资料价格：198元

1 抛光组合物
2 磁盘基材的抛光组合物和使用该组合物的抛光方法
3 抛光组合物及使用它的抛光方法
4 抛光组合物
5 金属和金属/电介质结构的化学机械抛光用组合物
6 抛光剂组合物
7 金属CMP用的抛光组合物
8 抛光液组合物
9 用于CMP的含硅烷的抛光组合物
10 包含纤维和含金属共聚物的自抛光型海洋防污漆组合物
11 抛光组合物
12 石材研磨或抛光用组合物及其制造方法
13 抛光方法和组合物
14 打磨抛光的砂轮组合物
15 抛光和刨平表面用的组合物和方法
16 活性抛光组合物
17 改良的抛光组合物和抛光方法
18 用于抛光半导体基材上的金属层的磨料组合物及其用途
19 含有酸-胺胶乳的水基抛光剂组合物
20 抛光组合物
21 抛光剂组合物
22 边抛光组合物
23 抛光组合物
24 抛光组合物
25 含有一种由硅酸抛光剂和氧化铝组成的抛光剂组合物的牙齿清洁剂
26 用于机械化学抛光低介电常数聚合物类绝缘材料层的组合物
27 包括钨侵蚀抑制剂的抛光组合物
28 抛光和刨平表面用的组合物和方法
29 抛光组合物
30 化学机械抛光中用于减少有图案金属凹陷的组合物和方法
31 抛光组合物和表面处理组合物
32 抛光组合物
33 抛光组合物
34 制造存储器硬盘用的抛光组合物和抛光方法
35 制造存储器硬盘用的抛光组合物和抛光方法
36 用于化学机械抛光的组合物
37 用于抛光磁记录盘基体的磨料组合物
38 抛光研磨用的研磨油组合物
39 制造存储器硬盘用的抛光组合物和抛光方法
40 抛光组合物
41 制造存储器硬盘用的抛光组合物和抛光方法
42 抛光组合物和抛光方法
43 抛光组合物及使用它的抛光方法
44 抛光剂组合物
45 抛光剂组合物
46 抛光剂组合物
47 在二氧化硅化学机械抛光过程中减少/消除划痕和缺陷的组合物和方法
48 用于钛的电解抛光的电解液组合物及其使用方法
49 抛光存储器硬盘用基片的抛光组合物及抛光方法
50 抛光组合物及用该抛光组合物抛光后的磁记录盘基片
51 磁盘基板抛光用组合物及其生产方法
52 抛光组合物及使用它的抛光方法
53 含硅烷改性研磨颗粒的化学机械抛光(CMP)组合物
54 含有含硅共聚物和纤维的自抛光性海洋防污漆组合物
55 含水涂料组合物和地板抛光组合物
56 用于存储器硬盘磁头表面抛光的抛光组合物及其抛光方法
57 用于化学机械抛光研磨液组合物的氧化剂
58 抛光组合物
59 用于含有金属离子氧化剂的化学机械抛光组合物中的二羟基烯醇化合物
60 抛光组合物
61 一种用于化学机械抛光的淤浆组合物及其前体组合物
62 用于抛光高阶梯高度氧化层的自动停止研磨剂组合物
63 抛光组合物
64 铜纯化的化学机械抛光后清洗组合物及使用方法
65 抛光组合物和抛光方法
66 金属抛光组合物和使用它的化学机械抛光方法
67 抛光组合物
68 抛光组合物
69 抛光组合物
70 抛光组合物
71 抛光组合物
72 用于半导体晶片的抛光组合物
73 用于抛光半导体层的组合物
74 抛光组合物
75 高速阻挡层抛光组合物
76 抛光组合物
77 抛光组合物和抛光方法
78 抛光组合物
79 用于化学机械抛光氧化硅和氮化硅的组合物和方法
80 抛光组合物和抛光方法
81 抛光组合物和用于形成配线结构的方法
82 用于铜的受控抛光的组合物和方法
83 用于铜的低下压力抛光的组合物和方法
84 用于抛光铜的组合物和方法
85 抛光组合物和抛光方法
86 核/壳型纳米粒子研磨剂抛光液组合物及其制备方法
87 化学机械抛光氧化硅和氮化硅的组合物与方法
88 抛光组合物和抛光方法
89 金属抛光组合物
90 含导电聚合物的抛光组合物
91 木质地板、家具护理用的抛光剂组合物
92 抛光用组合物及抛光方法
