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501 形成掩模坯板用抗蚀剂下层的膜的组合物、掩模坯板和掩模
502 除去光致抗蚀剂和后蚀刻残留物的气体混合物及其应用
503 抗蚀剂剥离剂组合物
504 金刚烷衍生物、其制造方法以及光致抗蚀剂用感光材料
505 抗蚀剂剥离废液再生方法和再生装置
506 抗蚀剂剥离废液再生方法和再生装置
507 从蚀刻晶片脱模光致抗蚀剂的方法
508 抗蚀图增厚材料、抗蚀图及其形成工艺以及半导体器件及其制造工艺
509 形成栅极图形的双重曝光双重抗蚀剂层工艺
510 抗蚀刻加热器及其组件
511 硫醇化合物和使用该化合物的光敏组合物与黑色基质抗蚀剂组合物
512 抗蚀剂组合物
513 光致抗蚀剂剥离装置、再循环光致抗蚀剂剥离剂的方法
514 抗蚀剂组合物、形成抗蚀剂图案的方法、半导体器件及其制造方法
515 用于清洗抗蚀剂脱膜剂的化学清洗组合物
516 用于在光致抗蚀剂图案上涂覆的组合物
517 深UV用光致抗蚀剂组合物及其方法
518 光致抗蚀剂涂布液供给装置以及使用该光致抗蚀剂涂布液供给装置的光致抗蚀剂涂布液供给方法和光致抗蚀剂涂布......
519 抗蚀防冰涂层
520 抗蚀剂成分、形成抗蚀剂图案的方法、基板及其制造方法
521 印刷用抗蚀剂及使用该抗蚀剂的构图方法
522 用于制造抗蚀图案和导体图案的方法
523 使用了两层型防反射膜的光致抗蚀剂图形的形成方法
524 用于制造抗蚀图案和导体图案的方法
525 光致抗蚀剂组合物
526 光致抗蚀剂组合物
527 光致抗蚀剂组合物
528 一种光致抗蚀膜的退除剂
529 正型干膜光致抗蚀剂
530 正型干膜光致抗蚀剂和用于制备该光致抗蚀剂的组合物
531 干膜抗蚀剂
532 去除离子注入光敏抗蚀剂的方法
533 光蚀刻用清洗液及抗蚀图案的形成方法
534 作为含硅光致抗蚀剂的垫层的低折射指数聚合物
535 浸液曝光用抗蚀剂组合物和抗蚀图案形成方法
536 形成抗反射薄膜的组合物，层状产品，和抗蚀剂图案的形成方法
537 印刷抗蚀剂及其制备方法和利用该印刷抗蚀剂的图案化方法
538 适合于酸生成剂的盐和含有该盐的化学放大型正性抗蚀剂组合物
539 抗蚀剂用化合物及放射线敏感性组合物
540 抗蚀剂保护膜形成用材料及使用该材料的抗蚀剂图案形成方法
541 光致抗蚀剂用剥离液以及使用该剥离液的基板处理方法
542 抗蚀膜剥离剂组合物
543 光致抗蚀剂组合物用的溶解速率改性剂
544 用于抗蚀剂下层的包含芳香环的化合物，以及抗蚀剂下层组合物
545 去除抗蚀剂的方法及装置
546 用于制备光致抗蚀剂图案的方法
547 具有
548 光致抗蚀剂剥离剂组合物以及光致抗蚀剂剥离方法
549 光致抗蚀剂组合物
550 负性抗蚀剂组合物和形成图案的方法
551 正型感光性树脂组合物、抗蚀图形的制造方法以及电子部件
552 光致抗蚀剂及其使用方法
553 具有聚合性阴离子的含氟磺酸盐类及其制造方法、含氟树脂、抗蚀剂组合物以及使用其的图案形成方法
554 热反应型抗蚀剂材料、使用它的热光刻用层压体以及使用它们的模具的制造方法
555 抗蚀剂图案涂布剂和使用其的抗蚀剂图案形成方法
556 去除光致抗蚀剂的方法和装置
557 光致抗蚀剂组合物
558 光致抗蚀剂及其使用方法
559 颜料分散组合物和包括其的颜色抗蚀剂组合物以及使用其的滤色片
560 用于对多金属装置处理的含有葡糖酸的光致抗蚀剂清洗组合物
561 包含含氮化合物的光致抗蚀剂
562 抗蚀剂涂布方法和抗蚀剂涂布装置、以及使用该抗蚀剂涂布方法的光掩模底版和光掩模的制造方法
563 胆酸酯光酸发生剂和包含该发生剂的光致抗蚀剂
564 用于制造LCD的光致抗蚀剂剥离组合物
565 用于EB或EUV平版印刷的化学放大负性抗蚀剂组合物和图案化方法
566 化学放大正性抗蚀剂组合物和图案形成方法
567 一种光致抗蚀剂的剥离液组合物
