资料价格：198元

1. 200810145013 检验方法和设备、光刻设备、光刻单元和器件制造方法
2. 200880120635 光刻设备、用于调平物体的方法以及光刻投影方法
3. 200810074072 检验方法和设备、光刻设备、光刻单元和器件制造方法
4. 200810226331 光刻预处理方法及光刻方法
5. 200880017510 微光刻的投射物镜、具有所述投射物镜的微光刻投射曝光装置、部件的微光刻制造方法以及使用该方法制造的部件
6. 200810009099 检验方法和设备、光刻设备、光刻处理单元和器件制造方法
7. 200980105437 包括磁体的光刻设备、保护光刻设备中的磁体的方法以及器件制造方法
8. 200910053501 钝化光刻胶表面的方法以及光刻方法
9. 200910132305 光刻用掩模及光刻用掩模数据的形成方法、背照射型固体摄像器件及其制造方法和电子装置
10. 200810173372 用于测量光刻投影设备的聚焦的方法
11. 200810104223 利用Ｓ１８系列正性光刻胶制作倒梯形剖面结构的方法
12. 200810096275 光刻设备和传感器校准方法
13. 200810080999 光刻设备和方法
14. 200810009480 确定前馈传递函数的方法、光刻设备和器件制造方法
15. 200810202975 探针诱导表面等离子体共振光刻装置及其光刻方法
16. 200810163137 利用微纳光纤进行直写光刻的方法
17. 200810120205 筷子激光雕刻方法及其筷子激光雕刻机
18. 200810095192 对光刻胶具有高选择比的无卤素无定形碳掩膜蚀刻方法
19. 200810033119 用于步进光刻机对准系统的机器视觉系统及其标定方法
20. 200810002049 具有亚光刻宽度的端面的半导体结构及其制造方法
21. 200880127187 使用放射性薄膜的自供电光刻方法和装置
22. 200810109204 浸没式光刻系统以及浸没式光刻中原地清洁透镜的方法
23. 200880115223 用于激光蚀刻脆性构件的方法
24. 200810201113 大幅面光刻胶玻璃板曝光后自动喷淋显影装置及方法
25. 200880124729 辐射源、光刻设备以及器件制造方法
26. 200880123672 采用双金属镶嵌工艺和压印光刻形成三维存储器阵列中的存储器线和通路的方法和装置
27. 200810200085 一种光刻机同步触发在线诊断方法及系统
28. 200810035321 探针诱导光刻薄膜及其制备方法
29. 200810113692 光刻图案的形成方法和双镶嵌结构的制造方法
30. 200810086782 测量系统、光刻设备和测量方法
31. 200880119430 用于形成光刻用下层膜的组合物和多层抗蚀图案的形成方法
32. 200880102398 光刻设备和器件制造方法
33. 200810171681 减少光刻胶掩模倒塌的方法以及图案化抗反射涂层的方法
34. 200810006544 形成光刻胶层压基板、电镀绝缘基板、电路板金属层表面处理及制造多层陶瓷电容器的方法
35. 200810005118 测量方法、检验设备和光刻设备
36. 200880107099 光刻系统、固定方法及晶片工作台
37. 200810112515 去除光刻胶残留的方法
38. 200810054737 深紫外光刻制作“Ｔ”型栅的方法
39. 200810042099 光刻照明装置及照明方法
40. 200880117150 光刻设备、投影系统和器件制造方法
41. 200810036651 用于光刻设备的对准系统及其对准方法和光刻设备
42. 200810034477 基于机器视觉的光刻装置对准系统与对准方法
43. 200810019858 一种负性彩色光刻胶脱胶剂及其制备方法
44. 200880114854 用于确定抑制系统的抑制因子的方法和系统以及光刻设备
45. 200880114836 光刻投影设备和补偿扰动因素的方法
46. 200810216174 一种光刻机曝光系统及其控制方法
47. 200810102683 一种在凸面基底上直接制作光刻胶母光栅的方法
48. 200810039958 一种控制光刻曝光剂量的方法
49. 200810037245 用于光刻机的调焦调平装置及测量方法
50. 200810035405 用于光刻装置的对准系统和标记、对准方法以及光刻装置
51. 200810035404 一种用于光刻装置的对准系统、对准方法和光刻装置
52. 200810034348 一种光刻机成像质量现场测量方法
53. 200810033104 光刻机投影物镜偶像差原位检测系统及检测方法
