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1. 200610057084 晶圆光刻掩模和其制造方法与其晶圆光刻方法
2. 200710094552 光刻胶的硅化方法及形成光刻胶掩模图形的方法
3. 200710044346 光刻胶的涂布方法及光刻图形的形成方法
4. 200710039253 光刻胶的去除方法及光刻工艺的返工方法
5. 200710182105 光刻设备、校准光刻设备的方法和器件制造方法
6. 200810145013 检验方法和设备、光刻设备、光刻单元和器件制造方法
7. 200880120635 光刻设备、用于调平物体的方法以及光刻投影方法
8. 200810074072 检验方法和设备、光刻设备、光刻单元和器件制造方法
9. 200810226331 光刻预处理方法及光刻方法
10. 200880017510 微光刻的投射物镜、具有所述投射物镜的微光刻投射曝光装置、部件的微光刻制造方法以及使用该方法制造的部件
11. 200810009099 检验方法和设备、光刻设备、光刻处理单元和器件制造方法
12. 200980105437 包括磁体的光刻设备、保护光刻设备中的磁体的方法以及器件制造方法
13. 200910053501 钝化光刻胶表面的方法以及光刻方法
14. 200910132305 光刻用掩模及光刻用掩模数据的形成方法、背照射型固体摄像器件及其制造方法和电子装置
15. 200610153868 数字多功能/视频光盘刻录装置及自动章节标记插入方法
16. 200610150030 浸润式光刻装置、光刻装置及其洁净方法
17. 200610140162 激光雕刻机的自动对位雕刻方法
18. 200610119397 一种光刻机硅片平台水平控制和自动对焦系统及方法
19. 200610088996 二步光刻法制作GaN基LED的制备方法
20. 200610073696 包括除去光刻胶的等离子体灰化处理的形成半导体器件的方法
21. 200610066854 利用具有热流动特性的负光刻胶层制造半导体的方法
22. 200610055091 光刻掩模和用于生成光刻掩模的方法
23. 200610034800 一种带有激光雕刻图案的木地板及其制造方法
24. 200610029613 用图像同步采集光刻成像系统的像场弯曲测量方法
25. 200610023573 激光雕刻印字轮的方法及装置
26. 200610017221 一种制备光刻胶图形的方法
27. 200610003068 用于193nm光学光刻的侧墙铬衰减型移相掩模制作方法
28. 200680050704 包括清洁装置的光刻设备及用于清洁光学元件的方法
29. 200680028157 投影透镜偏振传感器、光刻投影系统、测量偏振状态的方法
30. 200610169373 利用多次曝光和多种曝光类型的光刻设备和器件制造方法
31. 200610064244 光刻装置和器件制造方法
32. 200610057881 将非晶硅结晶成多晶硅的方法及使用于此方法之光刻掩膜
33. 200610074086 光刻装置和器件制造方法
34. 200610101495 光刻装置中的偏振辐射及器件制造方法
35. 200610155623 发光雕刻及其制备方法
36. 200610153964 包括放电发生器的光刻装置和用于清洁光刻装置的元件的方法
37. 200610151710 用平板显示器多辞典压缩方法的光刻设备和装置制造方法
38. 200610125718 远紫外光刻反射器件及其制造方法
39. 200610110078 半导体结构及使用其形成光刻胶图形和半导体图形的方法
40. 200610100135 度量、光刻、加工装置、度量方法及器件制造方法
41. 200610082751 浸入式光刻装置和方法
42. 200610064221 光刻设备及器件制造方法
43. 200680034353 用于加工具有激光刻蚀的沟槽触点的基件，尤其是太阳能电池的方法和装置
44. 200610100137 无掩模光刻实时图案光栅化和实现最佳特征表示的方法和系统
45. 200610093679 光刻装置、器件制造方法、由此制造的器件及可控构图部件
46. 200610026756 消除光刻胶中气泡的方法及凸点制作方法
47. 200680028087 被动式掩模版工具、光刻设备以及在光刻工具中对器件图案化的方法
48. 200610171747 光刻装置和器件制造方法
49. 200610151036 一种耐热负性光刻胶的制备方法
50. 200610138025 光刻机台、显影装置及其显影方法
51. 200610118464 低蚀刻性光刻胶清洗剂及其清洗方法
52. 200610077845 光刻装置及器件制造方法
53. 200610071533 光刻装置、湿浸式投影装置和器件制造方法
54. 200610065829 光刻胶再生方法及其系统
55. 200680029255 接触光刻设备、系统和方法
56. 200680018005 用于光刻胶的曝光后烘焙的方法和设备
57. 200680003428 用于基于全局优化的无掩模光刻光栅化技术的方法和系统
58. 200680028086 光刻设备、确定其至少一个偏振属性的方法、检偏器和偏振传感器
59. 200610147868 光刻胶的去除方法
60. 200610105267 一种零留膜的压印模板及压印光刻图形转移方法
61. 200610098759 激光雕刻机的雕刻方法
62. 200610077849 光刻装置及器件制造方法
63. 200610023682 一种用于光刻机同轴对准的基于ＰＧＡ的高精度模数转换装置及其控制方法
64. 200610008927 光刻装置和器件制造方法
65. 200610171821 恢复光刻工艺中横磁波对比度的方法和系统
66. 200610151549 使用浸没式光刻法制造半导体装置的方法
67. 200610107688 光刻装置和器件制造方法
68. 200610093280 光刻装置和器件制造方法
69. 200610006385 光学记录媒体以及利用激光束刻录数据与制作图案的方法
70. 200610147322 双镶嵌结构形成过程中光刻胶图形的去除方法
71. 200610030800 形成光刻胶图案的方法
72. 200610077848 光刻装置和器件制造方法
73. 200610145216 光刻胶涂覆设备及光刻胶涂覆方法
74. 200680016346 空间光调制器装置、光刻设备、显示装置、产生具有空间光图案的光束的方法以及制造器件的方法
75. 200610127823 光刻装置及其方法
76. 200610118708 测试标记及利用该标记检测光刻机成像质量的方法
77. 200610116556 将光刻机中的硅片在线调节到最佳曝光位置的方法
78. 200610112157 光刻图形的形成方法
79. 200610105861 工作台装置、光刻装置及器件制造方法
80. 200610084813 用于预测要光刻在晶片上的集成电路片段的功能的方法
81. 200610079943 多层反射镜光谱纯滤光片、光刻设备以及装置制造方法
82. 200610078926 光盘刻录器的转速控制装置及光盘刻录控制方法
83. 200610075346 浸润式光刻技术的方法
84. 200610073977 图案形成装置和方法
85. 200610071523 湿浸式光刻工艺的控制方法及其操作系统
86. 200610071189 用于改进临界尺寸计算中使用的光刻胶模型的校准的方法以及设备