568 光酸发生剂和包含该光酸发生剂的光致抗蚀剂
569 抗蚀剂图形形成方法
570 光致抗蚀剂剥离剂组合物、层积金属布线基板的光致抗蚀剂剥离方法和制造方法
571 图案形成方法和半导体装置的制造方法、以及抗蚀剂图案的被覆层的形成材料
572 光生酸剂、其制备方法以及含有该光生酸剂的抗蚀剂组合物
573 使用双重构图的光致抗蚀剂成像方法
574 感光性树脂组合物、以及使用了该组合物的感光性元件、抗蚀剂图案的形成方法和印刷线路板的制造方法
575 新聚合物和光致抗蚀剂组合物
576 光生酸剂、其制备方法以及含有该光生酸剂的抗蚀剂组合物
577 光生酸剂、其制备方法以及含有该光生酸剂的抗蚀剂组合物
578 用于除去光致抗蚀剂的组合物及利用其形成半导体图案的方法
579 防腐蚀性光致抗蚀剂剥离剂组合物
580 抗蚀剂剥离剂组合物以及使用该组合物的抗蚀剂剥离方法
581 感光性树脂组合物、使用了该组合物的感光性元件、抗蚀图案的形成方法及印刷配线板的制造方法
582 光酸产生剂及含有它的光致抗蚀剂
583 抗蚀剂组合物、抗蚀剂图案的形成方法、新型化合物以及产酸剂
584 光致抗蚀剂组合物以及形成光刻图案的方法
585 光致抗蚀剂组合物
586 抗蚀剂图案的形成方法以及设备
587 抗蚀剂图案的形成方法以及设备
588 自形成的顶抗反射涂料组合物以及利用该组合物的光致抗蚀剂混合物和成像方法
589 着色固化性组合物、彩色抗蚀剂、喷墨墨水、滤色器及其制备方法、固态摄像器件、图像显示装置、液晶显示器、......
590 一种具有抗蚀性能的氟塑料金属管道补偿器及制备方法
591 光致抗蚀剂膜的剥离液组合物
592 EUV光刻用抗蚀剂下层膜形成用组合物
593 抗蚀图案的形成方法及显影液
594 一种用于金属设备柜抗蚀的系统
595 抗蚀剂组合物和半导体器件制造方法
596 抗蚀剂剥离组合物和生产电气装置的方法
597 感光性组合物与光致抗蚀剂
598 环状化合物、其制造方法、辐射敏感组合物及抗蚀图案形成方法
599 放射线敏感性树脂组合物、抗蚀图案形成方法、聚合物和聚合性化合物
600 含有具有磺酰胺基的硅的形成抗蚀剂下层膜的组合物
601 一种印制电路板生产中制作抗蚀图形的方法
602 聚合物、化学增幅负抗蚀剂组合物和图案形成方法
603 聚合物
604 聚合物
605 高耐磨、高抗蚀络筒机凸轮组件的加工工艺
606 内酯类光致酸发生剂和树脂以及包含其的光致抗蚀剂
607 抗蚀剂组合物、抗蚀剂图案形成方法
608 光敏性树脂组合物、光敏性元件、抗蚀剂图案的形成方法及印刷电路板的制造方法
609 与外涂的光致抗蚀剂一起使用的涂料组合物
610 用于形成光交联固化的抗蚀剂下层膜的抗蚀剂下层膜形成组合物
611 光酸产生剂、其制备方法及包含光酸产生剂的抗蚀剂组合物
612 光酸产生剂、其制备方法及包含光酸产生剂的抗蚀剂组合物
613 环状化合物、其生产方法、放射线敏感性组合物和抗蚀图案的形成方法
614 正型抗蚀剂组合物、抗蚀图案形成方法
615 喷涂防腐蚀层抗蚀固碱锅
616 抗蚀电热管
617 抗蚀氮化锅
618 稀土灰口铸铁盒式抗蚀换热器
619 油管抗蚀氮化防腐处理装置
620 样品室含活动式可卸抗蚀构件的数显旋光仪
621 样品室带有易揭卸抗蚀构件的数显旋光仪
622 锅炉管道抗蚀耐磨涂层扎网结构
623 一种耐磨抗蚀铁锅
624 一种高抗蚀高耐磨抗冲击而且易清洗的防锈铁锅
625 应用多层光致抗蚀剂层结构的光刻工艺
626 抗蚀用复合板材和片材及其制造方法
627 光致抗蚀共聚物
628 光致抗蚀剂材料的管路气泡监测装置
629 可溶于光致抗蚀剂显影液的有机底部抗反射组合物及使用该组合物的光刻和蚀刻方法
630 正型光致抗蚀剂组合物及抗蚀图案的形成方法
631 抗蚀剂剥离装置
632 离子注入之后清除光抗蚀剂的方法
633 用形成水溶性树脂和抗蚀剂材料的混合层制备微电子结构的方法
634 一种化学增幅型正性抗蚀剂组合物
