铬膜加工技术 无铬膜层相位移光罩设计工艺【小套】
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资料编号：ZL-16886w
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资料价格：198元
1 使用铬膜辅助图形的无铬膜相转移光罩
2 电解式掩膜铬膜的蚀刻制程方法
3 无铬膜层相位移光罩及其制造方法与制造半导体装置方法
4 无铬膜层相位移光罩
5 焦磷酸盐电镀锡-钴-锌三元合金代铬膜的方法
6 用于退除碳化铬膜的溶液和方法
7 一种退除基材表面氮化铬膜的方法
8 一种氮化铬膜层的退除液及该膜层的退除方法
9 一种锌铬膜发黑剂
10 电解退除碳化铬膜层的退镀液及方法
11 一种表层贴有镀铬膜的压塑广告标签
温馨提示
1、资料格式：资料全部为PDF格式文件，可复制到电脑自由阅读、打印，也可以用手机阅读，方便快捷，没有任何限制，所有文件均保证正常打开。
2、资料说明：资料都是国家专利文献原版全文内容，含技术背景/原理、材料配方比例、制作方法、工艺步骤、技术关键、结构设计图（部分设备类有），以及发明人姓名、地址/邮编、申请日期、专利号、权利要求等详细信息。每一项专利文献的内容详略都是不同的，平均每一项4-10页，多的有几十页的。
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