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 60 交联聚合物、有机抗反射涂层组合物及形成光刻胶图案的方法
61 光刻术的方法
62 步进扫描投影光刻机同步总线控制器及同步控制系统
63 步进扫描投影光刻机的高速同步广播总线及总线平台
64 一种双面光刻机底面套刻对准方法
65 光刻胶膜除去装置和光刻胶膜除去方法及有机物除去装置和有机物除去方法
66 步进扫描投影光刻机中的杂散光原位检测方法
67 光刻机成像质量的检测方法
68 步进投影光刻机双台轮换曝光超精密定位硅片台系统
69 可溶于光致抗蚀剂显影液的有机底部抗反射组合物及使用该组合物的光刻和蚀刻方法
70 一种凹球面光刻刻划机
71 器件制造方法和所制出的器件以及计算机程序和光刻装置
72 在光刻机中用于从主室气体隔离光源气体的方法和设备
73 基于压印光刻的复合材料真三维微电子机械系统制造方法
74 光刻设备、装置制造方法和计算机程序
75 校准光刻装置的方法
76 用于光刻机的数字可调双环电机控制器及其数字调节方法
77 从光刻胶和/或剥离液中回收有机化合物的方法
78 用于投影光刻机的调焦调平传感器
79 光刻机投影物镜奇像差原位检测方法
80 计算机模拟光刻工艺的参数拟合方法
81 一种步进扫描投影光刻机多总线时序同步控制方法
82 光点格栅阵列光刻机
83 步进扫描光刻机双台交换定位系统
84 光刻机同步时序控制串行数据通讯方法和系统及应用
85 保持光刻机高速同步控制时序信号完整性的方法
86 光刻机成像光学系统像差现场测量方法
87 浸没式光刻机浸液流场维持系统
88 用于有机硅化物玻璃的一氧化二氮去除光刻胶的方法
89 基底、光刻多次曝光方法和可机读介质
90 一种光刻机
91 一种投影式光刻机中硅片平台高度控制系统及方法
92 移相光栅标记及利用该标记检测光刻机成像质量的方法
93 一种步进扫描光刻机隔振系统模拟试验装置
94 光刻机台、显影装置及其显影方法
95 一种用于步进扫描光刻机的精密隔振系统
96 测试标记及利用该标记检测光刻机成像质量的方法
97 步进扫描光刻机晶片台掩模台同步控制系统
98 光刻设备、校准方法、器件制造方法和计算机程序产品
99 光刻机工件台平衡定位系统
100 由透镜组组成的光刻机曝光镜头的结构及装调方法
101 垂向微调及重力补偿装置与光刻机
102 凸点光刻机的曝光方法
103 防止静电聚集的光刻胶涂布机承载盘
104 光刻机工件台平衡定位系统
105 一种光刻机硅片台双台交换系统
106 光刻机投影物镜彗差原位检测系统及检测方法
107 具有平面电机驱动支架的光刻设备
108 用于投影扫描光刻机的对准方法及微器件制造方法
109 用于测量光刻机像场弯曲分布的装置和方法
110 光刻机离轴水平和对焦探测控制系统及其实现方法
111 具有对焦机构的直写光刻装置
112 多平台光刻机硅片水平控制和自动对焦系统及其实现方法
113 器件制造方法、计算机程序和光刻设备
114 光刻机成像质量及工件台定位精度的测量系统与测量方法
115 一种用于光刻机调焦系统性能评价的装置及方法
116 用于多路激光刻划机的光功率均衡器
117 一种光刻机物镜点光源工作条件下杂光系数测试装置
118 一种光刻机物镜掩膜照明条件下杂光系数测试装置
119 用于光刻机的调焦调平装置及测量方法
120 一种用于光刻技术的无机热阻膜
121 光刻机照明均匀性补偿片的制造方法
122 掩模版及使用掩模版调式光刻机套刻精度的匹配方法
123 一种光刻机的监测系统及光刻机的监测方法
124 用于步进光刻机对准系统的测校装置及其测校方法
125 用于光刻机浸没控制装置
126 光刻机抗蚀剂成像仿真三维交互显示方法
127 一种光刻机投影物镜波像差在线测量装置及方法
128 平面反射式复眼冷光源曝光系统及其光刻机
129 一种光刻机同步触发在线诊断方法及系统
130 控制系统、光刻投影设备、控制方法和计算机程序产品
131 一种光刻机曝光系统及其控制方法
132 用于光刻机的浸没自适应密封控制装置
133 用于光刻机的浸没液体回收减振控制装置
134 光刻机掩模预对准系统
135 一种用于浸没式光刻机的浸没控制装置
136 多通道非晶硅太阳能板激光刻膜机
137 降低光刻机镜头畸变引起的光刻对准偏差的方法
138 一次掩膜光刻同时定义有机薄膜晶体管源漏栅电极的方法
139 无掩膜光子电子点格栅阵列光刻机
140 一种纳米压印光刻机