87. 200610059227 光刻装置和器件制造方法
88. 200610037797 对光滑表面进行微米结构光刻蚀的方法及装置
89. 200610030241 X射线光刻掩模版的制备方法
90. 200610029925 光刻图形的形成方法
91. 200610029701 用于测量光刻机像场弯曲分布的装置和方法
92. 200610029617 光刻工艺中的光学临近效应补偿方法
93. 200610029273 光刻投影物镜远心测量方法
94. 200610024870 缩小光刻胶接触孔图案的临界尺寸的方法
95. 200610004906 光盘刻录功率调整方法
96. 200680015723 存在常规低k和/或多孔低k介电材料时的光刻胶剥除方法
97. 200680008516 用于接通薄膜半导体结构的光刻方法
98. 200610029857 采用旋胶和光刻工艺封装发光二极管的方法
99. 200680038321 用于显影光刻胶的装置以及用于操作该装置的方法
100. 200680009268 利用压印光刻和直接写入技术制造器件的方法
101. 200680035475 改善光刻胶粘附性和重新使用一致性的氢处理方法
102. 200680023783 光盘刻写方法及装置
103. 200610201212 光盘驱动器刻录功率调整方法及装置
104. 200610030117 多平台光刻机硅片水平控制和自动对焦系统及其实现方法
105. 200610029774 光刻机离轴水平和对焦探测控制系统及其实现方法
106. 200610027269 保持光刻机高速同步控制时序信号完整性的方法
107. 200610025445 光刻机成像光学系统像差现场测量方法
108. 200610121212 使用浸没光刻工艺制造半导体器件的方法
109. 200610109531 浸润式光刻的方法及其处理方法
110. 200610099674 光刻装置和利用清洁气体的移动来减少污染的器件制造方法
111. 200610074166 用于制造半导体器件的光刻工艺的方法
112. 200610027273 光刻机同步时序控制串行数据通讯方法和系统及应用
113. 200610023155 用于光刻机的数字可调双环电机控制器及其数字调节方法
114. 200680043555 光刻法用洗涤液及使用该洗涤液的曝光装置的洗涤方法
115. 200680050482 氘氧基掺杂的二氧化硅玻璃、光学部件和光刻系统及其制备方法
116. 200680049663 干涉仪光刻系统以及用于生成等路径长度的干涉束的方法
117. 200680047345 蚀刻光刻基片的改进的方法
118. 200680014441 用于将无掩模图形转移到光敏基板上的光刻方法
119. 200680040394 光刻系统、传感器和测量方法
120. 200680039952 用于光刻法的系统、掩模和方法
121. 200680039487 光刻系统和投影方法
122. 200680033544 微光刻投影光学系统、用于制造装置的方法以及设计光学表面的方法
123. 200680032459 光刻技术方法
124. 200680032449 光刻技术方法
125. 200680029512 用于形成光刻工艺的焦点曝光模型的系统和方法
126. 200680028187 主动式掩模版工具、光刻设备和在光刻工具中对器件图案化的方法
127. 200680025643 利用多次曝光印刷光刻图像的方法和系统
128. 200610148820 形成光刻胶层的方法
129. 200610064625 激光雕刻系统及方法
130. 200680021965 光刻胶膜卷材及其制造方法
131. 200610119405 半导体光刻方法
132. 200680018029 光刻设备和器件制造方法
133. 200610117138 一种低蚀刻性光刻胶清洗剂及其清洗方法
134. 200610116840 光刻图形的形成方法
135. 200610129184 一种在光刻工艺中将磁头长形条连接起来的方法
136. 200610126080 在光刻工艺中将磁头长形条连接起来的方法
137. 200610027584 光刻胶残留物的清洗方法
138. 200610172380 光刻设备和器件制造方法
139. 200610171860 光刻设备及器件制造方法
140. 200610170159 光刻装置和器件制造方法
141. 200610169059 光刻设备和制造器件的方法
142. 200610163176 光刻设备和器件制造方法
143. 200610160503 对光刻衬底上的正色调抗蚀剂层进行构图的方法
144. 200610160480 提高浸没光刻中表面张力和接触角的系统和方法
145. 200610151872 光刻装置和器件制造方法
146. 200610149823 用于去除光刻胶的组合物及利用该组合物形成图案的方法
147. 200610147715 一种增强光刻工艺中图形黏附力的方法
148. 200610142302 光刻装置、器件制造方法和由其制造的器件
149. 200610142098 光刻装置和调节器件制造装置的内部空间的方法
150. 200610139932 制备化学放大正性光刻胶用树脂的方法
151. 200610137526 光刻方法
152. 200610135759 选择栅格模型以修正工艺配方的方法及其光刻组件
153. 200610131770 用于光刻的组合物和方法
154. 200610129178 光刻胶液制备方法及使用该光刻胶液的光刻胶膜
155. 200610116544 移相光栅标记及利用该标记检测光刻机成像质量的方法
156. 200610106343 基底、光刻多次曝光方法和可机读介质
157. 200610103511 光刻胶去除剂组合物以及用该组合物形成布线结构和制造薄膜晶体管基片的方法
158. 200610103121 光刻装置、污染物收集器和器件制造方法
159. 200610101176 用于光刻胶的阻挡涂敷组合物及使用该组合物形成光刻胶图形的方法
160. 200610100125 光刻装置和器件制造方法
161. 200610100045 光刻装置和器件制造方法
162. 200610100019 浸润式光刻的方法及其处理系统
163. 200610099635 执行双重曝光光刻的方法、程序产品和设备
164. 200610098739 光刻胶组合物
165. 200610095876 进行湿浸式光刻的方法、湿浸式光刻系统、及装置
166. 200610064737 光刻装置和补偿中间掩模版引入的CDU的器件制造方法
167. 200610063950 防止或者降低浸没式投影设备及浸没式光刻设备的污染的方法
168. 200610017027 一种采用微转移图案化图形作为掩模板的光刻图案化方法
169. 200610099860 双台座光刻设备和器件制造方法
170. 200610092874 用于极远紫外光刻的反射掩模和制作该反射掩模的方法
171. 200610092512 光掩模，制造光掩模的方法以及使用其的光刻方法和系统
172. 200610079812 用于浸没式光刻的组合物和方法
173. 200610077418 光刻装置、部件制造方法及其所制造的部件
174. 200610075436 使用测试特征检测光刻工艺中的焦点变化的系统和方法
175. 200610073329 光刻装置和采用数据过滤的器件制造方法
