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1 溅射法生产高稳定性金属膜电阻器用的高阻靶材制造方法
2 无磁屏蔽型铁磁性靶材溅射阴极
3 溅射靶材
4 制备溅射靶材料的方法
5 溅射玻璃镀膜用镍基变形合金靶材
6 氧化铟/氧化锡溅射靶材及其制造方法
7 含混合稀土元素高阻溅射靶材
8 Co—Fe—Zr系合金溅射靶材及其制造方法
9 导电氧化物陶瓷溅射靶材的热压制备方法
10 金属电阻材料、溅射靶材、电阻薄膜及其制造方法
11 合金靶材磁控溅射法制备CoSi2</sub>薄膜的方法
12 一种可提高靶材利用率的磁控溅射靶
13 一种用于制作磁性直流磁控溅射钴靶材的方法
14 具有改进表面结构的溅射靶材
15 溅射靶材料及其生产方法
16 氧化物烧结体、溅射靶材、透明导电性薄膜及其制造方法
17 半反射膜或反射膜，光学信息记录介质和溅射靶材
18 溅射金刚石靶材及其制造方法
19 用于改进的磁性层的溅射靶材料
20 光记录介质的反射层形成用银合金溅射靶材
21 银合金、其溅射靶材料及其薄膜
22 溅射靶材
23 一种制备溅射靶材料的方法
24 一种制造溅射靶材的模锻工艺及其模锻挤压模具
25 利用粉末状靶材制备碲化铋薄膜的单靶溅射方法
26 大尺寸陶瓷溅射靶材的热压烧结成型方法
27 靶材料及其在溅射过程中的应用
28 用于溅射腔室的靶材和工艺套件组件
29 溅射靶用靶材的制造方法
30 高完整性溅射靶材以及其批量制造方法
31 一种用于承载可转动的溅射靶材的扁平端块
32 一种用于可转动靶材溅射设备的端块
33 由InGaO3</sub>(ZnO)结晶相形成的氧化物半导体用溅射靶材及其制造方法
34 可旋转溅射靶材支撑圆柱、可旋转溅射靶材、制造可旋转溅射靶材的方法以及涂覆设备
35 具有圆形地对称于溅射靶材的RF及DC馈给的物理气相沉积反应器
36 用于形成薄膜晶体管用布线膜的溅射靶材
37 半导体及太阳能溅射靶材行业用钨钛合金靶材的制备方法
38 一种高密度低成本氧化锌铝溅射靶材的制造方法
39 可旋转溅射靶材座、可旋转溅射靶材、涂覆设备、制造可旋转溅射靶材的方法、靶材座连接装置、以及将用于溅射......
40 光伏吸收层溅射镀膜的铜镓合金旋转靶材及制备方法
41 铜铟镓硒靶材连续溅射制备CIGS太阳电池吸收层的新工艺
42 一种溅射靶材用钼铌合金板的制备方法
43 一种金属电阻膜用Ni-Cr-Si溅射靶材的制造方法
44 一种真空溅射镀膜用硅铝合金中空旋转靶材的制备方法
45 溅射靶材料、其制备方法、及使用其制备的薄膜
46 可延长靶材使用寿命的平面磁控溅射靶
47 溅射式镀膜机用靶材结构
48 一种多元素溅射靶材结构
49 一种磁控溅射铁磁材料的靶材结构
50 长寿命溅射靶材组件
51 溅射靶材
52 溅射靶材和透明导电薄膜
53 等离子体溅射靶材装置及其制造方法
54 金属双层结构体及其制造方法以及使用该方法的溅射靶材的再生方法
55 SiOx</sub>:Si溅射靶材及其制造及使用方法
56 氧化锌类的非晶质薄膜用溅射靶材及其制造方法
57 一种制备铜铟硒溅射靶材的工艺
58 多孔叠层金属或合金溅射靶材的制备方法
59 一种磁控溅射玫瑰金靶材及其制备方法
60 溅射靶、溅射靶材及其制造方法
61 半导体装置、其制造方法以及用于该制造方法的溅射用靶材