54. 200880113386 成像光学系统、包括该类型的成像光学系统的用于微光刻的投射曝光设备、以及利用该类型的投射曝光设备生产微结构部件的方法
55. 200880112270 使用衍射光栅的激光干涉光刻方法
56. 200880108435 光谱滤光片、包括这样的光谱滤光片的光刻设备、器件制造方法以及由此制造的器件
57. 200880104142 可控光学元件以及用热致动器操作光学元件的方法和半导体光刻的投射曝光设备
58. 200810071361 一种用激光刻划透明电极的弱光型非晶硅太阳能电池的制造方法
59. 200810018637 半导体晶片激光刻蚀开沟方法
60. 200880109954 利用激光蚀刻来制造玻璃刻板的方法及其用于激光辐射的装置
61. 200880107793 静电夹持装置、光刻设备以及制造静电夹持装置的方法
62. 200880107275 光刻设备和器件制造方法
63. 200880104686 光刻用形成抗蚀剂下层膜的组合物和半导体装置的制造方法
64. 200810208070 光刻胶的去除方法及连接孔的制造方法
65. 200810208069 光刻方法
66. 200810208048 光刻胶滴注系统、光刻胶喷嘴及其使用方法
67. 200810207523 光刻方法
68. 200810204617 光刻方法
69. 200810204054 一种天线制造的三维光刻方法
70. 200810156859 一种测量光刻胶掩模槽形结构参数的方法
71. 200810104088 一种利用多层金属介质膜结构实现亚波长干涉光刻的方法
72. 200810057060 光刻机投影物镜波像差在线检测方法
73. 200810044125 监测光刻质量的方法
74. 200810044106 判断哪个光刻工序造成以曝光面积为单位的低良率的方法
75. 200810044053 光刻版图及其测量光刻形变的方法
76. 200880100971 光刻设备和器件制造方法
77. 200810246318 在薄膜光伏电池板制造上的激光刻膜工艺方法
78. 200810043986 光刻胶显影模拟的方法
79. 200810043959 光刻机硅片承载台及其使用方法
80. 200810043870 在线监控光刻条件的方法
81. 200810043868 光刻机对准方法
82. 200810228795 一种高精度光刻胶分配泵控制装置及其控制方法
83. 200810225785 百纳米级窄线宽多种形貌全息光栅光刻胶图样的制备方法
84. 200810225227 控制特征尺寸的光刻方法及光刻系统
85. 200810202117 去除光刻胶残留及刻蚀反应物颗粒的方法
86. 200810201559 光敏性干膜的光刻方法
87. 200810201445 一种在金属铜表面的光刻方法
88. 200810039465 用于光刻设备的对准系统、对准方法及增强型对准标记
89. 200810038391 光刻设备的探测装置、探测方法及制造方法
90. 200810038123 一种用于光刻设备对准系统的对准标记及其使用方法
91. 200810036207 一种用于光刻机调焦系统性能评价的装置及方法
92. 200880019667 污染防止系统、光刻设备、辐射源以及制造器件的方法
93. 200810222119 一种光刻后注入离子的方法
94. 200810165661 用于浸渍光刻系统的清洁溶液和使用其的浸渍光刻方法
95. 200810043806 在线监控光刻条件的方法
96. 200880024087 光刻设备和器件制造方法
97. 200880022447 通过立体光刻制成的澄清无色三维制品以及这种制品的制造方法
98. 200880020205 光刻设备和方法
99. 200880018349 用于实施基于模型的光刻引导的布局设计的方法
100. 200880015585 防反射膜形成用组合物、以及使用该组合物的光刻胶图案形成方法
101. 200880015584 防反射膜形成用组合物、以及使用该组合物的光刻胶图案形成方法
102. 200880014683 采用负性光刻胶刻蚀玻璃或金属基底的方法以及采用该方法制备印刷版的方法
103. 200810043759 用于解决在高台阶基底条件下光刻胶涂布异常的方法
104. 200810043750 提高光刻套刻精度的方法
105. 200810042387 一种光刻机台的光刻灯的自动置换方法和装置
106. 200810118408 去除光刻胶层的方法
107. 200810043687 不同倍率光刻机之间的套刻精度的测量方法
108. 200810041879 光刻方法及系统
109. 200810041567 光刻工艺的监控方法及系统