176. 200610073325 多层光谱纯滤光片与光刻设备、装置制造方法以及装置
177. 200610072413 光刻胶稀释剂的制造方法
178. 200610007140 光刻胶组合物及用它形成薄膜图案的方法以及用它制备薄膜晶体管阵列板的方法
179. 200610004195 光刻装置和器件制造方法
180. 200710173060 探针诱导表面等离子体共振耦合的光刻方法
181. 200710130117 测量光刻系统中的功率的系统和方法
182. 200710101823 浸没式光刻曝光系统及探测其中异物的方法
183. 200710073240 非晶硅太阳能电池周边电极绝缘激光刻蚀的处理方法
184. 200710068120 一种三维多层垂直耦合光互连结构及其软光刻的制作方法
185. 200710062208 一种液晶显示器件光刻版图的防静电方法
186. 200710043931 减小激光直写光刻点或线宽的薄膜结构及其制备方法
187. 200710041903 光刻误差的计算方法
188. 200710023845 光刻技术中提供均匀稳定的面光源的装置及方法
189. 200710099761 一种全息消像差方法及其投影光刻系统
190. 200710094285 光刻显影的方法
191. 200710173369 提高无掩模光刻的分辨率的方法
192. 200710127311 光刻设备与辐射传感器及辐射传感器制造方法
193. 200710101801 光刻设备、透镜干涉仪和装置制造方法
194. 200710041956 一种光刻机的监测系统及光刻机的监测方法
195. 200710138137 掩模以及相关的光刻方法
196. 200710096549 光刻设备和制造装置的方法
197. 200710008372 光刻装置、器件制造方法和可更换的光学元件
198. 200710129083 光刻设备和器件制造方法
199. 200710128855 用于执行暗场双偶极子光刻（ＤＤＬ）的方法及设备
200. 200710104018 光刻设备和器件制造方法
201. 200710094565 晶片背面平坦化的方法及提高光刻工艺线宽一致性的方法
202. 200710000117 用以决定应用于光刻制程的光源品质的方法
203. 200710152790 用于角分辨光谱光刻描述的方法和装置
204. 200710199655 光刻器件制造方法和光刻单元
205. 200710129730 晶片激光刻印方法与其系统
206. 200710005707 光刻设备及装置的制造方法
207. 200710173477 一种动态灰阶图卡证激光雕刻制作系统和方法
208. 200710099497 光刻定位自组装填充方法
209. 200710199929 形成电路图案的光刻方法
210. 200710166702 光刻设备和器件制造方法
211. 200710096840 光刻设备和装置制造方法
212. 200710094513 可同时监控光刻曝光条件和套刻精度的方法
213. 200710094403 曝光方法、光刻方法及通孔的制作方法
214. 200710094077 基于负性光刻胶的栅极注入掩膜层的制备方法
215. 200710040350 凸点光刻机的曝光方法
216. 200710191870 光刻机对焦方法
217. 200710186985 激光刻录策略的最佳功率控制校正方法及光储存装置
218. 200710180602 形成光刻和亚光刻尺寸结构的方法
219. 200710171692 光刻机抗蚀剂成像仿真三维交互显示方法
220. 200710136797 用于补偿光刻系统中的临界尺寸的不均匀性的系统和方法
221. 200710111114 移除光刻胶的方法
222. 200710094316 形成不同图形密度的光刻方法
223. 200710053666 用于光刻胶的主体成膜树脂及其制备方法和应用
224. 200710044888 光刻工序中套刻精度的控制方法
225. 200710000151 使用浸没式光刻工艺制造半导体器件的方法
226. 200710173575 光刻设备的探测装置与探测方法
227. 200710109760 用于光刻胶去除的组合物和方法
228. 200710046207 涂底的方法及光刻胶的涂布方法
229. 200710037715 化学增幅光刻胶等效扩散模拟方法
230. 200710037437 光刻胶气泡排除系统及排除方法
231. 200710005300 浸润光刻系统、图案化半导体集成电路的浸润光刻方法
232. 200710193456 光刻设备、器件制造方法和计算机程序产品
233. 200710170916 一种光刻机成像质量测量方法
234. 200710148346 光刻设备和器件制造方法
235. 200710077448 非晶硅薄膜太阳能电池激光刻划系统及刻划方法
236. 200710039679 一种光刻衍射图像防伪薄膜及其制备方法
237. 200710044153 用于投影扫描光刻机的对准方法及微器件制造方法
238. 200710045580 一种光刻装置和用于光刻装置的对准系统及对准方法
239. 200710047353 一种可提高刻蚀性能的光刻方法
240. 200710047153 用光刻胶热熔法制备球形凸起生物微电极阵列的方法
241. 200710120710 一种具有反射式光学系统的亚波长光刻方法和系统
242. 200710188644 光刻方法
243. 200710181414 光刻设备和方法
244. 200710044562 光刻的曝光方法及曝光系统
245. 200710045037 用于光刻装置的掩模对准标记及对准方法
246. 200710138639 光刻设备和器件制造方法
247. 200710079234 可录式光盘刻录品质的动态检测方法
248. 200710045495 一种用于光刻机对准的标记以及使用该标记的对准方法
249. 200710045044 透射对准标记组合及光刻装置的对准方法
250. 200710044848 光刻装置对准方法
251. 200710044559 光刻装置的对准方法及系统
252. 200710041905 光刻胶清洗过滤器以减少气泡的方法
253. 200710041244 光刻机照明均匀性补偿片的制造方法
254. 200710023840 由透镜组组成的光刻机曝光镜头的结构及装调方法
255. 200710022755 数字光刻技术的相位控制和补偿方法
256. 200710022638 综合式直写光刻方法
257. 200710021818 等离子体显示板电极的薄膜光刻制造方法及其产品
258. 200710004363 用于减少浸入式光刻中的污染物的装置和方法
259. 200710192794 光刻方法
260. 200710177796 一次掩膜光刻同时定义有机薄膜晶体管源漏栅电极的方法
261. 200710171207 一种用于步进光刻机对准系统的标定装置及其标定方法
262. 200710111615 一种带有激光雕刻图案的服饰面料及其制造方法
263. 200780049143 混合光学与电子束光刻制造层级的共对准的高原子量结构及方法
264. 200780049067 混合光学和电子束光刻制造层的共对准的沟槽结构及方法
265. 200780048002 用于通过油墨光刻生成图案的器件和方法
266. 200780047176 光刻设备、衬底台和用于释放晶片的方法
267. 200780037966 光刻设备和器件制造方法