93 抛光用组合物及抛光方法
94 抛光组合物及抛光方法
95 地板用水合树脂分散体以及使用这种水合树脂分散体的地板抛光组合物
96 一种纳米氮化硅抛光组合物及其制备方法
97 抛光组合物和抛光方法
98 用于控制半导体晶片中金属互连去除速率的抛光组合物
99 用于抛光金属的组合物、金属层的抛光方法以及生产晶片的方法
100 抛光组合物和清洗组合物
101 用于硅晶片二次抛光的淤浆组合物
102 化学机械抛光组合物及有关的方法
103 化学机械抛光组合物及有关的方法
104 抛光和/或清洁铜互连和/或薄膜的方法及所用的组合物
105 抛光和/或清洁铜互连和/或薄膜的方法及所用组合物
106 化学机械抛光二氧化硅和氮化硅的组合物和方法
107 用于铜膜平面化的钝化化学机械抛光组合物
108 浆料组合物、制备浆料组合物的方法以及使用浆料组合物抛光物体的方法
109 抛光组合物以及使用该抛光组合物的抛光方法
110 抛光组合物和使用该抛光组合物的抛光方法
111 混合研磨剂抛光组合物及其使用方法
112 包括磺酸的CMP组合物和用于抛光贵金属的方法
113 抛光组合物和使用该组合物生产布线结构的方法
114 抛光组合物以及使用该抛光组合物的抛光方法
115 抛光组合物
116 不含磨料的化学机械抛光组合物及相关方法
117 抛光用组合物及使用该组合物的抛光方法
118 能够补偿纳米形貌效应的化学机械抛光用浆液组合物、以及利用其的半导体元件的表面平坦化方法
119 用于铜和相关材料的改进的化学机械抛光组合物及其使用方法
120 抛光组合物和抛光方法
121 用于选择性抛光氮化硅层的组合物以及使用该组合物的抛光方法
122 用来减少对半导体晶片侵蚀的抛光组合物
123 抛光用组合物及其抛光方法
124 抛光用组合物及抛光方法
125 化学机械抛光层间介电层的组合物和方法
126 用来化学机械抛光薄膜和介电材料的组合物和方法
127 用于抛光导电材料的抛光组合物和方法
128 抛光用组合物及使用该组合物的抛光方法
129 抛光组合物及抛光制品
130 抛光组合物 1331O^^Ol87^78
131 化学-机械抛光组合物及其使用方法
132 用于高效清洁/抛光半导体晶片的组合物和方法
133 具有增强的抛光均匀性的二氧化铈浆液组合物
134 抛光用组合物及抛光方法
135 抛光组合物和抛光方法
136 抛光组合物和抛光方法
137 用于抛光衬底的方法和组合物
138 抛光组合物及抛光方法
139 一种用于抛光砖成膜的纳米黏土改性硅化合物组合物及制备方法
140 化学机械抛光组合物及使用其的方法
141 用于半导体浅沟隔离加工的化学机械抛光浆料组合物
142 抛光用组合物及抛光方法
143 抛光组合物和抛光方法
144 电化学-机械抛光组合物及使用其的方法
145 包括钨侵蚀抑制剂的抛光组合物
146 用来抛光半导体层的组合物
147 用于贵金属的抛光组合物
148 用来化学机械抛光层间介电层的组合物和方法
149 一种低光泽抛光剂组合物及其制备方法
150 用于抛光贵金属的具有聚合物添加剂的化学机械抛光组合物
151 包含表面活性剂的化学机械抛光(CMP)组合物
152 用于对二氧化硅和氮化硅进行化学机械抛光的组合物
153 用于高的氮化硅对氧化硅去除速率比率的抛光组合物及方法
154 用于铜膜平面化的钝化化学机械抛光组合物
155 具有改进的终点检测能力、用来对二氧化硅和氮化硅进行化学机械抛光的组合物
156 一种高去除低划伤的硅片化学机械抛光组合物及制备方法
157 含有多晶硅抛光平整剂的化学机械抛光组合物
158 ULSI多层铜布线铜的低下压力化学机械抛光的组合物
159 抛光用组合物以及使用该抛光用组合物的抛光方法
160 抛光组合物及利用该组合物的抛光方法