110. 200880010617 用于激光刻蚀太阳能电池的方法
111. 200880009217 污染物阻止系统、光刻设备、辐射源和制造器件的方法
112. 200880008283 器件制造方法、光刻设备和计算机程序
113. 200810146640 一种酚醛清漆树脂、其制备方法以及含有该树脂的光刻胶组合物
114. 200810041141 减小曝光图形宽度的光刻方法
115. 200810132179 一种光学玻璃蚀刻装置及方法
116. 200810116879 光刻胶毛刺边缘形成方法和TFT-LCD阵列基板制造方法
117. 200810043651 光刻机透镜像差的检测装置及其方法
118. 200810032843 一种光刻机杂散光的自动测量方法
119. 200810025339 带有热斑激光刻蚀环的硅太阳能电池及其制备方法
120. 200880008227 氧化铟锡电子束光刻胶的合成方法和使用其形成氧化铟锡图案的方法
121. 200880004238 微光刻投射曝光设备的照明系统中多镜阵列的监测方法和设备
122. 200810064693 激光刻蚀硅脉象传感器悬臂梁的方法
123. 200810220040 一种激光刻蚀薄膜的方法
124. 200810019857 一种正性光刻胶剥离液及其制备方法
125. 200880007370 去除光刻设备的元件上的沉积物的方法
126. 200810126163 银镜背面的激光雕刻方法
127. 200810125065 光刻工艺中将磁头长形条连接起来的方法及磁头制造方法
128. 200810122776 光刻机曝光强度与均匀度的管理方法
129. 200810115801 获得涨缩量参数并提高光刻设备分辨率方法、装置和系统
130. 200880004740 具有等离子体辐射源的设备和形成辐射束的方法以及光刻设备
131. 200880002859 使用自组装聚合物进行亚光刻互连构图的方法
132. 200810113998 光刻设备焦距监测方法
133. 200810113982 修正光刻胶图形误差的方法
134. 200810113693 去除光刻胶层方法
135. 200810038406 一种激光雕刻的线阵导光板及其制备方法
136. 200810038390 降低天线效应的光刻方法
137. 200880002419 制造器件的方法和光刻设备
138. 200810037677 可有效去除晶圆光刻工艺过程中显影缺陷的显影方法
139. 200810105622 光刻胶用量检测方法和系统、数据分类采集系统
140. 200880001744 使用嵌段共聚物自组装进行亚光刻图案化的方法
141. 200810104229 一种用倒梯形剖面的光刻胶制作介质边缘缓坡的方法
142. 200810104079 一种获取光刻机最佳参数的方法及装置
143. 200810095811 激光刻膜设备和划线方法及用其制造的非晶硅薄膜光伏板
144. 200810093317 监控光刻工艺的方法与监控标记
145. 200810090300 光刻胶图案的修补方法
146. 200810036660 带有散射条的掩模版组合及光刻方法
147. 200810035092 一种光刻胶去除方法
148. 200810083777 光学刻录装置及光学储存媒体的刻录方法
149. 200810033973 减小LDD光刻制程中硅凹陷的方法
150. 200810057937 用于X射线曝光的光刻掩模结构及其制备方法
151. 200810032342 一种光刻系统NA-σ的设置方法
152. 200810005443 进行光刻工艺的方法
153. 200810191143 工作台系统、包括这种工作台系统的光刻设备及校正方法
154. 200810088048 光刻曝光装置、系统和光刻图形化方法
155. 200810190664 负型光刻胶组合物及使用其制造阵列基板的方法
156. 200810188786 检测方法和设备、光刻处理单元和设备、器件制造方法
157. 200810145180 光刻设备和器件制造方法
158. 200810204975 光刻机投影物镜波像差测量装置及方法
159. 200810191102 放置衬底与传送衬底的方法、支撑系统和光刻投影设备
160. 200810185625 浸没光刻设备和器件制造方法
161. 200810185623 光刻方法和设备
162. 200810185622 光刻设备、工作台系统和工作台控制方法
163. 200810215061 光刻设备和器件制造方法
164. 200810189335 光刻设备、投影组件、组合装置以及主动阻尼方法
165. 200810179829 光刻工艺窗口模拟的方法和系统