268. 200780037530 一种低蚀刻性光刻胶清洗剂及其清洗方法
269. 200780037477 低蚀刻性光刻胶清洗剂及其清洗方法
270. 200780030613 用于光刻设备的吸杂装置和清洁结构以及清洁表面的方法
271. 200780029153 光刻胶组成物及其图案化方法
272. 200780035290 用显影剂-裁切的硬掩模形成光刻结构的方法
273. 200780033758 用于固态微电池光刻制造、切单和钝化的方法和设备
274. 200780028526 光刻系统、热消散方法和框架
275. 200780026272 光刻胶剥除室和在基片上蚀刻光刻胶的方法
276. 200780012528 微光刻投影光学系统、工具及其制造方法
277. 200710094405 光刻胶掩模图形的显影方法
278. 200710047859 一种修正光刻胶图形的方法
279. 200710046679 一种光刻胶的去除方法
280. 200710046211 光刻工艺的显影方法
281. 200710045484 检测光刻设备排气系统和判断产品CPK的方法
282. 200710044343 光刻图案的形成方法和双镶嵌结构的制造方法
283. 200710044341 光刻胶的去除方法
284. 200780024684 修正/修复光刻投影物镜的方法
285. 200710187389 光刻图形的曝光条件选择方法
286. 200710094443 降低半导体制造中光刻胶显影缺陷的光刻显影方法
287. 200710094318 光刻对准标记的制备方法
288. 200710077447 一种ITO薄膜激光蚀刻设备及蚀刻方法
289. 200780020946 用于光刻衬底的温度控制方法
290. 200710177425 光刻胶掩模方法
291. 200710148886 测量重叠误差的半导体器件和方法、光刻设备及器件制造方法
292. 200710094242 光刻尺寸超规格的修正刻蚀方法
293. 200710094237 降低光刻机镜头畸变引起的光刻对准偏差的方法
294. 200710094236 光刻套刻精度的测试图形及测量方法
295. 200710074780 激光雕刻系统及采用其进行激光雕刻的方法
296. 200780016104 辐射发生装置、光刻设备、器件制造方法及其制造的器件
297. 200780014179 光刻系统和投影方法
298. 200710176930 用于电子束光刻剥离的去除双层胶的方法
299. 200710186936 使用压印光刻的纳米结构布置的方法和系统
300. 200780011131 使用软光刻法形成纳米级特征的方法
301. 200710130915 功率半导体分立器件第一层光刻对位标记的制作方法
302. 200710045146 光刻机投影物镜彗差原位检测系统及检测方法
303. 200780002394 用于产生亚衍射限制特征的光刻系统和方法
304. 200710043681 光刻方法
305. 200710042132 光刻胶的去除方法和制造镶嵌结构的方法
306. 200710041576 掩模版及使用掩模版调式光刻机套刻精度的匹配方法
307. 200710079595 通过激光雕刻制造天线模组的方法
308. 200710002865 校正激光雕刻机中机构相对位置的方法
309. 200710196220 检查方法和设备、光刻设备和光刻处理单元
310. 200710171105 有机电致发光元件制程中的光刻掩膜板的清洗方法及装置
311. 200710152749 光刻设备和器件制造方法
312. 200710300969 光刻系统、器件制造方法、定点数据优化方法及产生设备
313. 200710177559 采用聚焦光刻成形亚波长微纳结构的制作方法
314. 200710173579 一种可提高空间成像套刻检验精准度的光刻方法
315. 200710173145 基于光刻胶斜坡宽度加权的光学近似修正模型校准方法
316. 200710139717 光刻中的旁瓣图像搜寻方法
317. 200710128668 光刻曝光方法
318. 200710187100 压印光刻用模板和应用该模板的压印光刻方法
319. 200710168155 管路系统、光刻设备、泵以及降低管路系统振动的方法
320. 200710186092 光刻设备和器件制造方法
321. 200710171608 确定光刻投影装置最佳物面和最佳像面的方法及相关装置
322. 200710171210 半导体制造中去除钛或氮化钛层上的光刻胶的方法
323. 200710180753 光刻设备、光刻设备和处理模块的组合及器件制造方法
324. 200710176531 一种光刻系统掩模邻近效应校正方法
325. 200710170541 一种可提高空间成像套刻检验精准度的光罩以及光刻方法
326. 200710152545 纳米压印光刻用固化性组合物及使用其的图案形成方法
327. 200710121245 一种基于金属局域化效应的光刻方法
328. 200710121243 一种利用金属层缩小π位相偏移光刻特征尺寸的方法
329. 200710121241 一种基于PDMS模板和银板材料的超分辨光刻方法
330. 200710067504 一种仿形激光雕刻加工方法及其激光雕刻机
331. 200710136655 检查方法及设备与光刻设备及器件制造方法
332. 200710136654 光刻设备和像差校正装置及器件制造方法
333. 200710127166 光刻胶组合物和使用其制备滤色片基片的方法
334. 200710126486 角分辨分光光刻术的特性测定方法与设备
335. 200710110313 感光化合物、感光组合物、光刻胶图案形成方法和元件制造方法
336. 200710109896 光刻设备与器件制造方法
337. 200710109819 计量工具、含光刻设备、计量工具的系统、确定衬底参数的方法
338. 200710109201 光刻设备和光刻设备清洗方法
339. 200710102990 位移测量系统、光刻设备、位移测量方法和装置制造方法
340. 200710102969 清洗方法、器件制造方法、清洗组件和装置、光刻装置
341. 200710041398 一种提高光刻技术分辨率的方法
342. 200710006775 光刻设备、校准方法、器件制造方法和计算机程序产品
343. 200710102532 光刻设备和装置制造方法
344. 200710085250 光刻装置以及器件制造方法
345. 200710093694 光刻处理单元和器件制造方法
346. 200710092076 光刻装置及器件制造方法
347. 200710091861 光刻装置及器件制造方法
348. 200710089703 组件、调节系统、光刻装置和方法
349. 200710087890 位移测量系统、光刻装置和器件制造方法
350. 200710087811 光刻装置和器件制造方法
351. 200710087658 用于光刻的组合物和方法
352. 200710086300 用于移动部件的系统和方法、光刻设备和器件制造方法
353. 200710085715 用于增强的光刻图案化的方法和系统
354. 200710085566 光刻装置、控制系统和器件制造方法
355. 200710085565 光刻装置和器件制造方法
356. 200710085512 增强光刻对准的系统和方法
357. 200710084419 光刻装置及器件制造方法
