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1 用于改进相移掩模成像性能的装置和系统及其方法
2 相移掩模
3 检测相移掩模相偏差的方法
4 相移掩模及其制备方法
5 相移掩模及其制造方法
6 制造半色调式相移掩模的方法
7 利用相移掩模技术的光学制版方法
8 相移掩模
9 半色调式相移掩模及其制造方法
10 半色调式相移掩模及其制备方法
11 使用相移掩模在半导体器件中制造细环形电荷存储电极的方法
12 相移掩模及其制造方法
13 相移掩模
14 相移掩模及其制造方法
15 衰减镶嵌相移光掩模空白片
16 多层衰减相移掩模
17 衰减相移掩模及其制作方法
18 用于检查交替相移掩模的方法和系统
19 光掩模的制造方法和相移掩模的制造方法
20 差分交替相移掩模优化
21 相移光掩模及其制造方法
22 衰减相移掩模坯件和光掩模
23 用于相移光刻掩模的光学接近校正
24 校正在三色调衰减相移掩模中邻近效应的结构和方法
25 嵌入式衰减相移光掩模坯料
26 对0相位区域附加并行线以增强透明电场相移位掩模的方法
27 在交替相移掩模中着色局部着色的设计的系统
28 形成凸缘相移掩模及利用凸缘相移掩模来形成半导体器件的方法
29 利用衰减的相移掩模图案化晶片上的光刻胶的方法
30 去除相移掩模上生长的杂质的方法
31 衰减相移掩模坯体和光掩模 1331~OOl8~778
32 相移掩模对准方法和器件
33 改善晶圆上结构的可印制性的相移光掩模及方法
34 检验相移光掩模的相移角的方法、光刻工艺与相移光掩模
35 相移式掩模及其制备方法与制备半导体元件的方法
36 Levenson型相移掩模及其制造方法
37 有可调透光率的嵌入式衰减相移掩模
38 将背面曝光用于嵌入式相移掩模聚焦离子束蚀刻的方法
39 提供通过不同相移孔径的平衡光强度的相移掩模及形成这种相移掩模的方法
40 相移掩模及其制造方法以及半导体元件的制造方法
41 采用数字相移的无掩模光刻方法和装置
42 双吸收层衰减相移掩模衍射场及偏振度的计算方法
43 带辅助线条的双吸收层衰减相移掩模衍射场的计算方法
44 带辅助线条的双层衰减相移L/S掩模锥形衍射场的计算方法
45 双吸收层交替相移接触孔掩模衍射场的计算方法
46 相移光掩模和图案化方法
47 相移光掩模制作方法
48 相移掩模坯料及其制造方法、以及相移掩模
49 相移光掩模制作方法
50 一种衰减相移掩模
51 一种用于X射线光刻的相移掩模
52 光刻技术中的漩涡相移掩模
53 衰减极端紫外相移掩模的制造方法
54 相移掩模
55 结晶装置、结晶方法及所使用的相移掩模和滤波器
56 三色调衰减相移掩模的自对准制造技术
57 一种设计交替相移掩模的方法
58 用于制造多层的衰减相移光掩模坯件的离子束淀积工艺
59 用于制造衰减相移光掩模坯的离子束沉积方法
60 相移光刻掩模的曝光控制
61 相移光刻掩模的设计和布局
62 用于相移掩模的嵌入式蚀刻阻止层
63 相移掩模及用它的图形的形成方法和电子器件的制造方法
64 交错相移掩模的制造方法
65 用于修补交替相移掩模的方法
66 制造半调相移掩模的方法
67 交替相移光刻的三色调修整掩模
68 相移光刻掩模的设计和布局
69 相移掩模
70 相移掩模遮光层残留物修复方法
71 双吸收层交替相移掩模衍射场的计算方法
72 使用相移掩模的光刻发光二极管制作
73 一种基于相移莫尔条纹的数字无掩模光刻对准装置
74 带辅助线条的双层衰减相移接触孔掩模衍射场的计算方法
75 双吸收层交替相移L/S掩模锥形衍射场的计算方法
76 有辅助相位区的相移掩模
77 相移光掩模制作方法
78 相移光掩模制作方法
79 相移光掩模制作方法
80 相移光掩模制作方法