166. 200810179765 光刻设备和器件制造方法
167. 200810136697 对准方法和装置、光刻装置、计量装置和器件的制造方法
168. 200810219094 一种三次光刻实现的TFT像素结构及其制作方法
169. 200810207793 表面等离子体共振曝光光刻方法
170. 200810191103 光刻设备以及器件制造方法
171. 200810184298 衬底传送方法、传送系统和光刻投影设备
172. 200810146575 光学刻录装置及其刻录功率控制方法
173. 200810174878 激光雕刻用树脂组合物、激光雕刻用树脂印刷版原版、凸版印刷版以及制备凸版印刷版的方法
174. 200810217492 太阳能薄膜电池激光蚀刻设备及蚀刻方法
175. 200810203390 红外焦平面深微台面列阵加工的光刻胶涂敷方法
176. 200810168934 涉及浸没光刻技术的方法和浸没光刻设备
177. 200810168238 使用光刻制造具有内部光学路径的电路化衬底的方法
178. 200810161075 光刻设备和清洁光刻设备的方法
179. 200810202301 基于倾斜旋转基片与模版光刻制备微针阵列的方法
180. 200810079780 一种预涂感光蚀刻印刷版的制作方法
181. 200810213774 光刻方法及掩模装置
182. 200810145952 光刻设备和器件制造方法
183. 200810130025 光刻设备和污染物去除或防止方法
184. 200810128668 控制系统、光刻投影设备、控制方法和计算机程序产品
185. 200810120408 采用激光雕刻制作工艺花灯的方法
186. 200810050936 凹球面光学器件旋涂光刻胶的方法
187. 200810041891 基于多光刻胶有效扩散长度的光学临近修正模型校准方法
188. 200810128888 辐射检测器及其制造方法和包含辐射检测器的光刻设备
189. 200810041262 一种光刻机投影物镜波像差在线测量装置及方法
190. 200810041152 一种用于光刻设备的对准系统及对准方法
191. 200810142892 光刻设备、控制方法以及标定方法
192. 200810024289 一种半导体材料上的光刻标记及其制作方法
193. 200810098254 在基板上或中制造结构的方法及由此获得的器件、使子光刻图案反相的方法、成像层
194. 200810094981 光刻设备和方法
195. 200810094978 清洗装置、光刻设备和光刻设备清洗方法
196. 200810000750 光刻工艺的进行方法及半导体制造的方法
197. 200810127707 光刻胶组合物和使用其制造薄膜晶体管基底的方法
198. 200810092085 检验方法和设备、光刻处理单元和器件制造方法
199. 200810092083 光刻胶组合物、其涂覆方法、形成图案的方法及显示器
200. 200810092008 光刻胶剥离组合物和使用其剥离光刻胶膜的方法
201. 200810091113 光刻胶组合物及使用其形成光刻胶图案的方法
202. 200810085879 光刻设备和方法
203. 200810083467 用于光刻设备的照射器和光刻方法
204. 200810083206 器件制造方法、计算机程序和光刻设备
205. 200810036206 光刻机成像质量及工件台定位精度的测量系统与测量方法
206. 200810035119 一种可改善图形质量的光刻方法
207. 200810023485 一种无掩膜光刻系统中曝光图形临近效应校正方法
208. 200810011210 聚合物光刻胶超声时效的装置和方法
209. 200810004858 感光化合物、感光组合物、光刻胶图案形成方法和器件制造方法
210. 200810004856 感光化合物、感光组合物、光刻胶图案形成方法和器件制造方法
211. 200980111337 使用单个模具立体光刻制造眼科装置的方法
212. 200980110569 光刻设备和污染物检测方法
213. 200980109898 用于激光刻后去除流体的设备和方法
214. 200980109474 靶材、源、ＥＵＶ光刻设备和使用该设备的器件制造方法
215. 200980109332 评估衬底的模型的方法、检查设备和光刻设备
216. 200980109155 致动器系统、光刻设备以及器件制造方法
217. 200980107377 光刻设备、等离子体源以及反射方法
218. 200910057630 一种用于光刻机的掩模预对准装置及方法
219. 200910047580 多重成像光刻装置以及方法
