资料价格：198元

1 电激发光元件的制造方法及蒸镀遮罩
2 电激发光显示板的制造方法及蒸镀遮罩
3 利用等离子体的高分子膜连续蒸镀装备的电极固定装置
4 一种用于半导体激光器腔面蒸镀的非接触固定方式的夹具
5 真空电弧蒸镀方法及装置
6 制作电致发光显示器的、使用电磁铁的蒸镀装置及采用此装置的蒸镀方法
7 真空蒸镀聚合装置及采用该装置的有机被膜的形成方法
8 CVD用原料化合物及铱或铱化合物薄膜的化学气相蒸镀方法
9 真空蒸镀用掩模和用该掩模制造的有机电致发光显示面板
10 CVD用原料化合物以及钌或钌化合物薄膜的化学气相蒸镀方法
11 蒸镀方法及显示装置的制造方法
12 蒸镀方法及显示装置的制造方法
13 一氧化硅蒸镀材料及其制造方法、制造原料和制造装置
14 一种用于热浸涂镀及真空蒸镀的两用连续涂镀设备
15 蒸镀用的氧化钇组成物及反射防止膜的制造方法
16 用于生产高折射率光学涂层的蒸镀用材料
17 用于生产中折射率光学涂层的蒸镀用材料
18 一种化合物半导体锑化铟薄膜真空蒸镀方法
19 在光学基片上蒸镀镀膜的真空镀膜设备
20 在光学基片上蒸镀镀膜的方法
21 免蒸镀的硬式带式自动焊接封装方法
22 锌蒸镀薄膜及金属化薄膜电容器
23 金属蒸镀薄膜、其制造方法及使用它的电容器
24 蒸镀装置
25 真空蒸镀设备用的蒸镀装置
26 蒸镀装置
27 阴极电弧蒸镀方式淀积类金刚石碳膜的制备方法
28 层压薄膜和使用它的蒸镀薄膜
29 有机泡沫导电化处理的真空蒸镀法及设备
30 用于真空蒸镀和有机电荧光器件的设备和方法
31 彩色阴极射线管及其制造方法和蒸镀用复合材料
32 用于镭射压印蒸镀的双向拉伸聚丙烯基膜及其制造方法
33 蒸镀用坩埚
咨 200710166115.8 35 采用等离子体CVD法的蒸镀膜
36 蒸发源以及使用该蒸发源的真空蒸镀装置
37 通过表面波等离子体形成蒸镀膜的方法及装置
38 蒸镀装置
0 200710025480.7 40 预熔钛酸镧晶质蒸镀材料制备方法
5 200580051108.2 42 真空蒸镀用校准装置
/ 200810004206.6 44 用于镭射压印蒸镀的双向拉伸聚丙烯基膜
8 02292829.4 46 一种用于真空蒸镀的样品支架
1 01239286.3 48 真空蒸镀装置
9 200410047549.2 50 蒸镀掩模及制法、显示装置及制法以及具有其的电子机器
7 02821221.5 200410054021.8 53 除尘装置、蒸镀机台及以其进行清洁遮罩的方法
5 200410066241.2 55 氧化镁蒸镀材料
1 02827735.X 57 卷绕式真空蒸镀方法及卷绕式真空蒸镀装置
8 200510006398.0 59 真空蒸镀机
5 200410086274.3 61 高温超导薄膜双面蒸镀技术及其装置
9 03814054.3 63 α型晶体结构为主体的氧化铝被膜制造方法、α型晶体结构为主体的氧化铝被膜和含该被膜的叠层被膜、以该被膜......
64 蒸镀工序用喷嘴蒸发源
QQ 02125790.6 66 利用等离子体的高分子膜连续蒸镀装置清洗方法
1 02129143.8 68 真空蒸镀用多面成形掩模装置
4 03178764.9 70 蒸镀方法及蒸镀装置
6 200310101703.5 72 蒸镀装置
3 200410003319.6 74 掩模蒸镀方法及装置、掩模及其制造方法、显示板制造装置
5 03104834.X 03126787.4 02815548.3 02814902.5 200410005882.7 02816621.3 03128583.X 200610006396.6 200610006601.9 200510092373.7 200480019422.8 200510068716.6 200380101029.9 200380107480.1 200510088688.4 200510093332.X 200510096608.X 200410074219.2 200410084032.0 200410086951.1 200410088841.9 200510126935.5 200410077425.9 200510111778.0 200510108161.3 200510008424.3 200480014788.6 200510101380.9 200480016301.8 200510098036.9 200610091638.6 200610091777.9 200610089426.4 200510068715.1 200510085164.X 200610100547.4 200510123337.2 200510089033.9 200580009704.4 200580011103.7 200580013553.X 200580014651.5 200580016584.0 200610119350.5 200510101739.2 200580023452.0 200610156631.8 200710002409.7 200610033200.2 200580029460.6 200580029459.3 200710084481.9 200580030937.2 200610065463.1 200610040583.6 200710110596.0 200710110597.5 200710108757.2 200680003252.3 200610098932.X 200680005522.4 200680000288.6 200680006394.5 200680006236.X 200710148517.5 200680036514.6 200810025164.4 200810025557.5 200810122444.7 200810138505.9 200810122443.2 200680046804.9 200710023738.X 200780001375.8 200710141946.X 200710066258.1 200710305715.8 200710305718.1 200710305719.6 200780010873.9 200780014294.1 200710202698.5 200810185279.X 200810185280.2 200680054700.2 200810184353.6 200810190684.0 200910002040.9 200780023547.1 200780033290.8 200880000483.8 200880003779.5 200810302508.1 200910087009.X 200880006232.0 200880007035.0 200880007708.2 200880009698.6 200880010533.0 200810195904.9 200810120429.9 200810120431.6 200810195905.3 200880020574.8 200880002642.8 200810200950.3 200810224631.6 200910312472.X 200910241921.6 200810225523.0 03219715.2 03226073.3 03226074.1 200420028374.6 200420009741.8 200520103205.9 200520114232.6 200520120559.4 200620017941.7 200720103895.7 200720060295.7 200720098595.4 200820106959.3 200820054645.3 200820301891.4 200820163668.8 200920106290.2 200920078370.1 200920109151.5 一种用扫描蒸镀制膜设备