161 抛光组合物及利用该组合物的抛光方法
162 使用适合提高氧化硅的去除的抛光组合物对基片进行化学机械抛光的方法
163 包含表面活性剂的化学机械抛光组合物
164 一种用于硬盘盘基片超精密表面制造的抛光组合物
165 一种用于蓝宝石晶片的抛光组合物
166 用于镍-磷存储磁盘的抛光组合物
167 稳定的化学机械抛光组合物以及抛光基板的方法
168 用于晶片粗抛光的研磨组合物
169 硅通孔晶片的抛光方法和用于该方法的抛光组合物
170 一种可提高硅晶片抛光精度的抛光组合物及其制备方法
171 含抛光活性元素的多孔纳米复合磨粒、抛光液组合物及其制备方法
172 用于生产抛光轮的聚氨酯弹性体组合物
173 一种高效无锡自抛光防污涂料组合物及其应用
174 一种硅晶片抛光组合物及其制备方法
175 一种用于硅晶片抛光的抛光组合物及其制备方法
176 蓝宝石抛光组合物
177 高稀释比和高稳定性的硅片化学机械抛光组合物
178 碱性存储器硬盘抛光组合物
179 CMP浆料组合物及抛光方法
180 一种去除半导体硅片表面缺陷的抛光组合物及其制备方法
181 一种提高蓝宝石表面质量的抛光组合物
182 钛酸钡化学机械抛光水性组合物及其应用
183 化学机械抛光水性组合物及钛基片化学机械抛光工艺方法
184 用于镍-磷存储盘的抛光组合物
185 抛光工具及制造所述工具的组合物
186 抛光组合物中有机硅表面活性剂的使用
187 共聚物水乳液和多价金属化合物之间的反应产物以及含有该产物的抛光组合物
188 抛光组合物
189 化学机械抛光组合物及其相关方法
190 抛光组合物的用途和抛光存储器硬盘的方法
191 抛光液组合物
192 抛光组合物
193 添加剂组合物、含有该添加剂组合物的淤浆组合物及使用该淤浆组合物抛光物体的方法
194 抛光组合物
195 用于金属布线的化学机械抛光的浆液组合物
196 抛光组合物
197 抛光组合物
198 抛光用组合物以及抛光方法
199 用于电-化学-机械抛光的方法和组合物
200 抛光用组合物以及抛光方法
201 抛光用组合物和抛光方法
202 基于铈土的玻璃抛光组合物及其制备方法
203 用于对多晶硅膜进行抛光的化学机械抛光浆料组合物及其制备方法
204 用于钽的化学机械抛光的组合物及方法
205 增加含过氧化氢的化学机械抛光浆料使用寿命的组合物及方法
206 用于计算机硬盘基片抛光后表面的钝化液组合物
207 用于化学机械抛光的浆料组合物及抛光方法
208 用于化学机械抛光的浆料组合物及抛光方法
209 清洁和/或抛光组合物及其使用方法
210 用于对金属膜进行平坦化的高通量化学机械抛光组合物
211 用于相变合金的化学机械抛光的组合物及方法
212 用于氧化铟锡表面的化学机械抛光的组合物及方法
213 用于步骤Ⅱ的铜衬里和其他相关材料的化学机械抛光组合物及其使用方法
214 用于抛光氮化硅的组合物及方法
215 含碘酸盐的化学机械抛光组合物及方法
216 含聚醚胺的抛光组合物
217 氧化稳定的化学机械抛光组合物及方法
218 用于半导体材料的化学机械抛光的组合物及方法
219 一种用于硅晶片抛光的抛光组合物
220 液体抛光组合物和套件
221 一种用于硬盘盘基片的抛光组合物
222 一种用于砷化镓晶片的抛光组合物及其制备方法
223 用于抛光氮化硅材料的组合物及方法
224 金化学机械抛光组合物及方法
225 用于介电膜的提高速率的化学机械抛光组合物
226 用于抛光氧化铝及氧氮化铝基材的组合物、方法及系统
227 用于半导体材料的化学机械抛光的组合物及方法
228 抛光蓝宝石表面的组合物和方法
229 整合的化学机械抛光组合物及单台板处理方法
230 含有鎓的化学机械抛光组合物及使用该组合物的方法
231 低污染抛光组合物