141 投影式光刻机
142 一种用于光刻机的浸没自适应气体密封装置
143 用于光刻机的浸没液体供给及回收控制装置
144 投影式光刻机
145 光刻机投影物镜波像差测量装置及方法
146 一种用于光刻机的浸没流场稳定装置
147 浸没光刻机的浸液供给装置
148 光刻机扫描曝光系统及其扫描曝光方法
149 用于光刻机预对准系统的硅片放置装置
150 光刻机扫描曝光方法
151 光刻机工件台移动调整装置及方法
152 一种用于光刻机的浸没自适应旋转密封装置
153 一种光刻机工件台垂向测量系统的校准方法
154 基于二极照明的光刻机投影物镜奇像差的检测系统和方法
155 光刻机投影物镜温度控制方法
156 一种光刻机硅片台双台交换系统
157 一种光刻机硅片台双台交换系统
158 平移对称标记及光刻机投影物镜波像差原位检测方法
159 一种获取光刻机最佳参数的方法及装置
160 确定曝光设置的方法、光刻曝光设备、计算机程序和数据载体
161 光刻机工件台平衡定位系统
162 一种光刻机硅片台双台交换系统
163 减振支撑装置及采用该减振支撑装置的光刻机
164 光刻机控制系统
165 光刻机曝光强度与均匀度的管理方法
166 光刻机投影物镜的温度控制装置
167 光刻机硅片台移动装置及采用该移动装置的光刻机
168 一种光刻机投影物镜波像差的现场测量装置
169 光刻机硅片对准信号的处理方法
170 半导体工艺中光刻机台的控制方法及装置
171 光刻机透镜像差的检测装置及其方法
172 用于浸没式光刻机的柔性密封和自适应回收装置
173 器件制造方法、光刻设备和计算机程序
174 不同倍率光刻机之间的套刻精度的测量方法
175 可标定系统误差的光刻机投影物镜波像差在线检测装置
176 一种光刻机台的光刻灯的自动置换方法和装置
177 一种具有多掩模的光刻机硅片台系统
178 一种多掩模的光刻机硅片台系统
179 一种呈阵列布置的多掩模光刻机硅片台系统
180 一种投影光刻物镜中的镜片倾斜微调机构
181 一种投影光刻物镜中的镜片偏心微调机构
182 一种光刻机硅片台双台交换方法及系统
183 光刻机对准方法
184 光刻机硅片台双台交换系统及其交换方法
185 利用接触式光刻机提高丝网印刷精确对准装置及其方法
186 光刻机硅片承载台及其使用方法
187 一种采用多关节机械手的光刻机硅片台的线缆台
188 光刻机的双工件台系统
189 一种将GDSⅡ文件转换为无掩模光刻机曝光数据的方法
190 PVDF有机聚合物薄膜电容器的光刻制备方法
191 一种光刻机对准信号多通道采集校准装置
192 一种确定光刻机最佳焦面位置的装置及方法
193 一种照明均匀性补偿装置及具有该装置的光刻机
194 一种直写光刻机的自动聚焦光路结构
195 具有标定精度功能的光刻机投影物镜波像差在线检测装置
196 一种光刻机投影物镜波像差在线检测装置及方法
197 曝光机台、阵列基板、图案化薄膜、光刻胶层及形成方法
198 一种圆柱面光栅光刻刻划机
199 一种带反馈控制的激光刻蚀机
200 纳米压印光刻机
201 一种自控液晶光阀组光刻快门机构
202 自动卷带式光刻丝网涂胶机
203 导光板及生产导光板的激光刻绘机
204 带蓝光刻录的数字视频摄像机
205 一种光刻机的晶舟锁紧装置
206 具有指纹识别功能的数字激光刻录式视盘机
207 具有虹膜识别功能的数字激光刻录式视盘机
208 具有LED光源的直写光刻机
209 具有超高强度LED光源的无掩膜直写光刻机
210 光刻机投影物镜偶像差原位检测系统
211 采用十字导轨的光刻机硅片台双台交换装置
212 采用传送带结构的光刻机硅片台双台交换装置
213 采用过渡承接装置的光刻机硅片台双台交换系统
214 直写式光刻机曝光控制系统
215 光刻机曝光系统
216 用于多路激光刻划机的光功率均衡器
217 一种用于光刻机浸没控制装置
218 手持式可移动激光刻码机
219 蓝光刻录机用液晶显示屏支架
220 生产非晶硅薄膜太阳能电池用激光刻膜机
221 一种光刻机硅片台双台交换装置
222 一种光刻机硅片台双台交换装置
223 激光刻线机及基板传送装置
224 呈阵列布置的多掩模光刻机硅片台系统
225 可移动激光刻码机
226 具有OLED光源的直写光刻机
227 具有多掩模的光刻机硅片台系统
228 多掩模的光刻机硅片台系统
229 准分子光刻机多照明条件的照明均一性补偿装置
230 光刻机的晶片传送机构