358. 200710039017 用叠层光刻胶牺牲层制备MEMS悬空结构的方法
359. 200710088632 光刻装置和器件制造方法
360. 200710005990 光刻装置及器件制造方法
361. 200810202975 探针诱导表面等离子体共振光刻装置及其光刻方法
362. 200810163137 利用微纳光纤进行直写光刻的方法
363. 200810120205 筷子激光雕刻方法及其筷子激光雕刻机
364. 200810095192 对光刻胶具有高选择比的无卤素无定形碳掩膜蚀刻方法
365. 200810033119 用于步进光刻机对准系统的机器视觉系统及其标定方法
366. 200810002049 具有亚光刻宽度的端面的半导体结构及其制造方法
367. 200810173372 用于测量光刻投影设备的聚焦的方法
368. 200810104223 利用Ｓ１８系列正性光刻胶制作倒梯形剖面结构的方法
369. 200810096275 光刻设备和传感器校准方法
370. 200810095615 光刻装置及器件制造方法
371. 200810080999 光刻设备和方法
372. 200810009480 确定前馈传递函数的方法、光刻设备和器件制造方法
373. 200880127187 使用放射性薄膜的自供电光刻方法和装置
374. 200810109204 浸没式光刻系统以及浸没式光刻中原地清洁透镜的方法
375. 200880115223 用于激光蚀刻脆性构件的方法
376. 200810201113 大幅面光刻胶玻璃板曝光后自动喷淋显影装置及方法
377. 200810200085 一种光刻机同步触发在线诊断方法及系统
378. 200810113692 光刻图案的形成方法和双镶嵌结构的制造方法
379. 200810086782 测量系统、光刻设备和测量方法
380. 200810035321 探针诱导光刻薄膜及其制备方法
381. 200880124729 辐射源、光刻设备以及器件制造方法
382. 200880123672 采用双金属镶嵌工艺和压印光刻形成三维存储器阵列中的存储器线和通路的方法和装置
383. 200880119430 用于形成光刻用下层膜的组合物和多层抗蚀图案的形成方法
384. 200880102398 光刻设备和器件制造方法
385. 200810171681 减少光刻胶掩模倒塌的方法以及图案化抗反射涂层的方法
386. 200810006544 形成光刻胶层压基板、电镀绝缘基板、电路板金属层表面处理及制造多层陶瓷电容器的方法
387. 200810005118 测量方法、检验设备和光刻设备
388. 200880107099 光刻系统、固定方法及晶片工作台
389. 200810112515 去除光刻胶残留的方法
390. 200810054737 深紫外光刻制作“Ｔ”型栅的方法
391. 200810042099 光刻照明装置及照明方法
392. 200880117150 光刻设备、投影系统和器件制造方法
393. 200810036651 用于光刻设备的对准系统及其对准方法和光刻设备
394. 200810034477 基于机器视觉的光刻装置对准系统与对准方法
395. 200810019858 一种负性彩色光刻胶脱胶剂及其制备方法
396. 200880114854 用于确定抑制系统的抑制因子的方法和系统以及光刻设备
397. 200880114836 光刻投影设备和补偿扰动因素的方法
398. 200810216174 一种光刻机曝光系统及其控制方法
399. 200810102683 一种在凸面基底上直接制作光刻胶母光栅的方法
400. 200810039958 一种控制光刻曝光剂量的方法
401. 200810037245 用于光刻机的调焦调平装置及测量方法
402. 200810035405 用于光刻装置的对准系统和标记、对准方法以及光刻装置
403. 200810035404 一种用于光刻装置的对准系统、对准方法和光刻装置
404. 200810034348 一种光刻机成像质量现场测量方法
405. 200810033104 光刻机投影物镜偶像差原位检测系统及检测方法
406. 200880113386 成像光学系统、包括该类型的成像光学系统的用于微光刻的投射曝光设备、以及利用该类型的投射曝光设备生产微结构部件的方法
407. 200880112270 使用衍射光栅的激光干涉光刻方法
408. 200880108435 光谱滤光片、包括这样的光谱滤光片的光刻设备、器件制造方法以及由此制造的器件
409. 200880104142 可控光学元件以及用热致动器操作光学元件的方法和半导体光刻的投射曝光设备
410. 200810071361 一种用激光刻划透明电极的弱光型非晶硅太阳能电池的制造方法
411. 200810018637 半导体晶片激光刻蚀开沟方法
412. 200880109954 利用激光蚀刻来制造玻璃刻板的方法及其用于激光辐射的装置
413. 200880107793 静电夹持装置、光刻设备以及制造静电夹持装置的方法
414. 200880107275 光刻设备和器件制造方法
415. 200880104686 光刻用形成抗蚀剂下层膜的组合物和半导体装置的制造方法
416. 200810208070 光刻胶的去除方法及连接孔的制造方法
417. 200810208069 光刻方法
418. 200810208048 光刻胶滴注系统、光刻胶喷嘴及其使用方法
419. 200810207523 光刻方法
420. 200810204617 光刻方法
421. 200810204054 一种天线制造的三维光刻方法
422. 200810156859 一种测量光刻胶掩模槽形结构参数的方法
423. 200810104088 一种利用多层金属介质膜结构实现亚波长干涉光刻的方法
424. 200810057060 光刻机投影物镜波像差在线检测方法
425. 200810044125 监测光刻质量的方法
426. 200810044106 判断哪个光刻工序造成以曝光面积为单位的低良率的方法
427. 200810044053 光刻版图及其测量光刻形变的方法
428. 200880100971 光刻设备和器件制造方法
429. 200810246318 在薄膜光伏电池板制造上的激光刻膜工艺方法
430. 200810043986 光刻胶显影模拟的方法
431. 200810043959 光刻机硅片承载台及其使用方法
432. 200810043870 在线监控光刻条件的方法
433. 200810043868 光刻机对准方法
434. 200810228795 一种高精度光刻胶分配泵控制装置及其控制方法
435. 200810225785 百纳米级窄线宽多种形貌全息光栅光刻胶图样的制备方法
436. 200810225227 控制特征尺寸的光刻方法及光刻系统
437. 200810202117 去除光刻胶残留及刻蚀反应物颗粒的方法
438. 200810201559 光敏性干膜的光刻方法
439. 200810201445 一种在金属铜表面的光刻方法
440. 200810039465 用于光刻设备的对准系统、对准方法及增强型对准标记
441. 200810038391 光刻设备的探测装置、探测方法及制造方法
442. 200810038123 一种用于光刻设备对准系统的对准标记及其使用方法
443. 200810036207 一种用于光刻机调焦系统性能评价的装置及方法
444. 200880019667 污染防止系统、光刻设备、辐射源以及制造器件的方法
