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硅片的抛光方法 硅片液体抛光方法 硅片抛光装置原理结构图【小套】

点击数: 更新时间:2021-05-24 22:34
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资料编号:ZL-14081

资料价格:198元

1 溶胶型硅片抛光剂
2 一种自动调节化学机械抛光设备硅片研磨压力的方法
3 一种高去除低划伤的硅片化学机械抛光组合物及制备方法
4 一种硅片的抛光方法
5 硅片抛光大盘
6 硅片的抛光方法
7 高稀释比和高稳定性的硅片化学机械抛光组合物
8 一种定盘边缘抛光布割布的硅片抛光方法
9 一种利用水圈进行硅片抛光方法
10 一种去除半导体硅片表面缺陷的抛光组合物及其制备方法
11 硅片无蜡抛光垫
12 硅片抛光机头吸盘
13 一种用于硅片无蜡抛光的整体式抛光陶瓷盘
14 一种手持取双面抛光硅片的工具
15 一种大直径硅片双面抛光后的手持取片工具
16 一种太阳能硅片抛光器
17 一种提高硅片平整度的抛光头
18 一种太阳能硅片单面抛光设备上的抛光盘
19 硅片抛光大盘
20 半导体硅片化学机械抛光用清洗液
21 硅片背面干法喷砂制造吸杂源、消除硅抛光表面氧化雾的工艺方法
22 硅片抛光表面划伤的控制方法
23 用于单晶硅片化学机械抛光的抛光液
24 一种大尺寸硅片用化学机械抛光液及其制备方法
25 应用于硅片化学机械抛光设备中的定位转换装置
26 化学机械抛光设备硅片清洗装置
27 一种硅片抛光方法 133^1OO^^l87^78
28 化学机械抛光设备硅片定位装片装置
29 硅片单面化学机械抛光方法和装置
30 核/壳型复合纳米磨料硅片抛光液
31 具有特殊缓冲体系的硅片化学机械抛光液
32 一种降低硅片表面微划伤的抛光液及其制备和使用方法
33 单晶硅片液体抛光方法
34 应用于化学机械抛光设备中的硅片定位装载装置
35 一种硅片化学机械抛光浆料配方
36 表面改性纳米磨料硅片抛光液
37 一种实现硅片单面抛光的方法
38 单晶抛光硅片背损伤装置移动托架
39 化学机械抛光设备的硅片清洗装置
40 应用于硅片化学机械抛光设备中的机械手终端夹持执行器
41 应用于硅片化学机械抛光设备中的抛光头磁性夹紧装置
42 化学机械抛光设备的硅片固定装置
43 一种大直径硅片抛光装置
44 一种硅片抛光装置
45 硅片抛光盘
46 硅片表面抛光片
47 一种硅片抛光用游轮片

温馨提示

1、资料格式:资料全部为PDF格式文件,可复制到电脑自由阅读、打印,也可以用手机阅读,方便快捷,没有任何限制,所有文件均保证正常打开。

2、资料说明:资料都是国家专利文献原版全文内容,含技术背景/原理、材料配方比例、制作方法、工艺步骤、技术关键、结构设计图(部分设备类有),以及发明人姓名、地址/邮编、申请日期、专利号、权利要求等详细信息。每一项专利文献的内容详略都是不同的,平均每一项4-10页,多的有几十页的。

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