220. 200910047579 光刻机工件台移动调整装置及方法
221. 200910046485 光刻机扫描曝光系统及其扫描曝光方法
222. 200910046309 光刻设备的传感器装置、制造方法与自校准方法
223. 200980107411 光刻设备和方法
224. 200980106786 构造和布置以产生辐射的装置、光刻设备以及器件制造方法
225. 200980106555 含ＴｉＯ２的石英玻璃和使用高能量密度的ＥＵＶ光刻用光学部件以及用于其制造的特别温度控制方法
226. 200980106463 光学元件、包括该光学元件的光刻设备、器件制造方法以及所制造的器件
227. 200910057605 形成光刻对准标记的方法
228. 200910054836 光刻胶层残留物的清洗方法
229. 200910050310 基于二极照明的光刻机投影物镜奇像差的检测系统和方法
230. 200980105201 微光刻投射曝光设备的光学系统和微光刻曝光方法
231. 200910249084 用于光刻的组合物和方法
232. 200910249079 用于光刻的包含杂取代的碳环芳基组分的组合物和方法
233. 200910057580 一种用于光刻设备的对准标记和对准方法
234. 200910054405 光刻方法
235. 200910054019 改善快闪存储器制作工艺中光刻胶涂布缺陷的方法
236. 200910050404 光刻机投影物镜温度控制方法
237. 200910049551 一种光刻机工件台垂向测量系统的校准方法
238. 200910049046 光刻技术中对准信号的处理方法
239. 200910046823 光刻机扫描曝光方法
240. 200980104017 一种用于进行电子束光刻的方法
241. 200910179464 纳米压印光刻中精密表面改性方法和设备
242. 200910085436 形成沟槽的方法、形成金属连线的方法、光刻方法及设备
243. 200910085334 避免光刻胶层图形损伤的方法
244. 200910045208 用于光刻对准数据检验的存储装置、方法和对准控制系统
245. 200980101738 具有低水含量的光刻胶－去膜液的浓缩溶液的生产方法
246. 200910057428 ＮＶＭ器件制备中光刻对准记号的制备方法
247. 200910057423 一种增强外延后光刻套准精度的方法
248. 200910057412 旋转标记及利用其监测光刻质量的方法
249. 200910053203 一种光刻工艺中移相掩模版的建模方法
250. 200910249083 用于光刻的包含嵌段共聚物的组合物和方法
251. 200910133678 纳米光刻系统以及纳米光刻方法
252. 200910081983 采用光刻和干法刻蚀制作倾斜侧壁二氧化硅结构的方法
253. 200910168480 无掩膜光刻系统及图案化多个基材的方法
254. 200910081225 以光刻胶为掩膜对二氧化硅进行深刻蚀的方法
255. 200910243538 一种用于高深宽比纳米图形加工的表面等离子体成像光刻方法
256. 200910146319 在边缘光刻胶去除过程中减少晶圆缺陷的方法及晶圆结构
257. 200910259041 光刻设备和器件制造方法
258. 200910253825 光刻设备和器件制造方法
259. 200910246914 制造蓝光刻录光盘的生产系统及生产方法
260. 200910243540 一种用于缩小投影超分辨成像器件和光刻方法
261. 200910046426 酯交换合成光刻胶单体碳刚性骨架结构丙烯酸酯类化合物的方法
262. 200910045979 光刻装置和方法
263. 200910264705 采用光刻技术制造光纤阵列Ｖ槽的方法
264. 200910262283 用于阻尼物体的方法、主动阻尼系统以及光刻设备
265. 200910262272 优化方法和光刻单元
266. 200910260605 用于光刻过程窗口最大化光学邻近效应校正的方法和系统
267. 200910260603 光刻设备和辐射至少两个目标部分的方法
268. 200910260477 用于光刻设备的方法
269. 200910260475 光刻设备和器件制造方法
270. 200910253786 光刻胶剥离剂用组合物及薄膜晶体管阵列基板的制造方法
271. 200910253279 流体抽取系统、光刻设备和器件制造方法
272. 200910249060 一种电热驱动光刻胶微夹钳的制作方法
273. 200910222443 用于确定光刻掩模的可制造性的方法
274. 200910222007 用于确定光刻掩模的可制造性的方法和系统
