磁控溅射镀膜方法工艺 磁控溅射镀膜机装置构造技术【小套】
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1 磁控溅射热弯镀膜玻璃及其生产方法以及装置
2 可调式对向磁控溅射源及其镀膜方法
3 非平衡平面磁控溅射阴极及其镀膜装置
4 磁控溅射卷绕镀膜机
5 平面磁控溅射靶及其镀膜方法
6 复合磁控溅射靶及其镀膜方法
7 磁控溅射镀膜夹具及其使用方法
8 一种平面磁控溅射-多工位镀膜装置
9 霍尔源激励磁控溅射增强型多弧离子镀膜方法
10 磁控溅射镀膜机的永磁qiang靶装置
11 一种磁控溅射镀膜用低熔点金属与背板加工工艺
12 防污染超高真空磁控溅射镀膜装置
13 多级加速模式下磁控溅射镀膜方法
14 可热处理的磁控溅射方法制备的低辐射镀膜玻璃
15 霍尔源激励磁控溅射增强型磁过滤多弧离子复合镀膜方法
16 太阳能集热管真空磁控溅射连续镀膜线系统
17 磁控溅射镀膜装置
18 对聚酯型聚氨酯泡沫基体进行磁控溅射镀膜的设备及方法
19 一种分压控制大面积磁控溅射镀膜系统及其方法
20 一种真空磁控溅射镀膜用旋转阴极驱动系统
21 将陶瓷靶应用于磁控溅射镀膜玻璃的生产工艺
22 少落尘的真空磁控溅射镀膜设备
23 磁控溅射镀膜生产系统及其生产工艺
24 用于磁控溅射平面靶镀膜设备的可调靶基距装置
25 生产磁控溅射热弯镀膜玻璃的装置
26 高反射镜连续磁控溅射镀膜生产设备
27 单室固定靶磁控溅射幕墙玻璃镀膜机
28 一种新型磁控溅射镀膜机
29 一种多功能的磁控溅射离子镀膜装置
30 双室旋转磁控溅射镀膜机
31 多弧-磁控溅射多功能镀膜设备
32 双端磁控溅射离子镀膜机
33 电弧蒸发和磁控溅射相结合的离子镀膜设备
34 磁控溅射-多弧多功能真空镀膜设备
35 旋转磁控柱状多弧源-平面磁控溅射源离子镀膜机
36 一种柱状磁控溅射源蚌形双室真空镀膜机
37 等离子体型阴极弧源一磁控溅射镀膜机
38 平面磁控溅射氧化铟锡膜卷绕镀膜机
39 泡沫镍磁控溅射卷绕镀膜机
40 多靶磁控溅射卷绕镀膜机
41 磁控溅射泡沫镍卷绕镀膜机
42 滚落式双阴极平面磁控溅射金属膜电阻镀膜装置
43 立式双室双面镀磁控溅射卷绕镀膜机
44 磁控溅射镀膜用真空腔室
45 真空镀膜机磁控溅射靶装置
46 一种恒功率输出磁控溅射镀膜电源
47 一种磁控溅射镀膜设备
48 一种磁控溅射镀膜装置
49 一种可改善磁控溅射镀膜均匀性的镀膜装置
50 用于粉体颗粒表面镀膜的对靶磁控溅射装置
51 星型双回转磁控溅射导电玻璃镀膜生产线及生产工艺
52 多工位轴瓦磁控溅射镀膜装置
53 应用于磁控溅射镀膜中的膜厚修正工艺及系统
54 磁控溅射与多弧离子镀复合式真空镀膜方法
55 能量过滤磁控溅射镀膜方法及实施该方法的装置
56 大面积抗反射导电膜连续磁控溅射镀膜生产线
57 微波食品包装阻隔膜及制备法与磁控溅射法陶瓷镀膜装置
58 一种真空磁控溅射卷绕镀膜装置
59 一种用于贵重金属镀膜的磁控溅射靶
60 多功能磁控溅射连续镀膜机
61 磁控溅射镀膜系统中提高平面靶材利用率的方法
62 宽幅连续磁控溅射镀膜辊正反螺旋流冷却结构
63 一种实现工件外表面均匀镀膜的磁控溅射装置及方法
64 一种连续卷绕式磁控溅射真空镀膜装置
65 超声波样品台以及用其进行粉体磁控溅射镀膜的方法
66 滚筒式样品台以及用其进行粉体颗粒的磁控溅射镀膜方法
67 磁控溅射镀膜阴极装置
68 用于磁控溅射镀膜的导电Nb2</sub>O5-x</sub>靶材及生产方法
69 真空磁控溅射多弧离子复合镀膜机
70 多功能磁控溅射镀膜装置
71 连续式太阳能集热板芯片真空磁控溅射镀膜生产线系统
72 真空镀膜磁控溅射磁流体密封旋转靶
73 一种基于高功率脉冲磁控溅射的离化率可控镀膜设备
74 基于非平衡磁场的双通道连续磁控溅射镀膜设备
75 一种过压脉冲增强磁控溅射镀膜方法
76 辊轮溅射污染低的真空磁控溅射镀膜装置
77 一种恒功率输出磁控溅射镀膜电源
78 一种离子束磁控溅射两步法制备微晶硅薄膜的方法和一种离子束磁控溅射复合镀膜的装置
79 一种三靶磁控溅射镀膜机
80 ITO镀膜玻璃偏心轴旋转的平面磁控溅射装置
81 防污染超高真空磁控溅射镀膜装置
82 磁控溅射卷绕镀膜机
83 磁控溅射镀膜机的永磁qiang靶装置
84 一种磁控溅射镀膜用铝罩
85 一种磁控溅射真空镀膜机的自动升压装置
86 磁控溅射与多弧离子镀复合式真空镀膜机
87 宽幅连续磁控溅射镀膜辊正反螺旋流冷却结构
88 大面积抗反射导电膜连续磁控溅射镀膜生产线
89 批量制备镀膜颗粒的滚筒式磁控溅射设备
90 一种连续卷绕式磁控溅射真空镀膜装置
91 连续式平面磁控溅射镀膜设备
92 一种真空磁控溅射卷绕镀膜装置
93 大型复杂曲面制件磁控溅射镀膜机
94 在带状纤维织物上磁控溅射纳米银的卷绕镀膜机
95 多功能磁控溅射连续镀膜机
96 真空镀膜磁控溅射磁流体密封旋转靶
97 直立筒式多靶磁控溅射镀膜机
98 一种适用于粉体磁控溅射镀膜用的超声波样品台
99 磁控溅射镀膜设备
100 一种带有补偿斜靶的真空磁控溅射镀膜机
101 一种磁控溅射镀膜设备中的靶材结构
102 一种磁控溅射镀膜机
103 一种真空磁控溅射镀膜用旋转阴极驱动装置
104 真空磁控溅射镀膜机
105 真空磁控溅射多弧离子复合镀膜机
106 磁控溅射真空镀膜机组
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2、资料说明:资料都是国家专利文献原版全文内容,含技术背景/原理、材料配方比例、制作方法、工艺步骤、技术关键、结构设计图(部分设备类有),以及发明人姓名、地址/邮编、申请日期、专利号、权利要求等详细信息。每一项专利文献的内容详略都是不同的,平均每一项4-10页,多的有几十页的。