445. 200810222119 一种光刻后注入离子的方法
446. 200810165661 用于浸渍光刻系统的清洁溶液和使用其的浸渍光刻方法
447. 200810043806 在线监控光刻条件的方法
448. 200880024087 光刻设备和器件制造方法
449. 200880022447 通过立体光刻制成的澄清无色三维制品以及这种制品的制造方法
450. 200880020205 光刻设备和方法
451. 200880018349 用于实施基于模型的光刻引导的布局设计的方法
452. 200880015585 防反射膜形成用组合物、以及使用该组合物的光刻胶图案形成方法
453. 200880015584 防反射膜形成用组合物、以及使用该组合物的光刻胶图案形成方法
454. 200880014683 采用负性光刻胶刻蚀玻璃或金属基底的方法以及采用该方法制备印刷版的方法
455. 200810043759 用于解决在高台阶基底条件下光刻胶涂布异常的方法
456. 200810043750 提高光刻套刻精度的方法
457. 200810042387 一种光刻机台的光刻灯的自动置换方法和装置
458. 200810118408 去除光刻胶层的方法
459. 200810043687 不同倍率光刻机之间的套刻精度的测量方法
460. 200810041879 光刻方法及系统
461. 200810041567 光刻工艺的监控方法及系统
462. 200880010617 用于激光刻蚀太阳能电池的方法
463. 200880009217 污染物阻止系统、光刻设备、辐射源和制造器件的方法
464. 200880008283 器件制造方法、光刻设备和计算机程序
465. 200810146640 一种酚醛清漆树脂、其制备方法以及含有该树脂的光刻胶组合物
466. 200810041141 减小曝光图形宽度的光刻方法
467. 200810132179 一种光学玻璃蚀刻装置及方法
468. 200810116879 光刻胶毛刺边缘形成方法和TFT-LCD阵列基板制造方法
469. 200810043651 光刻机透镜像差的检测装置及其方法
470. 200810032843 一种光刻机杂散光的自动测量方法
471. 200810025339 带有热斑激光刻蚀环的硅太阳能电池及其制备方法
472. 200880008227 氧化铟锡电子束光刻胶的合成方法和使用其形成氧化铟锡图案的方法
473. 200880004238 微光刻投射曝光设备的照明系统中多镜阵列的监测方法和设备
474. 200810064693 激光刻蚀硅脉象传感器悬臂梁的方法
475. 200810220040 一种激光刻蚀薄膜的方法
476. 200810019857 一种正性光刻胶剥离液及其制备方法
477. 200880007370 去除光刻设备的元件上的沉积物的方法
478. 200810126163 银镜背面的激光雕刻方法
479. 200810125065 光刻工艺中将磁头长形条连接起来的方法及磁头制造方法
480. 200810122776 光刻机曝光强度与均匀度的管理方法
481. 200810115801 获得涨缩量参数并提高光刻设备分辨率方法、装置和系统
482. 200880004740 具有等离子体辐射源的设备和形成辐射束的方法以及光刻设备
483. 200880002859 使用自组装聚合物进行亚光刻互连构图的方法
484. 200810113998 光刻设备焦距监测方法
485. 200810113982 修正光刻胶图形误差的方法
486. 200810113693 去除光刻胶层方法
487. 200810038406 一种激光雕刻的线阵导光板及其制备方法
488. 200810038390 降低天线效应的光刻方法
489. 200880002419 制造器件的方法和光刻设备
490. 200810037677 可有效去除晶圆光刻工艺过程中显影缺陷的显影方法
491. 200810105622 光刻胶用量检测方法和系统、数据分类采集系统
492. 200880001744 使用嵌段共聚物自组装进行亚光刻图案化的方法
493. 200810104229 一种用倒梯形剖面的光刻胶制作介质边缘缓坡的方法
494. 200810104079 一种获取光刻机最佳参数的方法及装置
495. 200810095811 激光刻膜设备和划线方法及用其制造的非晶硅薄膜光伏板
496. 200810093317 监控光刻工艺的方法与监控标记
497. 200810090300 光刻胶图案的修补方法
498. 200810036660 带有散射条的掩模版组合及光刻方法
499. 200810035092 一种光刻胶去除方法
500. 200810083777 光学刻录装置及光学储存媒体的刻录方法
501. 200810033973 减小LDD光刻制程中硅凹陷的方法
502. 200810057937 用于X射线曝光的光刻掩模结构及其制备方法
503. 200810032342 一种光刻系统NA-σ的设置方法
504. 200810005443 进行光刻工艺的方法
505. 200810191143 工作台系统、包括这种工作台系统的光刻设备及校正方法
506. 200810088048 光刻曝光装置、系统和光刻图形化方法
507. 200810190664 负型光刻胶组合物及使用其制造阵列基板的方法
508. 200810188786 检测方法和设备、光刻处理单元和设备、器件制造方法
509. 200810145180 光刻设备和器件制造方法
510. 200810204975 光刻机投影物镜波像差测量装置及方法
511. 200810191102 放置衬底与传送衬底的方法、支撑系统和光刻投影设备
512. 200810185625 浸没光刻设备和器件制造方法
513. 200810185623 光刻方法和设备
514. 200810185622 光刻设备、工作台系统和工作台控制方法
515. 200810215061 光刻设备和器件制造方法
516. 200810189335 光刻设备、投影组件、组合装置以及主动阻尼方法
517. 200810179829 光刻工艺窗口模拟的方法和系统
518. 200810179765 光刻设备和器件制造方法
519. 200810136697 对准方法和装置、光刻装置、计量装置和器件的制造方法
520. 200810219094 一种三次光刻实现的TFT像素结构及其制作方法
521. 200810207793 表面等离子体共振曝光光刻方法
522. 200810191103 光刻设备以及器件制造方法
523. 200810184298 衬底传送方法、传送系统和光刻投影设备
524. 200810146575 光学刻录装置及其刻录功率控制方法
525. 200810174878 激光雕刻用树脂组合物、激光雕刻用树脂印刷版原版、凸版印刷版以及制备凸版印刷版的方法
526. 200810217492 太阳能薄膜电池激光蚀刻设备及蚀刻方法
527. 200810203390 红外焦平面深微台面列阵加工的光刻胶涂敷方法
528. 200810168934 涉及浸没光刻技术的方法和浸没光刻设备
529. 200810168238 使用光刻制造具有内部光学路径的电路化衬底的方法
530. 200810161075 光刻设备和清洁光刻设备的方法
531. 200810202301 基于倾斜旋转基片与模版光刻制备微针阵列的方法
532. 200810079780 一种预涂感光蚀刻印刷版的制作方法