275. 200910208363 用于确定光刻掩模的可制造性的方法和系统
276. 200910264459 利用接触式光刻机提高丝网印刷精确对准装置及其方法
277. 200910243539 一种用于高深宽比纳米图形加工的反射式表面等离子体成像光刻方法
278. 200910241923 一种利用金属反射膜结构实现提高表面等离子体光刻质量的方法
279. 200910241920 一种用于２００ｎｍ以下线宽超衍射光刻的硅掩模及其制作方法
280. 200910241909 光刻机硅片台双台交换系统及其交换方法
281. 200910217946 利用多光束干涉光刻技术制备仿生彩色超疏水涂层的方法
282. 200910212014 用于光刻校准的方法和系统
283. 200910207632 用于针对双图案化过程进行光刻验证的方法和系统
284. 200910179441 用于在远紫外光刻中将同步加速器用作源的方法和装置
285. 200910174037 光刻设备以及去除污染物的方法
286. 200910241910 一种光刻机硅片台双台交换方法及系统
287. 200910178543 光刻设备和器件制造方法
288. 200910126291 光刻光掩模、对准方法和检验对准精确度的方法
289. 200910073198 凹模热压印中应用光刻胶整形改善填充和减少残胶的方法
290. 200910235550 基于聚合物激光烧蚀的三维光刻方法
291. 200910009620 制备凸版的方法和激光雕刻用印版原版
292. 200910203135 光刻设备和器件制造方法
293. 200910203134 光刻设备和器件制造方法
294. 200910203133 光刻设备和器件制造方法
295. 200910178002 光刻设备和方法
296. 200910173503 光刻设备和运行该设备的方法
297. 200910168669 流体处理结构、光刻设备和器件制造方法
298. 200910138199 光刻方法
299. 200910089421 光读出红外图像传感器像元芯片的光刻方法
300. 200910053710 用于提高焦深的光刻散射条及其制造方法
301. 200910151115 光刻设备和器件制造方法
302. 200910147442 光刻构图方法
303. 200910053888 光刻胶显影过程三维模拟可视化方法
304. 200910117348 电子束光刻技术制备图案化碳纳米结构材料的方法
305. 200910090371 半导体工艺中光刻机台的控制方法及装置
306. 200910150481 浸液光刻显影处理方法、该显影处理方法中使用的溶液和使用该显影处理方法的电子装置
307. 200910147537 光刻设备和方法
308. 200910146367 光刻设备及器件制造方法
309. 200910142675 光刻设备、复合材料以及制造方法
310. 200910055927 光刻机硅片对准信号的处理方法
311. 200910008703 制造远紫外光刻掩模的方法
312. 200910203131 衬底台、光刻设备和器件制造方法
313. 200910203129 衬底台、光刻设备和器件制造方法
314. 200910159503 光刻设备及器件制造方法
315. 200910146623 光刻设备和器件制造方法
316. 200910142608 确定衬底中的缺陷的方法和光刻工艺中曝光衬底的设备
317. 200910049796 光刻胶涂覆方法
318. 200910040526 一种立体光刻快速成形光敏树脂及其制备方法和应用
319. 200910140581 流体处理结构、光刻设备和器件制造方法
320. 200910045415 用于光刻装置的对准标记、对准系统及其对准方法
321. 200910141992 浸没式光刻设备、干燥装置、浸没量测设备和器件制造方法
322. 200910134770 光刻设备和运行光刻设备的方法
323. 200910112002 带有激光雕刻图文的鞋及其制造方法
324. 200910052800 光刻设备的对准基准板及其制造工艺方法
325. 200910138754 确定曝光设置的方法、光刻曝光设备、计算机程序和数据载体
326. 200910137005 位置控制系统、光刻设备及控制可移动物体的位置的方法
327. 200910134805 定位系统、光刻设备和器件制造方法
328. 200910134442 光刻胶树脂、及利用其形成图案的方法和制造显示面板的方法
329. 200910133536 台系统校准方法、台系统和包括这样的台系统的光刻设备
330. 200910051547 一种光刻曝光剂量控制装置与方法