635 精细图案形成方法和抗蚀剂表层处理剂
636 用于除去抗蚀剂的洗净液及半导体器件的制造方法
637 水蒸汽作为处理气，用于离子植入后抗蚀剂剥离中硬壳、抗蚀剂和残渣的去除
638 易受液体侵蚀元件的处理方法和抗蚀涂层合金
639 化学增幅型正性抗蚀剂合成物
640 LCD制造用正型光致抗蚀剂组合物和抗蚀图的形成方法
641 烷基化氨基烷基哌嗪表面活性剂及其在光致抗蚀显影剂中的应用
642 抗蚀剂填入方法和半导体器件的制造方法
643 抗蚀剂剥离用组合物
644 新共聚物及光致抗蚀组合物
645 光敏抗蚀剂显影液用消泡分散剂
646 光致抗蚀剂显影剂组合物
647 提高化学增强光致抗蚀剂分辨率的方法
648 不含铬酸盐的水性环氧抗蚀底漆
649 形成抗蚀剂图案的工艺、半导体器件及其制造
650 光致抗蚀剂蚀刻中前边界点技术
651 抗蚀液涂敷方法和装置
652 抗蚀剂材料和微加工方法
653 包含具有2-氰基丙烯酸单体的聚合物的抗蚀剂组合物
654 抗蚀剂剥离剂组合物
655 抗蚀剂剥离剂组合物
656 化学放大抗蚀组合物
657 改进的光致抗蚀剂
658 制备具有改良抗蚀性的不锈钢的方法
659 厚膜型光致抗蚀剂及其使用方法
660 LCD制造用正型光致抗蚀剂组合物以及抗蚀图形的形成方法
661 抗蚀剂组合物
662 用于光致抗蚀剂的剥离组合物
663 光致抗蚀剂脱除剂
664 抗蚀剂剥离剂组合物
665 光敏性树脂组合物及用该组合物的光敏性干膜抗蚀剂、光敏性射线遮挡膜
666 厚抗蚀剂图案的形成方法
667 聚硅氧烷以及含有所述聚硅氧烷的光致抗蚀剂组合物的制备方法
668 光致抗蚀剂组合物
669 光致抗蚀剂组合物
670 抗蚀剂图案形成方法和抗蚀剂图案形成系统
671 正型光致抗蚀剂组合物以及抗蚀图案的形成方法
672 抗蚀剂剥离剂
673 正型光致抗蚀剂组合物与抗蚀剂图案的形成方法
674 正性光致抗蚀剂组合物及抗蚀图形的形成方法
675 制造薄膜半导体器件的方法及其形成抗蚀图的方法
676 具有良好的抗蚀性和色调的磷酸锌处理的镀锌钢板
677 抗蚀图、其制造方法及其应用
678 含芳香酸抑制剂的光致抗蚀剂剥离剂/清洁剂组合物
679 抗蚀膜的形成方法及光掩膜的制造方法
680 排出喷嘴式涂布法用正型光致抗蚀剂组合物以及抗蚀图的形成方法
681 光致抗蚀剂移除组合物
682 多层光致抗蚀剂系统
683 一种电子束化学增幅正性抗蚀剂及其制备方法和光刻工艺
684 形成无侧叶现象的光致抗蚀剂层的方法
685 多层光致抗蚀剂系统
686 光致抗蚀剂组合物及其制备方法
687 用于多个微型喷嘴涂布机的光致抗蚀剂组合物
688 正型抗蚀剂组合物以及抗蚀图案的形成方法
689 排出喷嘴式涂布法用正型光致抗蚀剂组合物以及抗蚀图案的形成方法
690 软模用抗蚀剂和使用其制造液晶显示器的方法
691 不含氟化物的离子注入光致抗蚀剂去除用超临界流体组合物
692 抗蚀剂图案的形成方法
693 正型抗蚀剂组合物及抗蚀图案的形成方法
694 抗蚀剂组合物
695 正性干膜光致抗蚀剂以及用于制备该光致抗蚀剂的组合物
696 正性光致抗蚀剂组合物
697 适合于酸生成剂的盐以及含有该盐的化学放大型正性抗蚀剂组合物
698 适合于酸生成剂的盐以及含有该盐的化学放大型正性抗蚀剂组合物
699 抗蚀图案形成工艺和半导体器件及其制造方法
700 适合于酸生成剂的盐以及含有该盐的化学放大型正性抗蚀剂组合物
701 三层抗蚀剂有机层蚀刻
702 制造抗蚀钢板的方法
703 抗蚀剂下层膜用组合物及其制造方法
704 显影液组合物及其制造方法、和抗蚀图形的形成方法
705 化学放大型抗蚀剂组合物
706 在等离子体处理系统中优化抗蚀能力的方法和装置
707 化学放大型抗蚀剂组合物
708 化学放大型抗蚀剂组合物
709 抗蚀剂图案的形成方法和通过该方法制造的半导体装置
710 用于微细加工的激光抗蚀剂转移
711 用于光致抗蚀剂应用的低活化能溶解改性剂