62 一种溅射镀膜用高硅含量硅铝合金靶材及其制备方法
63 一种可提高靶材利用率的平面磁控溅射阴极
64 反射膜或半透反射膜用的薄膜及溅射靶材以及光记录介质
65 反射膜或半透反射膜用的薄膜及溅射靶材以及光记录介质
66 透明导电膜及其制造方法以及用于其制造的溅射靶材
67 反射膜或半透反射膜用的薄膜及溅射靶材以及光记录介质
68 反射膜或半透反射膜用的薄膜及溅射靶材以及光记录介质
69 一种制备铜溅射靶材的方法
70 一种半导体及显示器用高纯铜溅射靶材的制造方法
71 Al-Ni-B系合金溅射靶材
72 显示装置用Al合金膜、显示装置以及溅射靶材
73 一种用于磁控溅射的高纯镍靶材
74 ITO溅射靶材的制备方法
75 燃料电池的金属隔板用合金皮膜、其制造方法和溅射用靶材、以及金属隔板和燃料电池
76 掺铌纳米铟锡氧化物粉末及其高密度溅射镀膜靶材的制备方法
77 磁控溅射镀膜系统中提高平面靶材利用率的方法
78 铜溅射靶材料和溅射法
79 溅射靶材以及由该溅射靶材所得的溅射靶
80 超高纯铝超细晶粒溅射靶材的制备方法
81 一种制备铌溅射靶材的方法
82 制备相变材料的溅射靶材的方法
83 具有提高的寿命和溅射均匀度的溅射靶材
84 高磁通量的钴铁基合金磁性溅射靶材及其制造方法
85 一种氧化锌基陶瓷溅射靶材的中温制备方法
86 溅射靶材的表面处理方法
87 溅射靶材的塑性变形方法
88 铜或铜合金溅射靶材的清洗方法
89 一种溅射靶材的制造方法
90 多组分氧化物的溅射靶材及其制造方法
91 ZnO基粉末-金属复合溅射靶材及其制备方法
92 磁控溅射靶材表面粗糙度的监测方法和系统
93 一种氧化锌基溅射靶材的制备方法
94 一种高稳定性能透明导电膜用AZO溅射靶材及制造方法
95 用于磁控溅射镀膜的导电Nb2</sub>O5-x</sub>靶材及生产方法
96 一种透明导电膜用IZGO溅射靶材及制造方法
97 大尺寸溅射靶材的表面处理方法
98 一种可提高溅射工艺靶材利用率的方法
99 多晶MgO烧结体及其制造方法以及溅射用MgO靶材
100 一种用于真空磁控溅射的香槟色金靶材及其制备方法
101 一种高纯钼溅射靶材的制备方法
102 金属系溅射靶材
103 铝或铝合金溅射靶材的清洗方法
104 一种高纯钽溅射靶材的加工工艺
105 溅射靶材用钨钛合金板的制备方法
106 垂直磁记录介质的中间层膜制备用的溅射靶材料和通过使用其制备的薄膜
107 光记录介质用铝合金反射膜以及用于形成该反射膜的溅射靶材
108 A1基合金溅射靶材的制造方法
109 金属混合真空溅射合金靶材材料及其制作方法及用途
110 光信息记录介质用反射膜及光信息记录介质反射膜形成用溅射靶材
111 溅射靶材
112 在靶材上同时使用射频和直流功率的超均匀溅射沉积法
113 一种高纯铜溅射靶材的制备方法
114 用于在垂直磁记录介质中的软磁膜层的合金
115 氧化物烧结体及溅射靶材
116 一种玻璃镀膜用ZnSn溅射靶材的制造方法
117 硅器件结构及其形成时所使用的溅射靶材料
118 热等静压生产平板显示器用钼合金溅射靶材的方法
119 防止反溅射物质剥落的靶材及膜层的形成方法
120 一种生产泡沫镍金属化的溅射阴极靶材结构
121 一种制造溅射靶材的挤压模锻挤压模具
122 一种可提高靶材利用率的平面磁控溅射阴极
123 多元素溅射靶材结构