磨装置
492 一种化学机械抛光研磨液过滤装置
493 研磨头清洗装置和化学机械研磨设备
494 一种化学材料颗粒的多级研磨装置
495 一种高分子化学颗粒材料超声振动研磨装置
496 化学机械研磨刷子及化学机械研磨装置
497 研磨垫调整器和化学机械研磨装置
498 化学机械研磨机台
499 研磨垫调整器清洗装置及化学机械研磨装置
500 化学机械研磨装置
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2、资料说明:资料都是国家专利文献原版全文内容,含技术背景/原理、材料配方比例、制作方法、工艺步骤、技术关键、结构设计图(部分设备类有),以及发明人姓名、地址/邮编、申请日期、专利号、权利要求等详细信息。每一项专利文献的内容详略都是不同的,平均每一项4-10页,多的有几十页的。