712 含防锈颜料的多官能性环氧树脂类涂料组合物、其涂膜、被其涂膜覆盖的基材以及抗蚀方法
713 用于机动车消音器的抗蚀性提高的钢板及该钢板的生产方法
714 感光性树脂组合物、使用其的感光性元件、抗蚀剂图案的形成方法及印刷电路板的制造方法
715 化学增强型抗蚀剂组合物的制备方法
716 从基材上除去光致抗蚀剂的非等离子体方法
717 抗蚀乙硅烷和饱和烃桥接的含硅聚合物及制备和使用方法
718 用于厚的光致抗蚀剂层的可显影底涂组合物
719 化学放大型正性抗蚀剂组合物
720 高抗蚀胶显影液及其制备方法
721 用于形成光交联固化的抗蚀剂下层膜的含有硅的抗蚀剂下层膜形成用组合物
722 化学放大型正性抗蚀剂组合物
723 光刻机抗蚀剂成像仿真三维交互显示方法
724 制备稳定的光致抗蚀剂组合物的方法
725 化学放大型正性抗蚀剂组合物
726 酞菁类颜料微粒及其制造方法、颜料分散光致抗蚀剂、着色转印材料、滤色器及液晶显示装置
727 铁路道岔滑床板表面耐磨抗蚀合金涂层激光熔覆工艺
728 液压支架立柱缸筒、活塞杆耐磨抗蚀涂层的激光熔覆工艺
729 光致抗蚀剂层的重工方法与图案化工艺
730 用于减少光致抗蚀剂释气效应的技术
731 缩短光致抗蚀剂涂布流程的方法
732 适合于酸生成剂的盐以及含有该盐的化学放大型正性抗蚀剂组合物
733 制造光致抗蚀剂图案的方法
734 感光性干膜抗蚀剂、使用了其的印刷配线板和印刷配线板的制造方法
735 喷砂用抗蚀材料
736 感光性树脂组合物、抗蚀图案的形成方法、印刷电路板的制造方法以及等离子显示屏用基板的制造方法
737 抗蚀剂基底处理液和使用它处理抗蚀剂基底的方法
738 化学放大的负性抗蚀剂组合物和图案形成方法
739 用于低于200nm的平版印刷的基于金刚烷的分子玻璃光致抗蚀剂
740 光致产酸剂、包括其的化学增幅抗蚀剂组合物及相关方法
741 用于光致抗蚀剂组合物的碱溶性聚合物
742 含无机填料和有机填料的可固化树脂组合物
743 一种用于印刷线路板的紫外线固化抗蚀刻油墨
744 感光性树脂组合物、以及使用其的感光性元件、抗蚀图案的形成方法及印刷电路板的制造方法
745 抗蚀剂组合物、抗蚀剂图案形成方法、新型化合物及其制法
746 感光性树脂组合物、使用其的感光性元件、抗蚀图案的形成方法及印刷电路板的制造方法
747 负性光致抗蚀剂组合物
748 电子纸显示器中的滤色片所用的光敏抗蚀剂组合物
749 得到具有优良抗蚀刻性的低k电介质阻挡层的方法
750 金属相容的光致抗蚀剂和/或牺牲性抗反射涂层去除组合物
751 感光性元件、抗蚀图案的形成方法及印刷电路板的制造方法
752 浸没式光刻用抗蚀剂保护膜材料
753 光致抗蚀剂剥离用组合物和剥离方法以及显示装置的制法
754 光敏化合物和包含该光敏化合物的光致抗蚀剂组合物
755 抗蚀图的形成方法、电路基板的制造方法和电路基板
756 干膜光致抗蚀剂及其制备方法
757 抗蚀剂膜剥离方法、掩膜基板的制造方法及转印掩膜的制造方法
758 无氟化物的光致抗蚀剂剥离剂或残余物移除清洁组合物及用其清洁微电子基板的方法
759 含氟化物的光致抗蚀剂剥离剂或残余物移除清洁组合物以及用其清洁微电子基板的方法
760 激光烧蚀抗蚀剂
761 具有对酸不稳定芳族基团的(甲基)丙烯酸酯化合物和光敏聚合物
762 芳族(甲基)丙烯酸酯化合物、光敏聚合物、以及抗蚀剂组合物
763 新型化合物及其制造方法、产酸剂、抗蚀剂组合物以及抗蚀剂图案形成方法
764 抗蚀剂组合物、抗蚀剂图案的形成方法、新型化合物以及产酸剂
765 含有具有羟基的缩合系树脂的形成抗蚀剂下层膜的组合物
766 微细化的抗蚀图案的形成方法
767 抗蚀剂剥离剂
768 抗渗抗蚀浇注料
769 光掩模坯料、抗蚀图案成形方法以及光掩模制备方法
770 抗蚀剂组合物
771 用于加工抗蚀剂下层膜的硬掩模组合物、使用该硬掩模组合物来生产半导体集成电路器件的方法、以及通过该方法......