533. 200810213774 光刻方法及掩模装置
534. 200810145952 光刻设备和器件制造方法
535. 200810130025 光刻设备和污染物去除或防止方法
536. 200810128668 控制系统、光刻投影设备、控制方法和计算机程序产品
537. 200810120408 采用激光雕刻制作工艺花灯的方法
538. 200810050936 凹球面光学器件旋涂光刻胶的方法
539. 200810041891 基于多光刻胶有效扩散长度的光学临近修正模型校准方法
540. 200810128888 辐射检测器及其制造方法和包含辐射检测器的光刻设备
541. 200810041262 一种光刻机投影物镜波像差在线测量装置及方法
542. 200810041152 一种用于光刻设备的对准系统及对准方法
543. 200810142892 光刻设备、控制方法以及标定方法
544. 200810024289 一种半导体材料上的光刻标记及其制作方法
545. 200810098254 在基板上或中制造结构的方法及由此获得的器件、使子光刻图案反相的方法、成像层
546. 200810094981 光刻设备和方法
547. 200810094978 清洗装置、光刻设备和光刻设备清洗方法
548. 200810000750 光刻工艺的进行方法及半导体制造的方法
549. 200810127707 光刻胶组合物和使用其制造薄膜晶体管基底的方法
550. 200810092608 光刻装置和器件制造方法
551. 200810092085 检验方法和设备、光刻处理单元和器件制造方法
552. 200810092083 光刻胶组合物、其涂覆方法、形成图案的方法及显示器
553. 200810092008 光刻胶剥离组合物和使用其剥离光刻胶膜的方法
554. 200810091113 光刻胶组合物及使用其形成光刻胶图案的方法
555. 200810085879 光刻设备和方法
556. 200810083467 用于光刻设备的照射器和光刻方法
557. 200810083206 器件制造方法、计算机程序和光刻设备
558. 200810036206 光刻机成像质量及工件台定位精度的测量系统与测量方法
559. 200810035119 一种可改善图形质量的光刻方法
560. 200810023485 一种无掩膜光刻系统中曝光图形临近效应校正方法
561. 200810011210 聚合物光刻胶超声时效的装置和方法
562. 200810004858 感光化合物、感光组合物、光刻胶图案形成方法和器件制造方法
563. 200810004856 感光化合物、感光组合物、光刻胶图案形成方法和器件制造方法
564. 200980111337 使用单个模具立体光刻制造眼科装置的方法
565. 200980110569 光刻设备和污染物检测方法
566. 200980109898 用于激光刻后去除流体的设备和方法
567. 200980109474 靶材、源、ＥＵＶ光刻设备和使用该设备的器件制造方法
568. 200980109332 评估衬底的模型的方法、检查设备和光刻设备
569. 200980109155 致动器系统、光刻设备以及器件制造方法
570. 200980107377 光刻设备、等离子体源以及反射方法
571. 200910057630 一种用于光刻机的掩模预对准装置及方法
572. 200910047580 多重成像光刻装置以及方法
573. 200910047579 光刻机工件台移动调整装置及方法
574. 200910046485 光刻机扫描曝光系统及其扫描曝光方法
575. 200910046309 光刻设备的传感器装置、制造方法与自校准方法
576. 200980107411 光刻设备和方法
577. 200980106786 构造和布置以产生辐射的装置、光刻设备以及器件制造方法
578. 200980106555 含ＴｉＯ２的石英玻璃和使用高能量密度的ＥＵＶ光刻用光学部件以及用于其制造的特别温度控制方法
579. 200980106463 光学元件、包括该光学元件的光刻设备、器件制造方法以及所制造的器件
580. 200910057605 形成光刻对准标记的方法
581. 200910054836 光刻胶层残留物的清洗方法
582. 200910050310 基于二极照明的光刻机投影物镜奇像差的检测系统和方法
583. 200980105201 微光刻投射曝光设备的光学系统和微光刻曝光方法
584. 200910249084 用于光刻的组合物和方法
585. 200910249079 用于光刻的包含杂取代的碳环芳基组分的组合物和方法
586. 200910057580 一种用于光刻设备的对准标记和对准方法
587. 200910054405 光刻方法
588. 200910054019 改善快闪存储器制作工艺中光刻胶涂布缺陷的方法
589. 200910050404 光刻机投影物镜温度控制方法
590. 200910049551 一种光刻机工件台垂向测量系统的校准方法
591. 200910049046 光刻技术中对准信号的处理方法
592. 200910046823 光刻机扫描曝光方法
593. 200980104017 一种用于进行电子束光刻的方法
594. 200910179464 纳米压印光刻中精密表面改性方法和设备
595. 200910057428 ＮＶＭ器件制备中光刻对准记号的制备方法
596. 200910057423 一种增强外延后光刻套准精度的方法
597. 200910057412 旋转标记及利用其监测光刻质量的方法
598. 200910053203 一种光刻工艺中移相掩模版的建模方法
599. 200910045208 用于光刻对准数据检验的存储装置、方法和对准控制系统
600. 200980101738 具有低水含量的光刻胶－去膜液的浓缩溶液的生产方法
601. 200910085436 形成沟槽的方法、形成金属连线的方法、光刻方法及设备
602. 200910085334 避免光刻胶层图形损伤的方法
603. 200910249083 用于光刻的包含嵌段共聚物的组合物和方法
604. 200910133678 纳米光刻系统以及纳米光刻方法
605. 200910081983 采用光刻和干法刻蚀制作倾斜侧壁二氧化硅结构的方法
606. 200910168480 无掩膜光刻系统及图案化多个基材的方法
607. 200910081225 以光刻胶为掩膜对二氧化硅进行深刻蚀的方法
608. 200910243538 一种用于高深宽比纳米图形加工的表面等离子体成像光刻方法
609. 200910146319 在边缘光刻胶去除过程中减少晶圆缺陷的方法及晶圆结构
610. 200910259041 光刻设备和器件制造方法
611. 200910253825 光刻设备和器件制造方法
612. 200910246914 制造蓝光刻录光盘的生产系统及生产方法
613. 200910243540 一种用于缩小投影超分辨成像器件和光刻方法
614. 200910046426 酯交换合成光刻胶单体碳刚性骨架结构丙烯酸酯类化合物的方法
615. 200910045979 光刻装置和方法
616. 200910264705 采用光刻技术制造光纤阵列Ｖ槽的方法
617. 200910262283 用于阻尼物体的方法、主动阻尼系统以及光刻设备
618. 200910262272 优化方法和光刻单元
619. 200910260605 用于光刻过程窗口最大化光学邻近效应校正的方法和系统
