光刻胶膜制备方法 光刻胶膜配方 光刻胶膜生产加工方法【小套】
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资料价格：198元
1 将干燥光刻胶膜层热层压到印刷电路板上的方法
2 检测涂敷在晶片上的光刻胶膜微观厚度差的方法
3 在半导体器件上形成光刻胶膜的装置及其形成方法
4 光刻胶膜去除方法及其所用装置
5 光刻胶膜卷材及其制造方法
6 光刻胶膜除去装置和光刻胶膜除去方法及有机物除去装置和有机物除去方法
7 模具式涂布器涂布方法及以此法制的光刻用防护胶膜组件
8 防护胶膜框架及利用此框架的光刻用防护胶膜组件
9 光刻用防护胶膜组件及防护胶膜框架
10 光刻胶液制备方法及使用该光刻胶液的光刻胶膜
11 光刻胶剥离组合物和使用其剥离光刻胶膜的方法
12 感光性树脂组合物及使用该组合物的光刻胶膜
温馨提示
1、资料格式：资料全部为PDF格式文件，可复制到电脑自由阅读、打印，也可以用手机阅读，方便快捷，没有任何限制，所有文件均保证正常打开。
2、资料说明：资料都是国家专利文献原版全文内容，含技术背景/原理、材料配方比例、制作方法、工艺步骤、技术关键、结构设计图（部分设备类有），以及发明人姓名、地址/邮编、申请日期、专利号、权利要求等详细信息。每一项专利文献的内容详略都是不同的，平均每一项4-10页，多的有几十页的。
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