232 玻璃抛光组合物及方法
233 浆料组合物和用于抛光有机聚合物基的眼用基体的方法
234 用于低介电常数的介电材料的化学机械抛光的组合物及方法
235 含沸石的用于铜的化学机械抛光组合物
236 用于抛光镶嵌结构中的铝/铜及钛的组合物
237 化学机械抛光浆料组合物、及其制备方法和应用方法
238 湿敏表面的化学机械抛光和为此的组合物
239 用于抛光由二氧化硅制成的表面的组合物
240 包含表面活性剂的能稀释的化学机械抛光组合物
241 抛光用组合物及抛光方法
242 化学机械抛光组合物及其相关方法
243 不锈钢表面抛光的化学机械抛光组合物
244 含有可溶性金属过氧酸盐络合物的化学机械抛光组合物及其使用方法
245 化学机械抛光用含水浆液组合物及化学机械抛光方法
246 铜钝化化学机械抛光组合物和方法
247 一种不含氟的抛光剂组合物
248 一种用于抛光后计算机硬盘基片的酸洗液组合物
249 化学机械抛光组合物及其相关方法
250 用于相变材料的化学-机械抛光的组合物及方法
251 化学机械抛光组合物及其相关方法
252 制造铜互连的阻挡层抛光的CMP浆料组合物、使用其的抛光方法及通过其制造的半导体器件
253 用于化学机械抛光后清洗的组合物
254 包含离子型聚电解质的铜化学机械抛光组合物及方法
255 利用经氨基硅烷处理的研磨剂颗粒的抛光组合物和方法
256 使用经氨基硅烷处理的研磨剂颗粒的抛光组合物和方法
257 基本上不含有机溶剂的家具抛光剂组合物
258 用于金属的化学机械抛光的浆料组合物以及使用其的抛光方法
259 包含N-取代的咪唑的抛光组合物和将铜膜抛光的方法
260 用于抛光并用于涂布表面防护材料的软性可塑组合物
261 一种提高硅衬底化学机械抛光速率的抛光组合物及其应用
262 用于抛光覆盖有镍-磷的铝硬磁盘的组合物及方法
263 用于抛光镶嵌结构中的铝/铜和钛的组合物
264 计算机硬盘基片抛光后用的清洗剂组合物
265 无磨料的化学机械抛光组合物
266 具有高的氮化硅对氧化硅移除速率比的抛光组合物及方法
267 化学机械抛光组合物及其相关方法
268 用于精细玻璃基板镀膜前处理的抛光组合物
269 抛光垫片组合物与制造和使用方法
270 一种用于硅晶片精抛光的抛光组合物
271 一种高稳定性的硅晶片化学机械抛光组合物
272 氧化铝颗粒以及包含该氧化铝颗粒的抛光组合物
273 抛光组合物及利用该抛光组合物的抛光方法
274 一种原位组合磨粒铜抛光组合物
275 一种低光泽抛光剂组合物
276 用于抛光含硅基材的方法和组合物
277 化学-机械抛光组合物及其制造和使用的方法
278 用于化学机械抛光的磨料组合物及其使用方法
279 基于酶的自抛光涂料组合物
280 一种铜化学机械抛光组合物
281 一种抛光组合物
282 一种抛光组合物
283 一种抛光组合物
284 水性树脂乳液及地板抛光组合物
285 化学机械抛光组合物以及用于抑制多晶硅移除速率的方法
286 稳定的、可浓缩的化学机械抛光组合物和抛光基材的方法
287 具有可调介电抛光选择性的浆料组合物及抛光基材的方法
288 化学机械抛光浆料组合物及使用其制造半导体器件的方法
289 酸性化学机械抛光组合物
290 缓蚀剂、其制备方法及化学机械抛光组合物
291 包含无机粒子与聚合物粒子的化学机械抛光(CMP)组合物
292 用于抛光氮化硅的组合物及方法
293 化学机械抛光淤浆组合物以及使用它们的抛光方法
294 稳定的、可浓缩并且无水溶性纤维素的化学机械抛光组合物
295 稳定的、可浓缩的化学机械抛光组合物及其涉及的方法
296 用于抛光大体积硅的组合物及方法
297 用来抛光相变合金的化学机械抛光组合物和方法
298 用来对锗-锑-碲合金进行抛光的化学机械抛光组合物和方法