772 正型抗蚀剂处理液组合物及显像液
773 单体、树脂、使用该树脂的抗蚀剂组合物及生产半导体器件的方法
774 含有液体添加剂的形成抗蚀剂下层膜的组合物
775 用于抗蚀剂下层膜的硬掩模组合物及使用该组合物生产半导体集成电路器件的方法
776 感光性树脂组合物、感光性元件、抗蚀图的形成方法及印刷电路板的制造方法
777 光致抗蚀剂上方的金属层的平坦化
778 多羟基化合物和含有其的化学放大型抗蚀剂组合物
779 正型抗蚀剂组合物、抗蚀剂图案形成方法及高分子化合物
780 半导体装置的制造方法和抗蚀剂涂敷、显影处理系统
781 使用通过光交联固化形成的抗蚀剂下层膜的半导体装置的制造方法
782 显影后抗蚀基板处理溶液及使用它的抗蚀基板处理方法
783 精细图案形成方法及用于此法的抗蚀基板处理溶液
784 蚀刻或电镀方法以及抗蚀油墨
785 光致抗蚀剂组合物和使用该组合物制造阵列基板的方法
786 具有改善的机械和抗蚀综合特性的镁基合金
787 光致抗蚀剂层的形成方法
788 含有含芳香族稠环的树脂的形成光刻用抗蚀剂下层膜的组合物
789 黑矩阵用颜料分散组合物以及含有该颜料分散组合物的黑矩阵用颜料分散抗蚀剂组合物
790 彩色抗蚀剂组合物和使用该组合物的滤色器
791 化学放大型抗蚀剂组合物以及浸液曝光用化学放大型抗蚀剂组合物
792 负性抗蚀剂组合物
793 感光性树脂组合物、感光性元件、抗蚀图案的形成方法及印刷电路板的制造方法
794 使用覆盖在抗蚀剂上的保护层的沉浸光刻技术和产品
795 含低分子溶解促进剂的形成抗蚀剂下层膜的组合物
796 图案化光致抗蚀剂层的形成方法
797 抗蚀剂下层膜形成用组合物及图案形成方法
798 聚合物和含有该聚合物的化学放大型抗蚀剂组合物
799 化学放大型正性抗蚀剂组合物
800 化学放大型正性抗蚀剂组合物
801 含有氧杂环丁烷的树脂、使用该树脂的粘接剂以及抗蚀剂
802 感光性树脂组合物、感光性元件、抗蚀图案的形成方法以及印刷电路板的制造方法
803 光致抗蚀剂去除机台以及光致抗蚀剂去除工艺
804 化学放大型正性抗蚀剂组合物
805 用于光致抗蚀剂的抗反射涂料组合物的溶剂混合物
806 用于化学放大型抗蚀剂组合物的酸生成剂
807 聚合物和含有该聚合物的化学放大型抗蚀剂组合物
808 光致抗蚀剂组合物
809 一种抗蚀图形改进材料以及使用该材料制备抗蚀图形的方法
810 化学放大型正性抗蚀剂组合物
811 形成电子束光刻用抗蚀剂下层膜的组合物
812 无定形碳膜的形成方法、无定形碳膜、多层抗蚀剂膜、半导体装置的制造方法和计算机可读取的存储介质
813 在厚负性高分辨率电子束抗蚀剂HSQ上制作密集图形的方法
814 一种防止新鲜高温氧化表面光致抗蚀剂翘曲的方法
815 可用于光致抗蚀剂组合物中的聚合物和其的组合物
816 肟类化合物及包含该化合物的抗蚀剂组合物
817 二酰亚胺类化合物及包含该化合物的化学增幅抗蚀剂组合物
818 形成抗蚀剂下层膜的组合物
819 化学增幅正性抗蚀剂组合物
820 化学增幅正性抗蚀剂组合物
821 光致抗蚀剂组合物的制造方法、过滤装置及涂布装置
822 有色分散体、光致抗蚀剂组合物和黑色矩阵
823 间苯二酚杯芳烃化合物、光致抗蚀剂基材及其组合物
824 用于在光致抗蚀剂图案上面涂覆的含内酰胺的组合物
