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抗蚀剂的加工方法 抗蚀剂组合物生产工艺 抗蚀剂加工技术(上)【小套】

点击数: 更新时间:2021-05-05 20:37
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资料编号:ZL-13607

资料价格:298元

1 化学放大型正性抗蚀剂组合物
2 抗蚀剂和蚀刻副产品除去组合物及使用该组合物除去抗蚀剂的方法
3 倒锥形抗蚀图案的形成方法
4 用于冲洗光致抗蚀剂的稀释剂和处理光致抗蚀剂层的方法
5 5-亚甲-1
6 废抗蚀剂剥离液再生装置和再生方法
7 抗蚀剂图形增厚材料、抗蚀剂图形及其形成方法以及半导体器件及其制造方法
8 抗蚀图增厚材料、抗蚀图及其形成工艺以及半导体器件及其制造工艺
9 光致抗蚀剂残渣除去液组合物
10 化学增幅型正性抗蚀剂组合物
11 光致抗蚀剂显影液
12 正片型感光性抗蚀剂组合物及其用途
13 抗蚀剂抗反射涂层组合物
14 形成具有抗蚀刻效应的光阻的方法
15 除去光致抗蚀剂的洗涤液
16 光致抗蚀剂组合物
17 一种在使用下游等离子体的绝缘蚀刻器中的改进的抗蚀剂剥离
18 短波长成像用光致抗蚀剂组合物
19 生产光敏抗蚀剂组合物的方法及用该组合物生产半导体元件的方法
20 光致抗蚀剂组合物及用其形成图案的方法
21 光致抗蚀剂组合物及用该组合物形成图案的方法
22 除去剩余光致抗蚀剂和残留侧壁钝化物的原位后蚀刻方法
23 基于近红外分光计控制光致抗蚀剂剥离过程的方法和再生光致抗蚀剂剥离剂成分的方法
24 一种抗蚀图形改进材料以及使用该材料制备抗蚀图形的方法
25 抗蚀剂组合物
26 酚醛清漆树脂溶液、正型光致抗蚀剂组合物及其调制方法
27 用超临界二氧化碳工艺从半导体上去除光致抗蚀剂和光致抗蚀残留物
28 在导电性基板上形成抗蚀剂层的装置
29 使用在水溶液中具有高当量电导率的导电材料的抗蚀剂剥离剂组合物
30 光致抗蚀剂残渣除去液组合物
31 形成抗蚀图的方法
32 复合光致抗蚀剂层结构
33 1
34 抗蚀性可固化树脂组合物及其固化产品
35 感光性元件、抗蚀图形的形成方法和印刷电路板的制造方法
36 带有铝
37 形成光致抗蚀图形的方法
38 感光性树脂组合物及其用于涂膜、抗蚀印色、抗蚀保护膜、焊料抗蚀保护膜和印刷电路基片
39 可干法显影的正性抗蚀剂
40 薄膜器件工艺形成凹状光致抗蚀剂剥离外形的方法及器件
41 提高金属表面自沉积涂层抗蚀性的处理
42 聚合物组合物和抗蚀材料
43 聚合物和抗蚀材料
44 正性光致抗蚀剂的显影方法和所用的组合物
45 聚丁二烯系正型抗蚀剂及合成方法
46 印刷线路板的图案抗蚀法
47 一种光固化抗蚀印料的制备方法
48 抗蚀斑抗菌口用复方
49 给洗轮机部件敷加抗蚀表面的方法
50 无毒的抗蚀组合物及其使用方法
51 碱水型显影光成像抗蚀剂
52 从印刷电路板上清除抗蚀剂的方法
53 铝换热器及铝箔表面的亲水抗蚀成膜剂及成膜方法
54 一种稀土催渗盐浴抗蚀氮化的方法
55 抗蚀斑抗菌口用复方
56 光抗蚀剂组合物及应用该组合物产生图形的方法
57 改进的海上构筑物抗蚀保护用消耗性阳极及其制造方法
58 三合剂配制高抗渗、抗蚀混凝土的方法
59 用于光敏抗蚀剂层的显影剂
60 用以形成抗蚀图形的方法
61 用于供给光致抗蚀剂的系统
62 负型光致抗蚀剂及形成光致抗蚀图的方法
63 化学增强的抗蚀组合物
64 新的光致抗蚀剂共聚物
65 高分辨率的正作用干膜光致抗蚀剂
66 含N-乙烯基内酰胺衍生物的共聚物、其制法及光致抗蚀剂
67 使用氟化氩光致抗蚀剂的方法和装置
68 使用氟化氩光致抗蚀剂的方法和装置
69 无毒的抗蚀组合物及其使用方法
70 无毒的抗蚀组合物及其使用方法
71 抗蚀剂的显影方法以及显影装置
72 酚甲醛缩合物的分馏和由其生产的光敏抗蚀剂组合物
73 酚甲醛缩合物的分馏和由其生产的光敏抗蚀剂组合物
74 金属离子含量低的4
75 用于制备抗蚀剂的新方法
76 抗蚀剂剥离液控制装置
77 无毒的抗蚀组合物及其使用方法
78 生产抗蚀耐火材料的方法
79 氨基彩色发色团的金属离子含量的降低及其用于合成光致抗蚀剂的低金属含量抗反射底涂层
80 使用含聚合物的光致抗蚀剂的半导体装置及其制备方法
81 光敏聚合物和其化学放大抗蚀组合物
82 抗蚀涂层材料
83 共聚物树脂
84 光致抗蚀剂材料和用由其构成抗蚀图形的半导体装置制法
85 一种液体光致抗蚀剂 97197557.4 98125998.7 98800823.8 97198410.7 98117484.1 98108925.9 98117918.5 99125858.4 99125856.8 99118360.6 99126687.0 99800497.9 00102769.7 99122019.6 00106878.4 99119238.9 98123846.7 98123847.5 99111965.7 99117977.3 99119540.X 99118357.6 99124871.6 99124823.6 99110664.4 00124137.0 00123479.X 99801694.2 00126260.2 99802638.7 00126263.7 00124850.2 99802141.5 00116085.0 00126225.4 00131696.6 00133195.7 99808863.3 01117234.7 01110985.8 01110986.6 99811009.4 99811306.9 01115325.3 01117158.8 00126840.6 00134877.9 99804505.5 99126266.2 99807714.3 01118895.2 00118797.X 99815588.8 99814297.2 00131452.1 00809600.7 00809410.1 00807254.X 00811167.7 00812559.7 02104699.9 00813991.1 02119873.X 02118847.5 200680008846.3 200680008827.0 200680010250.7 200710146875.2 200710182370.1 200680007314.8 200710141905.0 200710153550.7 200710151862.4 200680011122.4 200680013280.3 200680013202.3 200710161548.4 200680016443.3 200680016732.3 200610143599.X 200680017257.1 200680017652.X 200680019019.4 200680018996.2 200680013572.7 200710078973.7 200710126352.1 200710194002.9 200710195638.5 200710193315.2 200710187512.3 200680021641.9 200680021622.6 200680019830.2 200680003206.3 200610165254.4 200710197166.7 卧龙 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2、资料说明:资料都是国家专利文献原版全文内容,含技术背景/原理、材料配方比例、制作方法、工艺步骤、技术关键、结构设计图(部分设备类有),以及发明人姓名、地址/邮编、申请日期、专利号、权利要求等详细信息。每一项专利文献的内容详略都是不同的,平均每一项4-10页,多的有几十页的。

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