620. 200910260603 光刻设备和辐射至少两个目标部分的方法
621. 200910260477 用于光刻设备的方法
622. 200910260475 光刻设备和器件制造方法
623. 200910253786 光刻胶剥离剂用组合物及薄膜晶体管阵列基板的制造方法
624. 200910253279 流体抽取系统、光刻设备和器件制造方法
625. 200910249060 一种电热驱动光刻胶微夹钳的制作方法
626. 200910222443 用于确定光刻掩模的可制造性的方法
627. 200910222007 用于确定光刻掩模的可制造性的方法和系统
628. 200910208363 用于确定光刻掩模的可制造性的方法和系统
629. 200910264459 利用接触式光刻机提高丝网印刷精确对准装置及其方法
630. 200910243539 一种用于高深宽比纳米图形加工的反射式表面等离子体成像光刻方法
631. 200910241923 一种利用金属反射膜结构实现提高表面等离子体光刻质量的方法
632. 200910241920 一种用于２００ｎｍ以下线宽超衍射光刻的硅掩模及其制作方法
633. 200910241909 光刻机硅片台双台交换系统及其交换方法
634. 200910217946 利用多光束干涉光刻技术制备仿生彩色超疏水涂层的方法
635. 200910212014 用于光刻校准的方法和系统
636. 200910207632 用于针对双图案化过程进行光刻验证的方法和系统
637. 200910179441 用于在远紫外光刻中将同步加速器用作源的方法和装置
638. 200910174037 光刻设备以及去除污染物的方法
639. 200910241910 一种光刻机硅片台双台交换方法及系统
640. 200910178543 光刻设备和器件制造方法
641. 200910126291 光刻光掩模、对准方法和检验对准精确度的方法
642. 200910073198 凹模热压印中应用光刻胶整形改善填充和减少残胶的方法
643. 200910235550 基于聚合物激光烧蚀的三维光刻方法
644. 200910009620 制备凸版的方法和激光雕刻用印版原版
645. 200910203135 光刻设备和器件制造方法
646. 200910203134 光刻设备和器件制造方法
647. 200910203133 光刻设备和器件制造方法
648. 200910178002 光刻设备和方法
649. 200910173503 光刻设备和运行该设备的方法
650. 200910168669 流体处理结构、光刻设备和器件制造方法
651. 200910138199 光刻方法
652. 200910089421 光读出红外图像传感器像元芯片的光刻方法
653. 200910173478 光刻装置和器件制造方法
654. 200910053710 用于提高焦深的光刻散射条及其制造方法
655. 200910151115 光刻设备和器件制造方法
656. 200910147442 光刻构图方法
657. 200910053888 光刻胶显影过程三维模拟可视化方法
658. 200910117348 电子束光刻技术制备图案化碳纳米结构材料的方法
659. 200910090371 半导体工艺中光刻机台的控制方法及装置
660. 200910150481 浸液光刻显影处理方法、该显影处理方法中使用的溶液和使用该显影处理方法的电子装置
661. 200910147537 光刻设备和方法
662. 200910146367 光刻设备及器件制造方法
663. 200910142675 光刻设备、复合材料以及制造方法
664. 200910055927 光刻机硅片对准信号的处理方法
665. 200910008703 制造远紫外光刻掩模的方法
666. 200910203131 衬底台、光刻设备和器件制造方法
667. 200910203129 衬底台、光刻设备和器件制造方法
668. 200910159503 光刻设备及器件制造方法
669. 200910146623 光刻设备和器件制造方法
670. 200910142608 确定衬底中的缺陷的方法和光刻工艺中曝光衬底的设备
671. 200910049796 光刻胶涂覆方法
672. 200910040526 一种立体光刻快速成形光敏树脂及其制备方法和应用
673. 200910140581 流体处理结构、光刻设备和器件制造方法
674. 200910045415 用于光刻装置的对准标记、对准系统及其对准方法
675. 200910141992 浸没式光刻设备、干燥装置、浸没量测设备和器件制造方法
676. 200910134770 光刻设备和运行光刻设备的方法
677. 200910112002 带有激光雕刻图文的鞋及其制造方法
678. 200910052800 光刻设备的对准基准板及其制造工艺方法
679. 200910138754 确定曝光设置的方法、光刻曝光设备、计算机程序和数据载体
680. 200910137005 位置控制系统、光刻设备及控制可移动物体的位置的方法
681. 200910134805 定位系统、光刻设备和器件制造方法
682. 200910134442 光刻胶树脂、及利用其形成图案的方法和制造显示面板的方法
683. 200910133536 台系统校准方法、台系统和包括这样的台系统的光刻设备
684. 200910051547 一种光刻曝光剂量控制装置与方法
685. 200910046828 一种用于光刻设备的对准系统和对准方法
686. 200910051320 平移对称标记及光刻机投影物镜波像差原位检测方法
687. 200910049989 用于光刻装置的对准系统、光刻装置及其对准方法
688. 200910049048 一种孔内光刻胶残余的检测方法以及相应的孔条宽测量方法
689. 200910132571 光刻设备和器件制造方法
690. 200910129687 激光雕刻用凸版印刷版原版和凸版印刷版及其制造方法
691. 200910126844 用于光刻设备中的晶片粗对准的方法
692. 200910048281 掩模版承版台及其光刻设备和双曝光方法
693. 200910045240 光刻系统及其可变狭缝与掩模台中心偏差的测量方法
694. 200910118572 用于提供对准标记的方法、器件制造方法和光刻设备
695. 200910118242 光刻设备和方法
696. 200910118730 用于激光刻痕包装的装置和方法
697. 200910047573 一种用于光刻设备的对准系统及对准方法
698. 200910047214 一种用于光刻设备的曝光控制系统及控制方法
699. 200910004109 支撑结构、位置控制系统、光刻设备和位置控制方法
700. 200910003815 光刻设备和校准方法
701. 200910046308 用于光刻设备的对准标记搜索系统及其对准标记搜索方法
702. 200910037497 不用光刻胶和贵金属活化剂的线路板及其种子层制作方法
703. 201010240766 移除光刻胶的方法
704. 201010227605 光刻装置和器件制造方法
705. 201010225185 光刻装置、湿浸式投影装置和器件制造方法
706. 201010186504 光刻装置和器件制造方法
707. 201010163966 光刻装置和器件制造方法
708. 201010150870 光刻装置和器件制造方法
709. 201010150862 光刻装置和器件制造方法