825 化合物及其制造方法以及含有该化合物的抗蚀剂组合物
826 液浸曝光用抗蚀剂组合物及用其生产半导体器件的方法
827 等离子体处理方法及抗蚀剂图案的改性方法
828 抗蚀剂剥离剂组合物
829 金刚烷衍生物及光致抗蚀剂用感光材料
830 光致抗蚀用化合物、光致抗蚀液及使用其的蚀刻方法
831 光敏性树脂组合物、光敏性元件、抗蚀剂图案的形成方法及印刷电路板的制造方法
832 一种耐高温、抗蚀不锈钢、其制造方法及应用
833 感光性树脂组合物、感光性元件、抗蚀剂图形的形成方法以及印刷电路板的制造方法
834 光致抗蚀剂剥离剂组合物
835 导电性高分子上的抗蚀剂膜的剥离剂、抗蚀剂膜的剥离方法及具有已图案化的导电性高分子的基板
836 鎓盐化合物、聚合物化合物、化学放大型抗蚀剂组合物、以及形成图案的方法
837 树脂和包含该树脂的化学增幅抗蚀剂组合物
838 一种电泳沉积稀土膜提高铝合金抗蚀性能的方法
839 光产酸剂用化合物以及使用它的抗蚀剂组合物、图案形成方法
840 采用纳米过滤的抗蚀剂剥离液连续使用系统
841 抗蚀油墨及通过抗蚀油墨的抗蚀图案形成方法
842 具有封端异氰酸酯基且含有硅的形成抗蚀剂下层膜的组合物
843 光致抗蚀剂组合物及多层抗蚀剂体系的多次曝光方法
844 形成抗蚀剂下层膜的组合物和抗蚀剂图案的形成方法
845 用于形成光刻用下层膜的组合物和多层抗蚀图案的形成方法
846 除去抗蚀剂的方法和用于它的装置
847 化合物和化学放大型正性抗蚀剂组合物
848 盐以及含有该盐的光致抗蚀剂组合物
849 盐以及含有该盐的光致抗蚀剂组合物
850 盐以及含有该盐的光致抗蚀剂组合物
851 盐以及含有该盐的光致抗蚀剂组合物
852 滤色片用颜料分散物和含有该分散物的滤色片用颜料分散抗蚀剂组合物
853 用于在双重图案化光刻工艺中提供抗蚀剂对准标记的设备和方法
854 抗蚀剂组合物
855 适于与外涂的光致抗蚀剂一起使用的涂层组合物
856 使涂在抗反射涂层上的光致抗蚀剂成像的方法
857 含有硫原子的抗蚀剂下层膜形成用组合物以及抗蚀剂图案的形成方法
858 具有脲基且含有硅的形成抗蚀剂下层膜的组合物
859 抗蚀剂处理方法
860 干膜抗蚀剂的多层膜
861 高抗蚀石墨胶泥
862 光致抗蚀剂去除用组合物和用其制造阵列基板的方法
863 光致抗蚀剂组合物的制造方法、过滤装置及涂布装置
864 脂环族不饱和化合物、聚合物、化学增幅抗蚀剂组合物及采用所述组合物形成图案的方法
865 聚合物及包含该聚合物的抗蚀剂组合物
866 用于抗蚀剂的聚合物和使用其制造的抗蚀剂组合物
867 去除抗蚀剂的方法和装置
868 光致抗蚀剂组合物
869 用于改善光致抗蚀剂干膜与障壁界面效应的组合物及其制备和使用方法
870 聚合物及包含该聚合物的抗蚀剂组合物
871 抗蚀墨及使用该抗蚀墨形成图案的方法
872 去除光致抗蚀剂的方法及应用该方法的等离子体处理设备
873 光酸产生剂、共聚物、抗蚀剂组合物及使用所述抗蚀剂组合物形成图形的方法
874 抗蚀剂组合物
875 用于光致抗蚀剂的剥离剂组合物及剥离光致抗蚀剂的方法
876 抗蚀剂
877 化学增幅正性抗蚀剂组合物
878 抗蚀剂下层组合物及利用其制造半导体集成电路装置的方法
879 抗蚀剂下层组合物及利用其制造集成电路器件的方法
880 光刻用形成抗蚀剂下层膜的组合物和半导体装置的制造方法
881 用于光致抗蚀剂的剥离剂组合物及使用所述剥离剂组合物剥离光致抗蚀剂的方法
882 用于从基片上除去光致抗蚀剂和/或蚀刻残留物的组合物及其应用
883 化学放大型光致抗蚀剂组合物和形成图案的方法
884 含有具有带氮的甲硅烷基的聚合物的、抗蚀剂下层膜形成用组合物
885 形成抗蚀剂下层膜的组合物、使用该组合物的半导体装置的制造方法以及形成抗蚀剂下层膜的组合物用添加剂
886 用于确定光学阈值和抗蚀剂偏置的方法和装置
887 厚膜抗蚀剂
888 光致抗蚀剂组合物
889 用于光致抗蚀剂组合物的聚合物
890 形成抗蚀剂下层膜的组合物和采用该形成抗蚀剂下层膜的组合物形成抗蚀剂图案的方法
891 抗蚀剂用聚合物、抗蚀剂组合物及图案制造方法以及抗蚀剂用聚合物用原料化合物
892 抗蚀剂溶液以及使用该抗蚀剂溶液形成图案的方法
893 抗蚀剂组合物、形成抗蚀剂图案的方法、半导体器件及其制造方法
894 制造抗蚀图案的方法
895 抗蚀剂图案的形成方法
896 正型感光性树脂组合物、抗蚀图形的制法、半导体装置及电子设备
897 正型感光性组合物、正型永久抗蚀膜及正型永久抗蚀膜的制造方法
898 对不同种金属接触腐蚀的抗蚀性优异的表面处理金属材及不同种材料接合体
899 用于形成抗蚀剂图案的方法和用于制造半导体器件的方法
900 减轻双曝光工艺中的抗蚀剂图案关键尺寸变化的方法
901 光致抗蚀剂组合物以及用多层光致抗蚀剂体系进行多重曝光的方法
902 一种紫外纳米压印抗蚀剂及其组成
903 盐以及含有该盐的光致抗蚀剂组合物
904 盐及包含该盐的光致抗蚀剂组合物
905 纳米压印抗蚀剂及采用该纳米压印抗蚀剂的纳米压印方法
906 纳米压印抗蚀剂及采用该纳米压印抗蚀剂的纳米压印方法
907 化学放大型正性光致抗蚀剂组合物及图案的形成方法
908 一种高温抗蚀导电复合材料
909 在光致抗蚀剂积层体中产生图像的方法
910 树脂和抗蚀剂组合物
911 光致酸产生剂和其光致抗蚀剂
912 化学放大型光致抗蚀剂组合物及抗蚀图案的制造方法
913 去除抗蚀剂的方法和生产磁记录介质的方法
914 新型树脂及包含其的光致抗蚀剂组合物
915 黑抗蚀剂用感光性树脂组合物及滤色器遮光膜
916 具有环状氨基的含有硅的形成抗蚀剂下层膜的组合物
917 形成抗蚀剂下层膜的组合物和使用该组合物的抗蚀剂图形的形成方法
918 新型树脂以及包括该新型树脂的光致抗蚀剂组合物
919 使用负型感光性树脂层压体的抗蚀剂固化物的制造方法、负型感光性树脂层压体、以及负型感光性树脂层压体的使......
920 盐及包含该盐的光致抗蚀剂组合物
921 盐及包含该盐的光致抗蚀剂组合物
922 盐以及含有该盐的光致抗蚀剂组合物
923 包含吸电子取代基和内酯骨架的单体、高分子化合物及光致抗蚀剂组合物
924 用于加工具有光致抗蚀剂层的工件的方法
925 杯芳烃混合分子玻璃光致抗蚀剂及使用方法
926 化学增幅型抗蚀剂组合物及其所使用的盐
927 新型具有含氟碳负离子结构的盐及其衍生物、光产酸剂以及使用其的抗蚀材料和图案形成方法
928 感光性树脂组合物、感光性元件、抗蚀剂图案的形成方法及印刷配线板的制造方法
929 抗蚀用喷墨油墨组合物
930 感光性树脂组合物、感光性树脂层压体、抗蚀图案形成方法、以及印刷线路板、引线框、半导体封装体和凹凸基板......
931 感光性树脂组合物、感光性组件、抗蚀图的形成方法及印刷电路板的制造方法
932 生产SiO2</sub>抗蚀层的组合物和其使用方法
933 使用双重图案化的光致抗蚀剂图像成形方法
934 感光性树脂组合物、感光性元件、抗蚀图形的形成方法及印刷电路板的制造方法
935 包括图案硬化步骤的用于缩小光致抗蚀剂图案之间的尺寸的工艺
936 光致抗蚀剂剥离组合物及使用所述组合物剥离光致抗蚀剂的方法
937 化学放大型抗蚀剂组合物和图案形成方法
938 化合物和含有该化合物的光致抗蚀剂组合物
939 水轮机组转轮耐磨抗蚀涂层的激光熔覆工艺
940 水轮机组顶盖耐磨抗蚀涂层的激光熔覆工艺
941 水轮机组底环耐磨抗蚀涂层的激光熔覆工艺
942 光致抗蚀剂组合物
943 化合物
944 树脂，抗蚀剂组合物和用于制造抗蚀剂图案的方法
945 感光性树脂组合物、感光性元件、抗蚀图形的形成方法及印刷电路板的制造方法
946 用高蚀刻速率抗蚀剂掩膜进行蚀刻
947 感光性树脂组合物
948 激光曝光方法、光致抗蚀剂层加工方法和用于制造图案成形品的方法
949 抗蚀油墨及多层印刷配线板的制造方法
950 光致抗蚀剂组合物
951 光致抗蚀剂组合物
952 采用光敏纳米二氧化硅对光致抗蚀材料进行改性制备的方法
953 抗蚀剂涂布显影装置和抗蚀剂涂布显影方法
954 被曝光基板用防水剂组合物、抗蚀图形的形成方法及利用该形成方法制造的电子器件、被曝光基板的防水处理方法......
955 适合与外涂光致抗蚀剂涂层结合使用的涂层组合物
956 丙烯酸单体、聚合物和化学增幅型光致抗蚀剂组合物
957 集成电路装置的制造方法及光致抗蚀剂去除组成物
958 液浸曝光用放射线敏感性树脂组合物、聚合物及抗蚀剂图案形成方法
959 感光性树脂组合物、感光性元件、抗蚀剂图形的制造方法以及印刷电路板的制造方法
960 高导高抗蚀超微孔炭块
961 用于制备光致抗蚀剂图案的方法
962 光致抗蚀剂组合物
963 光致抗蚀剂组合物
964 移除光致抗蚀剂的方法
965 二噻烷衍生物、聚合物、抗蚀剂组合物以及使用该抗蚀剂组合物的半导体的制造方法
966 光致抗蚀剂组合物
967 包含内酯骨架的单体、高分子化合物及光致抗蚀剂组合物
968 用于在光致抗蚀剂图案上面涂覆的含水组合物
969 感光性树脂组合物及使用其的感光性元件、抗蚀剂图形的形成方法及印刷电路板的制造方法
970 抗蚀剂处理方法
971 抗蚀剂墨液用粘结剂树脂和使用其的抗蚀剂墨液
972 用于抗蚀剂的保护层的聚合物以及包括其的聚合物组合物
973 抗蚀图不溶化树脂组合物及使用其的抗蚀图形成方法
974 光致抗蚀剂组合物
975 分子抗蚀剂组合物、使用该成分形成衬底图案的方法以及由其制备的产品
976 正型抗蚀剂组合物以及微透镜的制造方法
977 抗蚀剂处理方法
978 正型放射线敏感性组合物和抗蚀图案形成方法
979 抗蚀剂剥离剂组合物
980 抗蚀剂图案形成方法
981 无定形碳氮膜的形成方法、无定形碳氮膜、多层抗蚀剂膜、半导体装置的制造方法以及存储有控制程序的存储介质
982 正型感光性组合物及永久抗蚀剂
983 修整光致抗蚀剂图案的方法
984 感光性树脂组合物、感光性树脂层压体、抗蚀图案形成方法以及导体图案、印刷电路板、引线框、基材和半导体封......
985 盐以及含有该盐的光致抗蚀剂组合物
986 放射线敏感性树脂组合物及抗蚀剂图案形成方法
987 基板处理液和使用该处理液的抗蚀基板处理方法
988 一种电沉积型光致抗蚀剂及其制备方法和成膜方法
989 含2
990 具有酚取代基的化合物、制备该化合物的方法、以及包含该化合物的抗蚀剂组合物
991 光致抗蚀剂组合物
992 一种光致抗蚀剂的剥离液组合物
993 用于改善电子部件特别是印刷电路板的印制导线的抗蚀性的方法
994 盐以及含有该盐的光致抗蚀剂组合物
995 盐和含有该盐的光致抗蚀剂组合物
996 用于EB或EUV平版印刷的化学放大正性抗蚀剂组合物和图案化方法
997 化学放大负性抗蚀剂组合物和图案形成方法
998 正型感光性树脂组合物、抗蚀图形的制造方法、半导体装置以及电子器件
999 含有具有阴离子基的硅的抗蚀剂下层膜形成用组合物
1000 光酸产生剂及含有该光酸产生剂的光致抗蚀剂